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1. (WO2019048506) TRAINING METHODS FOR MACHINE LEARNING ASSISTED OPTICAL PROXIMITY ERROR CORRECTION
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/048506 국제출원번호: PCT/EP2018/073914
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 05.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/36 (2012.01) ,G06F 17/50 (2006.01) ,G06N 99/00
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
1
질감이 있거나 무늬가 있는 표면의 사진제판법 제품을 위한 원화, 예. 마스크, 포토-마스크 또는 레티클(reticle); 마스크 블랭크(mask blank) 또는 그 투과필름(pellicle); 그를 위해 특히 적용된 용기; 그 준비과정
36
근접 보정 특징을 가지는 마스크; 그 준비과정, 예. 광 근접 보정(OPC) 디자인 절차
G SECTION G — 물리학
06
산술논리연산; 계산; 계수
F
전기에 의한 디지털 데이터처리
17
디지털 컴퓨팅 또는 데이터 프로세싱 장비, 방법으로서 특정 기능을 위해 특히 적합한 형태의 것
50
컴퓨터를 이용한 설계
G SECTION G — 물리학
06
산술논리연산; 계산; 계수
N
특정 계산모델 방식의 컴퓨터시스템
99
이 서브클래스의 다른 그룹으로 분류되지 않는 주제사항
출원인:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
발명자:
SU, Jing; US
LU, Yen-Wen; US
LUO, Ya; US
대리인:
PETERS, John; NL
우선권 정보:
62/556,24608.09.2017US
62/725,73431.08.2018US
발명의 명칭: (EN) TRAINING METHODS FOR MACHINE LEARNING ASSISTED OPTICAL PROXIMITY ERROR CORRECTION
(FR) PROCÉDÉS D'APPRENTISSAGE DE CORRECTION OPTIQUE D'ERREUR DE PROXIMITÉ ASSISTÉE PAR APPRENTISSAGE AUTOMATIQUE
요약서:
(EN) A method including: obtaining an optical proximity correction for a spatially shifted version of a training design pattern (5000); and training a machine learning model (5200) configured to predict optical proximity corrections for design patterns using data (5051; 5053) regarding the spatially shifted version of the training design pattern and data (5041; 5043) based on the optical proximity corrections for the spatially shifted version of the training design pattern.
(FR) L'invention concerne un procédé qui comprend les étapes suivantes : obtention d'une correction optique de proximité pour une version décalée dans l'espace d'un motif de conception d'apprentissage (5000); et apprentissage d'un modèle d'apprentissage automatique (5200) configuré afin de prédire des corrections optiques de proximité pour des motifs de conception à l'aide de données (5051; 5053) concernant la version décalée dans l'espace du motif de conception d'apprentissage et des données (5041; 5043) sur la base des corrections optiques de proximité pour la version décalée dans l'espace du motif de conception d'apprentissage.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)