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1. (WO2019049453) DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/049453 국제출원번호: PCT/JP2018/022525
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 13.06.2018
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
04
.선택된 표면부분의 피복, 예. 마스크를 사용하는 것
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
10
전계발광광원의 제조에 특히 적용하는 장치 또는 공정
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
50
광방출에 특별히 적용되는 것, 예. 유기 발광 다이오드(OLED) 또는 고분자 발광 다이오드 (PLED)
출원인:
株式会社ジャパンディスプレイ JAPAN DISPLAY INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋三丁目7番1号 3-7-1 Nishi-shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
발명자:
觀田 康克 KANDA Noriyoshi; JP
木村 泰一 KIMURA Yasukazu; JP
平賀 健太 HIRAGA Kenta; JP
松浦 由紀 MATSUURA Yuki; JP
대리인:
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ TAKAHASHI, HAYASHI AND PARTNER PATENT ATTORNEYS, INC.; 東京都大田区蒲田5-24-2 損保ジャパン日本興亜蒲田ビル9階 Sonpo Japan Nipponkoa Kamata Building 9F, 5-24-2 Kamata, Ota-ku, Tokyo 1440052, JP
우선권 정보:
2017-17182907.09.2017JP
발명의 명칭: (EN) DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE DE DÉPÔT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE DE DÉPÔT, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D’AFFICHAGE
(JA) 蒸着マスク、蒸着マスクの作製方法、および表示装置の製造方法
요약서:
(EN) The present invention provides a deposition mask. The deposition mask has a metal plate that has: an upper surface; a lower surface, which is positioned below the upper surface, and which is disposed further than the upper surface from a substrate to be subjected to deposition; and an opening penetrating from the upper surface to the lower surface. The side wall of the opening has a first surface, and a second surface positioned below the first surface. A first angle formed between the first surface and the upper surface is larger than a second angle formed between the second surface and the upper surface. The first angle and the second angle are larger than 0° but smaller than 90°.
(FR) La présente invention concerne un masque de dépôt. Le masque de dépôt comporte une plaque métallique qui comporte : une surface supérieure ; une surface inférieure, qui est positionnée au-dessous de la surface supérieure, et qui est disposée plus loin que la surface supérieure d'un substrat devant être soumis à un dépôt ; et une ouverture pénétrant de la surface supérieure à la surface inférieure. La paroi latérale de l'ouverture a une première surface, et une seconde surface positionnée au-dessous de la première surface. Un premier angle formé entre la première surface et la surface supérieure est supérieur à un second angle formé entre la seconde surface et la surface supérieure. Le premier angle et le second angle sont supérieurs à 0° mais inférieurs à 90°.
(JA) 【解決手段】蒸着マスクが提供される。蒸着マスクは、上面と、上面の下に位置し、蒸着に供される基板に対して上面よりも遠くに配置される下面と、上面から下面へ貫通する開口とを有する金属板を有する。開口の側壁は第1の面、および第1の面の下に位置する第2の面を有する。第1の面と上面がなす第1の角度は、第2の面と上面がなす第2の角度よりも大きい。第1の角度と第2の角度は、0°よりも大きく、90°よりも小さい。
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아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)