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1. (WO2019049732) EXPOSURE DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/049732 국제출원번호: PCT/JP2018/031780
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 28.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G01B 11/00 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
B
길이, 두께 또는 유사한 직선치의 측정; 각도의 측정; 면적의 측정; 표면 또는 윤곽의 불규칙성 측정
11
광학적 수단의 사용에 의해서 특징 지워진 측정장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
67
제조 또는 처리중의 반도체 또는 전기 고체 장치 취급에 특별히 적용되는 장치; 반도체 또는 전기 고체 장치 혹은 구성부품의 제조 또는 처리중의 웨이퍼 취급에 특별히 적용되는 장치
68
위치 결정, 방향 결정 또는 정렬을 위한 것
출원인:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
발명자:
米澤 良 YONEZAWA Makoto; JP
대리인:
坂田 ゆかり SAKATA Yukari; JP
우선권 정보:
2017-17068405.09.2017JP
발명의 명칭: (EN) EXPOSURE DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION
(JA) 露光装置
요약서:
(EN) The present invention enables high-resolution lithography. An exposure device uses a reading unit to read a correction substrate, which has a substrate correction pattern containing a plurality of two-dimensionally arrayed cross-mark positions drawn thereon, in an initial state and states with the correction substrate rotated by substantially 90°, 180°, and 270° from the initial state, and prepares a correction table used for correcting plotting information on the basis of the results of reading the correction substrate. In addition, the exposure device reads the cross pattern in a template using the reading unit and compares the results of reading with the correction table to prepare a template correction table relating to the deformation of the template. During a plotting process, the exposure device: corrects the plotting information on the basis of the correction table; irradiates the template with light from a light illumination unit while a drive unit moves a mask holding unit; acquires positional deviations in the first and second directions of the light illumination unit on the basis of an image captured by a camera; corrects the plotting information on the basis of the positional deviations in the first and second directions and the template correction table; and adjusts the time for outputting a signal to the light illumination unit.
(FR) La présente invention permet de produire une lithographie à haute résolution. Un dispositif d'exposition utilise un module de lecture pour lire un substrat de correction doté d'un motif de correction de substrat ayant tracée sur lui une pluralité de positions de repères en croix disposés en réseau de façon bidimentionnelle, la lecture se faisant dans un état initial et dans des états où le substrat de correction est pivoté de 90°, 180°, et 270° à partir de l'état initial. Le dispositif d'exposition prépare également une table de correction utilisée pour corriger des informations de traçage sur la base des résultats de la lecture du substrat de correction. De plus, le dispositif d'exposition lit le motif en croix dans un gabarit à l'aide du module de lecture et compare les résultats de la lecture avec la table de correction pour préparer une table de correction de gabarit relative à la déformation du gabarit. Pendant un processus de traçage, le dispositif d'exposition : corrige les informations de traçage sur la base de la table de correction ; irradie le gabarit avec de la lumière provenant d'un module d'éclairage tandis qu'un module d'entraînement déplace un module de support de masque ; acquiert des écarts de position dans les première et seconde directions du module d'éclairage sur la base d'une image prise par un appareil de prise de vue ; corrige les informations de traçage sur la base des écarts de position dans les première et seconde directions et dans la table de correction de gabarit ; et ajuste le temps pour délivrer un signal au module d'éclairage.
(JA) 高精度の描画を行なうことができる。 読取部により、二次元状に配列された複数の十字の位置を含む補正用基板パターンが描画された補正用基板を、初期状態と、前記初期状態から略90度、略180度、及び略270度回転させた状態と、のそれぞれにおいて読み取り、当該読み取った結果に基づいて描画情報を補正する補正テーブルを作成する。また、読取部によりテンプレートの十字パターンを読み取り、当該読み取った結果と補正テーブルとを比較してテンプレートの変形に関するテンプレート補正テーブルを作成する。そして、描画処理において、補正テーブルに基づいて描画情報を補正し、かつ、駆動部によりマスク保持部を移動させながら光照射部からテンプレートに向けて光を照射し、カメラで撮像された画像に基づいて光照射部の第1方向の位置ずれ及び第2方向の位置ずれを取得し、第1方向の位置ずれ及び第2方向の位置ずれと、テンプレート補正テーブルとに基づいて描画情報を補正し、かつ光照射部へ出力する信号のタイミングを調整する。
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공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)