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1. (WO2019045521) 전자 장치 및 그 제어 방법
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/045521 국제출원번호: PCT/KR2018/010152
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 31.08.2018
IPC:
H04N 5/235 (2006.01) ,H04N 5/232 (2006.01) ,G06K 9/00 (2006.01) ,G06F 21/32 (2013.01)
H SECTION H — 전기
04
전기통신기술
N
화상통신, 예. 텔레비젼
5
텔레비젼 시스템의 세부
222
스튜디오 회로; 스튜디오 장치; 스튜디오 설비
225
텔레비젼 카메라
235
피사체의 휘도 변동을 보상하기 위한 회로
H SECTION H — 전기
04
전기통신기술
N
화상통신, 예. 텔레비젼
5
텔레비젼 시스템의 세부
222
스튜디오 회로; 스튜디오 장치; 스튜디오 설비
225
텔레비젼 카메라
232
텔레비젼 카메라를 제어하기 위한 장치, 예. 원격제어
G SECTION G — 물리학
06
산술논리연산; 계산; 계수
K
데이터의 인식; 데이터의 표시; 기록매체; 기록매체의 취급
9
인쇄문자, 손으로 쓴 문자를 독취하거나 인식 또는 패턴을 인식하기 위한 방법 또는 장치, 예. 지문인식
G SECTION G — 물리학
06
산술논리연산; 계산; 계수
F
전기에 의한 디지털 데이터처리
21
부정행위로부터 프로그램 또는 데이터, 그 컴퓨터 부품을 보호하기 위한 보안 장치
30
인증, 즉. 보안 사용자의 인증 또는 동일성 학립에 관한 것
31
사용자 인증
32
생체 데이터를 사용하는 것, 예. 지문, 홍체스캔 또는 성문
출원인:
삼성전자주식회사 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 수원시 영통구 삼성로 129 129, Samsung-ro, Yeongtong-Gu, Suwon-Si, Gyeonggi-do 16677, KR
발명자:
그낙유크비탈리 세르게비치 GNATYUK, Vitaly Sergeevich; RU
자바리쉰세르게이 스타니스라보비치 ZAVALISHIN, Sergey Stanislavovich; RU
페트로바센야 유리에브나 PETROVA, Xenya Yurievna; RU
오디노키크흐그레브 안드레비치 ODINOKIKH, Gleb Andreevich; RU
다니레비치아레세이 브로니스라보비치 DANILEVICH, Alexey Bronislavovich; RU
파르투코브아레세이 미크하이로비치 FARTUKOV, Alexey Mikhailovich; RU
에레메에브브라디미르 아레세에비치 EREMEEV, Vladimir Alexeevich; RU
신대규 SHIN, Dae-kyu; KR
유주완 YOO, Ju-woan; KR
이광현 LEE, Kwang-hyun; KR
이희준 LEE, Hee-jun; KR
대리인:
리앤목특허법인 Y.P.LEE, MOCK & PARTNERS; 서울시 강남구 언주로 30길 13 대림아크로텔 12층 12F Daelim Acrotel, 13 Eonju-ro 30-gil, Gangnam-Gu, Seoul 06292, KR
우선권 정보:
201713089501.09.2017RU
발명의 명칭: (EN) ELECTRONIC DEVICE AND CONTROL METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE ASSOCIÉ
(KO) 전자 장치 및 그 제어 방법
요약서:
(EN) According to an aspect of one embodiment of the present disclosure, provided is an electronic device comprising: an photography unit; a memory for storing at least one command; and at least one processor for executing the at least one command stored in the memory, wherein the at least one processor captures a first image by using the photography unit, primarily adjusts an exposure value on the basis of the first image when the first image does not meet a first condition, secondarily adjusts the exposure value on the basis of a second image obtained by applying, to the first image, a mask having a high weight for a region of interest when the second image does not meet a second condition, adjusts at least one photography setting value on the basis of the adjusted exposure value, and captures a third image on the basis of the adjusted at least one photography setting value by using the photography unit.
(FR) La présente invention, selon un aspect d'un mode de réalisation, concerne un dispositif électronique comprenant : une unité de photographie ; une mémoire destinée à mémoriser au moins une instruction ; et au moins un processeur destiné à exécuter ladite instruction mémorisée dans la mémoire, ledit processeur capturant une première image à l'aide de l'unité de photographie, réglant premièrement une valeur d'exposition sur la base de la première image lorsque la première image ne satisfait pas une première condition, réglant ensuite la valeur d'exposition sur la base d'une deuxième image obtenue par une application, à la première image, d'un masque ayant un poids élevé d'une région d'intérêt lorsque la deuxième image ne satisfait pas une seconde condition, réglant au moins une valeur de paramétrage de photographie sur la base de la valeur d'exposition réglée, et capturant une troisième image sur la base de ladite valeur de paramétrage de photographie réglée à l'aide de l'unité de photographie.
(KO) 본 개시의 일 실시예의 일 측면에 따르면, 촬영부; 하나 이상의 명령어들을 저장하는 메모리; 상기 메모리에 저장된 상기 하나 이상의 명령어들을 실행하는 하나 이상의 프로세서를 포함하고, 상기 하나 이상의 프로세서는, 상기 촬영부를 이용하여 제1 이미지를 캡쳐하고, 상기 제1 이미지에 기초하여, 상기 제1 이미지가 제1 조건을 충족하지 않는 경우, 노출 값을 제1 조정하고, 관심 영역에 대해 높은 가중치를 갖는 마스크를 상기 제1 이미지에 적용하여 획득된 제2 이미지에 기초하여, 상기 제2 이미지가 제2 조건을 충족하지 않는 경우, 상기 노출 값을 제2 조정하고, 상기 조정된 노출 값에 기초하여 적어도 하나의 촬영 설정 값을 조정하고, 상기 촬영부를 이용하여 상기 조정된 적어도 하나의 촬영 설정 값에 기초하여 제3 이미지를 캡쳐하는, 전자 장치가 제공된다.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)