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1. (WO2019048371) METHOD FOR CLEANING PHOSGENE-CONDUCTING APPARATUSES
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/048371 국제출원번호: PCT/EP2018/073596
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 03.09.2018
IPC:
B01J 8/02 (2006.01) ,C07C 263/10 (2006.01) ,C07C 265/14 (2006.01) ,C01B 32/80 (2017.01)
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
J
화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치
8
유체 및 고체입자의 존재하에서 행하는 화학적 또는 물리적 공정 일반; 그를 위한 장치
02
정지한 입자가 있는 것, 예. 고정상
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
263
이소시안산(isocyanic acid)의 유도체의 제조
10
.아민과 카르보닐 할로겐화물과의 반응에 의한 것, 예. 포스겐과의 반응에 의한 것(phosgene)
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
265
이소시안산의 유도체
14
.2개 이상의 이소시안산염기가 같은 탄소 골격에 결합되어 있는 것
[IPC code unknown for C01B 32/80]
출원인:
MING, Zhangyong; CN (US)
COVESTRO DEUTSCHLAND AG [DE/DE]; Kaiser-Wilhelm-Allee 60 51373 Leverkusen, DE
발명자:
MING, Zhangyong; CN
TAUBE, Wolfgang; DE
MAO, Yiming; CN
GAI, Yuguo; CN
대리인:
LEVPAT; Covestro AG, Gebäude 4825 51365 Leverkusen, DE
우선권 정보:
17202500.920.11.2017EP
PCT/CN2017/10072806.09.2017CN
발명의 명칭: (EN) METHOD FOR CLEANING PHOSGENE-CONDUCTING APPARATUSES
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UNE PLAQUETTE DE SEMI-CONDUCTEURS
(DE) METHOD FOR CLEANING PHOSGENE-CONDUCTING APPARATUSES
요약서:
(EN) The invention relates to a method for cleaning a phosgene-conducting apparatus by pressurization with ammonia gas to constant pressure. In this way, phosgene residues in the apparatus to be cleaned are decomposed effectively.
(FR) L'invention concerne un procédé de nettoyage d'un appareil conducteur de phosgène par mise sous pression avec du gaz ammoniac à pression constante. De cette manière, les résidus de phosgène dans l'appareil à nettoyer sont décomposés efficacement.
(DE) COV 17 9 046- Foreign Countries - 17 - METHOD FOR CLEANING PHOSGENE-CONDUCTING APPARATUSES A b s t r a c t The invention relates to a method for cleaning a phosgene-conducting apparatus by pressurization with ammonia gas to constant pressure. In this way, phosgene residues in the apparatus to be 5 cleaned are decomposed effectively.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)