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1. (WO2019050365) 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/050365 국제출원번호: PCT/KR2018/010562
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 10.09.2018
IPC:
B24D 3/32 (2006.01) ,B24D 18/00 (2006.01) ,C08L 75/04 (2006.01) ,C08J 9/04 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01)
B SECTION B — 처리조작; 운수
24
연삭(GRINDING); 연마(POLISHING)
D
그라인딩(grinding), 버핑(buffing) 또는 날연삭 (sharpening)용 공구
3
연마체 또는 연마 시트(SHEET)의 물리적 특징, 예. 특별한 성질의 연마 표면; 구성 성분에 의하여 특징지어진 연마체 또는 연마시트(SHEET)
02
결합제로 사용되는 구성물
20
본질적으로 유기질을 사용하는 것
28
Resins(수지)를 사용한 것
32
다공성 또는 세포 구조
B SECTION B — 처리조작; 운수
24
연삭(GRINDING); 연마(POLISHING)
D
그라인딩(grinding), 버핑(buffing) 또는 날연삭 (sharpening)용 공구
18
달리 분류되지 않는 연삭 공구의 제조
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
75
폴리우레아 또는 폴리우레탄의 조성물 ; 그러한 고분자 유도체의 조성물
04
.폴리우레탄
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
J
마무리; 일반적 혼합 방법; 서브클래스 C08B, C08C, C08F, C08G 또는 C08H에 포함 되지 않는 후 처리(가공, 예.플라스틱의 성형 B29)
9
다공성 또는 기공 물품 또는 물질을 만들기 위한 고분자 물질의 처리; 그 후처리
04
미리 첨가된 발포제에 의해 발생된 발포 가스를 이용
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
J
마무리; 일반적 혼합 방법; 서브클래스 C08B, C08C, C08F, C08G 또는 C08H에 포함 되지 않는 후 처리(가공, 예.플라스틱의 성형 B29)
9
다공성 또는 기공 물품 또는 물질을 만들기 위한 고분자 물질의 처리; 그 후처리
출원인:
에스케이씨 주식회사 SKC CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 수원시 장안구 장안로 309번길 84 84, Jangan-ro 309beon-gil, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16336, KR
발명자:
서장원 SEO, Jang Won; KR
한혁희 HAN, Hyuk Hee; KR
허혜영 HEO, Hye Young; KR
류준성 RYOU, Joonsung; KR
권영필 KWON, Young Pil; KR
대리인:
제일특허법인(유) FIRSTLAW P.C.; 서울시 서초구 마방로 60 60 Mabang-Ro, Seocho-Ku, Seoul 06775, KR
우선권 정보:
10-2017-011606911.09.2017KR
10-2017-011610811.09.2017KR
발명의 명칭: (EN) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURÉTHANE POREUX ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
요약서:
(EN) An embodiment relates to a porous polyurethane polishing pad used in a chemical mechanical planarization process of a semiconductor, and a method for manufacturing the same, wherein polishing performance of the porous polyurethane polishing pad can be controlled by controlling the size and distribution of pores by using thermally expanded microcapsules as a solid phase forming agent, and an inert gas as a gas phase foaming agent.
(FR) Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage en polyuréthane poreux utilisé dans un procédé de planarisation mécano-chimique d'un semi-conducteur, et son procédé de fabrication, la performance de polissage du tampon de polissage en polyuréthane poreux pouvant être contrôlée en contrôlant la taille et de la distribution des pores grâce à l'utilisation de microcapsules thermiquement expansées en tant qu'agent de formation de phase solide, et d'un gaz inerte en tant qu'agent moussant en phase gazeuse.
(KO) 구현예는 반도체의 화학적 기계적 평탄화 공정에 사용되는 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 상기 다공성 폴리우레탄 연마패드는 고상 발포제인 열팽창된 마이크로 캡슐 및 기상 발포제인 불활성 기체를 사용하여 포어의 크기 및 분포를 조절함으로써, 연마성능을 조절할 수 있다.
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유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)