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1. (WO2019049940) PATTERN DRAWING DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/049940 국제출원번호: PCT/JP2018/033073
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 06.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,B41J 2/47 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
B SECTION B — 처리조작; 운수
41
스탬프; 타이프라이터; 복사기; 인쇄
J
타이프 라이터; 선택적 프린팅 기구, 즉 조판 이외의 수단으로 프린팅하는 기구; 오타의 수정
2
인쇄 또는 마킹(marking) 방법을 실시하는데 특징이 있는 타이프 라이터 또는 선택적 인쇄 기구
435
인쇄 재료 또는 인쇄 전사 재료에 방사선을 선택적으로 적용시킴에 특징이 있는 것
47
광 주사와 광 변조의 조합을 이용한 것
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
26
가동 또는 변형 가능한 광학요소를 이용하여 광의 강도, 색, 위상, 편광 방향의 제어, 예. 스위칭, 게이팅, 변조하는 광학장치 또는 광학적 배치
08
광의 방향을 제어하기 위한 것
10
주사계
12
다면경을 사용하는 것
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
K
인쇄회로; 전기장치의 상체 또는 구조적 세부, 전기부품의 조립체의 제조
3
인쇄회로를 제조하기 위한 장치 또는 방법
출원인:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
발명자:
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
加藤正紀 KATO Masaki; JP
대리인:
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
우선권 정보:
2017-17260108.09.2017JP
발명의 명칭: (EN) PATTERN DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
(JA) パターン描画装置
요약서:
(EN) While modulating the intensity of a drawing beam (LBn) to be projected as spot light (SP') to a substrate (P) on the basis of drawing data of a pattern defined by multiple pixels (PIC), this pattern drawing device (EX) relatively scans the projection position of the spot light (SP') along two-dimensional arrangement of the pixels (PIC) on the substrate (P). The pattern drawing device (EX) is provided with: a light source unit (LS) which, on the basis of the drawing data, emits a predetermined number of pulsed light beams to be oscillated as drawing beams with a predetermined period (Tf) to respective exposure pixels that are irradiated with the spot light (SP') during the relative scanning, and suspends the emission of the predetermined number of pulsed light beams to respective non-exposure pixels that are not irradiated with the spot light (SP') during the relative scanning; and a drawing control unit (200) which controls the light source unit (LS) such that the number of pulsed light beams to be emitted to edge part exposure pixels (PIC') corresponding to an edge part of the pattern among the exposure pixels increases or decreases relatively to the predetermined number.
(FR) Tout en modulant l’intensité d’un faisceau de dessin (LBn) devant être projeté en tant que lumière ponctuelle (SP’) sur un substrat (P) sur la base de données de dessin d’un motif défini par des pixels multiples (PIC), le dispositif de dessin de motif (EX) selon la présente invention balaye relativement la position de projection de la lumière ponctuelle (SP’) le long d’un agencement bidimensionnel des pixels (PIC) sur le substrat (P). Le dispositif de dessin de motif (EX) est pourvu de : une unité de source de lumière (LS) qui, sur la base des données de dessin, émet un nombre prédéterminé de faisceaux lumineux pulsés amenant à osciller en tant que faisceaux de dessin avec une période prédéterminée (Tf) vers des pixels d’exposition respectifs qui sont irradiés avec la lumière ponctuelle (SP’) pendant le balayage relatif, et suspend l’émission du nombre prédéterminé de faisceaux lumineux pulsés vers des pixels non exposés respectifs qui ne sont pas irradiés avec la lumière ponctuelle (SP’) pendant le balayage relatif ; et une unité de commande de dessin (200) qui commande l’unité de source de lumière (LS) de sorte que le nombre de faisceaux de lumière pulsés devant être émis vers des pixels d’exposition de partie de bord (PIC’) correspondant à une partie de bord du motif parmi les pixels d’exposition augmente ou diminue par rapport au nombre prédéterminé.
(JA) パターン描画装置(EX)は、スポット光(SP')として基板(P)に投射される描画ビーム(LBn)の強度を、多数の画素(PIC)で規定されるパターンの描画データに基づいて変調しつつ、スポット光(SP')の投射位置を基板(P)上で画素(PIC)の2次元的な配列に沿って相対走査する。パターン描画装置(EX)は、描画データに基づいて、相対走査中にスポット光(SP')が照射される露光画素の各々に対しては、描画ビームとして所定周期(Tf)で発振されるパルス光の所定数を射出し、相対走査中にスポット光(SP')が非照射とされる非露光画素の各々に対しては所定数のパルス光の射出を中断する光源装置(LS)と、描画データに基づいて、露光画素のうちでパターンのエッジ部に対応したエッジ部露光画素(PIC')に対して射出されるパルス光の数が、所定数に対して相対的に増減されるように光源装置(LS)を制御する描画制御装置(200)と、を備える。
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공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)