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1. (WO2019046373) QUANTUM DOT COMPOSITIONS INCLUDING POLYCARBONATE AND ACRYLIC BLENDS AND METHODS OF MANUFACTURE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/046373 국제출원번호: PCT/US2018/048455
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 29.08.2018
IPC:
C09K 11/02 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
11
발광성 물질, 예. 전기 발광성 물질, 화학 발광성 물질
02
.바인더, 피복 입자 또는 그와 같은 현탁 매질로 특정 물질의 사용
출원인:
ZHOU, Bing [CN/US]; US (BZ)
SABIC GLOBAL TECHNOLOGIES B.V. [NL/NL]; Plasticslaan 1 4612 PX Bergen op Zoom, NL
발명자:
ZHOU, Bing; US
KAMPS, Jan Henk; NL
HEIN, Christopher Luke; US
CHELLAMUTHU, Manojkumar; US
ZHOU, Hao; US
BASTAWROS, Adel Fawzy; US
BAJAJ, Pooja; US
대리인:
QUICKER, Katrina M.; US
BLAKE, Ava L.; US
우선권 정보:
62/551,38429.08.2017US
발명의 명칭: (EN) QUANTUM DOT COMPOSITIONS INCLUDING POLYCARBONATE AND ACRYLIC BLENDS AND METHODS OF MANUFACTURE
(FR) COMPOSITIONS DE POINTS QUANTIQUES COMPRENANT DES MÉLANGES DE POLYCARBONATE ET D'ACRYLIQUE ET PROCÉDÉS DE PRODUCTION
요약서:
(EN) Disclosed is a quantum dot composition comprising: a polycarbonate resin, a polycarbonate copolymer resin, or a combination thereof; a quantum dot concentrate including a plurality of nanoparticle quantum dots and an acrylic polymer, a methacrylic polymer, or a combination thereof; and a compatibilizer for promoting dispersion of the nanoparticle quantum dots in the quantum dot composition. The compatibilizer includes a transesterification catalyst, a physical compatibilizer, a plurality of semiconductor nanoparticles passivated with a metal oxide, or a combination thereof. Further disclosed is a method for making a quantum dot composition, the method including: forming a quantum dot concentrate by combining a plurality of nanoparticle quantum dots with an acrylic polymer, a methacrylic polymer or a combination thereof; and combining the quantum dot concentrate with a compatibilizer and a polycarbonate resin, a polycarbonate copolymer resin, or a combination thereof.
(FR) L'invention concerne une composition de points quantiques, comportant : une résine de polycarbonate, une résine de copolymère de polycarbonate ou une association de ces dernières ; un concentré de points quantiques comprenant une pluralité de points quantiques de nanoparticules et un polymère acrylique, un polymère méthacrylique ou une association de ces derniers ; et un agent de compatibilité destiné à favoriser la dispersion des points quantiques de nanoparticules dans la composition de points quantiques. L'agent de compatibilité comprend un catalyseur de transestérification, un agent de compatibilité physique, une pluralité de nanoparticules semi-conductrices passivées avec un oxyde métallique ou une association de ces derniers. L'invention concerne en outre un procédé de production d'une composition de points quantiques, le procédé comprenant les étapes consistant : à former un concentré de points quantiques par association d'une pluralité de points quantiques de nanoparticules avec un polymère acrylique, un polymère méthacrylique ou une association de ces derniers ; et à associer le concentré de points quantiques avec un agent de compatibilité et une résine de polycarbonate, une résine de copolymère de polycarbonate ou une association de ces dernières.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)