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1. (WO2019048529) PROCESS FOR PREPARING POLYPROPYLENE COMPOSITION
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/048529 국제출원번호: PCT/EP2018/073973
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 06.09.2018
IPC:
C08F 210/16 (2006.01) ,C08F 4/654 (2006.01) ,C08L 23/14 (2006.01) ,C08F 2/00 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
210
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 불포화 지방족 탄화수소의 공중합체
16
.에텐과 α-알켄의 공중합체 예. EP 고무
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
4
중합 촉매
42
금속; 금속 수소화물; 유기 금속 화합물; 그들의 촉매 전구체로서의 사용
44
경금속, 아연, 카드뮴, 수은, 구리, 은, 금, 붕소, 갈륨, 인듐, 탈륨, 희토류 또는 악티늄족에서 선택된 것
60
내열성 금속, 철족 금속, 백금족 금속, 망간, 테크네튬, 레륨 또는 그들의 혼합물과 함께 사용하는 것
62
내열성 금속 또는 그의 화합물
64
티탄, 지르코늄, 하프늄 또는 그들의 화합물
65
그룹 C08F 4/44에 포함된 금속 또는 화합물로 최종 접촉시키기 전에 그룹 C08F 4/64에 포함된 금속 또는 화합물의 전처리
652
금속 또는 금속 함유 화합물로의 전처리
654
마그네슘 또는 그의 화합물로의 전처리
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
23
단 한 개의 탄소-탄소 이중 결합을 가진 불포화 지방족 탄화수소의 호모중합체 또는 공중합체의 조성물 그런 고분자 유도체의 조성물
02
.화학적인 후처리로 변성되어 있지 않는 것
10
프로펜의 호모중합체 또는 공중합체
14
프로펜의 공중합체
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
2
중합 방법
출원인:
BOREALIS AG [AT/AT]; IZD Tower Wagramer Str. 17-19 1220 Vienna, AT
발명자:
LESKINEN, Pauli; FI
BORAGNO, Luca; AT
대리인:
MAIWALD PATENTANWALTS- UND RECHTSANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Kerstin Reitwießner Elisenstr. 3 / Elisenhof 80335 Munich, DE
우선권 정보:
17190020.208.09.2017EP
발명의 명칭: (EN) PROCESS FOR PREPARING POLYPROPYLENE COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PRÉPARATION D'UNE COMPOSITION DE POLYPROPYLÈNE
요약서:
(EN) The invention relates to a process for producing a polypropylene composition by sequential polymerization, said polypropylene composition having low sealing initiation temperature (SIT) and high melting point (Tm), thus providing a broad sealing window.
(FR) L'invention concerne un procédé pour la production d'une composition de polypropylène par polymérisation séquentielle, ladite composition de polypropylène ayant une faible température d'initiation de scellage (SIT) et un point de fusion élevé (Tm), fournissant ainsi une large fenêtre de scellage.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)