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1. (WO2019049932) MANUFACTURING METHOD FOR STARTING MATERIAL FOR CERIUM-BASED ABRASIVE AGENT, AND MANUFACTURING METHOD FOR CERIUM-BASED ABRASIVE AGENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/049932 국제출원번호: PCT/JP2018/033034
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 06.09.2018
IPC:
C09K 3/14 (2006.01) ,B02C 17/00 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,C01F 17/00 (2006.01) ,C09G 1/02 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
3
다른 곳에 분류되지 않은 물질
14
슬립방지 물질; 연마 물질
B SECTION B — 처리조작; 운수
02
파쇄, 분쇄 또는 미분쇄; 제분을 위한 곡립의 전처리
C
파쇄, 분쇄 또는 미분쇄일반; 곡립(알곡)의 분쇄
17
원통형분쇄기에 의한 분쇄, 즉 작은 돌 또는 볼 등의 특별한 분쇄매체에 의한 것 또는 이들에 의하지 않고 분쇄되는 원료를 넣는 용기가 있는 분쇄기
B SECTION B — 처리조작; 운수
24
연삭(GRINDING); 연마(POLISHING)
B
연삭 또는 연마하기 위한 기계, 장치 또는 공정; 마모면의 드레싱 또는 정상화; 연삭제, 연마제 또는 랩핑제(LAPPING-AGENTS)의 공급
37
래핑 기계 또는 장치; 그것의 부속장치
C SECTION C — 화학; 야금
01
무기화학
F
금속 베릴륨, 마그네슘, 알루미늄, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 라듐, 토륨 화합물 또는 희토류 금속 화합물
17
희토류 금속 화합물, 즉 스칸듐, 이트륨, 란탄 또는 란탄족의 화합물
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
G
프랑스 니스 이외의 광택제 조성물(POLISHING COMPOSITIONS); 스키 왁스(SKI WAXES)
1
광택제 조성물
02
연마제 또는 분쇄제를 포함한 것
출원인:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shiba Daimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
발명자:
増田 知之 MASUDA, Tomoyuki; JP
深山 正輝 FUKAYAMA, Masaki; JP
대리인:
大谷 保 OHTANI, Tamotsu; JP
有永 俊 ARINAGA, Shun; JP
우선권 정보:
2017-17381811.09.2017JP
발명의 명칭: (EN) MANUFACTURING METHOD FOR STARTING MATERIAL FOR CERIUM-BASED ABRASIVE AGENT, AND MANUFACTURING METHOD FOR CERIUM-BASED ABRASIVE AGENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN MATÉRIAU DE DÉPART POUR AGENT ABRASIF À BASE DE CÉRIUM, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN AGENT ABRASIF À BASE DE CÉRIUM
(JA) セリウム系研磨材用原料の製造方法、及びセリウム系研磨材の製造方法
요약서:
(EN) The present invention involves manufacturing a starting material for a cerium-based abrasive agent by means of a step for dry milling a mixed rare earth oxide having a rare earth element content of 80% by mass or more in terms of oxides, and a cerium content of 50% by mass or more in terms of oxides relative to the rare earth element content in terms of oxides, said cerium-based abrasive agent comprising milled product having an untamped density of more than 0.60 g/cm3 and at most 1.50 g/cm3, and a cumulative 50% particle size volume distribution of 2-20 μm. The present invention also involves manufacturing a cerium-based abrasive agent by means of a manufacturing method which includes a step for pulverizing the starting material for the cerium-based abrasive agent.
(FR) La présente invention concerne la fabrication d’un matériau de départ pour un agent abrasif à base de cérium à l’aide d’une étape de broyage à sec d’un oxyde de terres rares mixte ayant une teneur en élément de terres rares de 80 % en masse ou plus en termes d’oxydes, et une teneur en cérium de 50 % en masse ou plus en termes d’oxydes par rapport à la teneur en élément de terres rares en termes d’oxydes, ledit agent abrasif à base de cérium comprenant un produit broyé ayant une densité non tassée supérieure à 0,60 g/cm3 et d’au plus 1,50 g/cm3, et une distribution en volume des tailles de particules de 50 % cumulée de 2 à 20 µm. La présente invention concerne également la fabrication d'un agent abrasif à base de cérium à l’aide d’un procédé de fabrication qui comprend une étape de pulvérisation du matériau de départ pour l’agent abrasif à base de cérium.
(JA) 全希土類元素の酸化物換算での含有量が80質量%以であり、前記全希土類元素の酸化物換算での含有量に対するセリウムの酸化物換算量での含有量が50質量%以上である混合酸化希土を乾式解砕処理する工程により、軽装かさ密度が0.60g/cm3超1.50g/cm3以下、かつ、体積分布50%累積値での粒子径が2μm以上20μm以下の解砕品からなるセリウム系研磨材用原料を製造し、また、該セリウム系研磨材用原料を粉砕する工程を含む製造方法によりセリウム系研磨材を製造する。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)