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1. (WO2019048145) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/048145 국제출원번호: PCT/EP2018/071069
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 02.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
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노광; 그것을 위한 장치
출원인:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
발명자:
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
JAK, Martin, Jacobus, Johan; NL
BHATTACHARYYA, Kaustuve; NL
대리인:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
우선권 정보:
17190401.411.09.2017EP
17193415.127.09.2017EP
발명의 명칭: (EN) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
(FR) MÉTROLOGIE DANS DES PROCÉDÉS LITHOGRAPHIQUES
요약서:
(EN) An apparatus and method for estimating a parameter of a lithographic process and an apparatus and method for determining a relationship between a measure of quality of an estimate of a parameter of a lithographic process are provided. In the apparatus for estimating the parameter a processor is configured to determine a quality of the estimate of the parameter relating to the tested substrate based on a measure of feature asymmetry in the at least first features of the tested substrate and further based on a relationship determined for a plurality of corresponding at least first features of at least one further substrate representative of the tested substrate, the relationship being between a measure of quality of an estimate of the parameter relating to the at least one further substrate and a measure of feature asymmetry in the corresponding first features.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé pour estimer un paramètre d'un processus lithographique ainsi qu'un appareil et un procédé pour déterminer une relation entre une mesure de qualité d'une estimation d'un paramètre d'un processus lithographique. Dans l'appareil pour estimer le paramètre, un processeur est conçu pour déterminer une qualité de l'estimation du paramètre relatif au substrat testé sur la base d'une mesure d'asymétrie de caractéristique dans au moins les premières caractéristiques du substrat testé et, en outre, sur la base d'une relation déterminée pour au moins une pluralité de premières caractéristiques correspondantes d'au moins un autre substrat représentatif du substrat testé, la relation étant entre une mesure de qualité d'une estimation du paramètre relatif à l'autre ou aux autres substrats et une mesure d'asymétrie de caractéristique dans les premières caractéristiques correspondantes.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)