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1. (WO2019046325) ELECTROMAGNETIC REDUCTION MATERIALS, METHODS, AND DEVICES
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/046325 국제출원번호: PCT/US2018/048382
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 28.08.2018
IPC:
A61N 1/16 (2006.01) ,C01D 3/22 (2006.01) ,H05K 9/00 (2006.01)
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
1
전기치료; 그것을 위한 회로
16
대기중 또는 지상의 방사선의 장에 의한 좋지 못한 영향의 차폐 또는 중화
C SECTION C — 화학; 야금
01
무기화학
D
알칼리 금속, 즉 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐, 세슘 또는 프란슘의 화합물
3
나트륨, 칼륨 또는 다른 알칼리 금속의 할로겐화물 일반
22
입자, 소편 또는 다른 성형품의 제조
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
K
인쇄회로; 전기장치의 상체 또는 구조적 세부, 전기부품의 조립체의 제조
9
전장 또는 자장에 대한 장치 또는 부품의 차폐
출원인:
BREAKWALL TECHNOLOGY LLC [US/US]; 748 Wexford Hill Court Westfield, IN 46074, US
발명자:
LUSIAK, Richard; US
대리인:
SCOTT, Steven J.; US
우선권 정보:
62/551,42229.08.2017US
발명의 명칭: (EN) ELECTROMAGNETIC REDUCTION MATERIALS, METHODS, AND DEVICES
(FR) MATÉRIAUX DE RÉDUCTION ÉLECTROMAGNÉTIQUE, PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS
요약서:
(EN) Extremely-low frequency (ELF) electromagnetic radiation is known to cause deleterious health effects and is a significant byproduct of the use of Wi-Fi routers and other electronic devices. Electromagnetic protection devices and reduction materials which absorb ELF, electromagnetic protection devices comprising such materials, and methods for reducing ELF exposure are described herein.
(FR) Il est connu qu'un rayonnement électromagnétique extrêmement basse fréquence (EBF) peut provoquer des effets délétères sur la santé et est un sous-produit significatif de l'utilisation de routeurs Wi-Fi et d'autres dispositifs électroniques. L'invention concerne des dispositifs de protection électromagnétique et des matériaux de réduction qui absorbent le rayonnement EBF, des dispositifs de protection électromagnétique comportant de tels matériaux, et des procédés de réduction de l'exposition au rayonnement EBF.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)