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1. (WO2019044914) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD AND DRUG SOLUTION
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/044914 국제출원번호: PCT/JP2018/031979
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 29.08.2018
IPC:
C11D 7/50 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,C07B 63/00 (2006.01) ,C07B 63/04 (2006.01) ,C07C 7/00 (2006.01) ,C07C 7/20 (2006.01) ,C07C 9/14 (2006.01) ,C07C 29/74 (2006.01) ,C07C 29/94 (2006.01) ,C07C 31/10 (2006.01) ,C07C 41/34 (2006.01) ,C07C 41/46 (2006.01) ,C07C 43/04 (2006.01) ,C07C 43/13 (2006.01) ,C07C 45/78 (2006.01) ,C07C 45/86 (2006.01) ,C07C 49/04 (2006.01) ,C07C 49/395 (2006.01) ,C07C 49/403 (2006.01) ,C07C 67/48 (2006.01) ,C07C 67/62 (2006.01) ,C07C 69/14 (2006.01) ,C07C 69/68 (2006.01) ,C07C 69/708 (2006.01) ,C07D 307/33 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
11
동물성 또는 식물성유, 지방, 지방성 물질 또는 왁스; 그것들로부터 유래된 지방산; 세정제; 양초
D
세정성 조성물; 세정제로서 단일 물질의 사용; 비누 또는 비누 제조; 수지 비누; 글리세롤의 회수
7
기본적으로 비표면 활성 화합물에 기초한 세정제 조성물
50
용매
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
D
분리
61
반투막을 이용한 분리공정, 예. 투석, 삼투; 또는 한외여과 특별히 만들어진 관련장치, 부속품 및 보조조작
14
한외여과; 미량여과
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
B
유기 화학의 일반적 방법; 장치
63
정제; 유기 화합물을 회복하기 위한 목적에 특히 적합한 분리 안정화; 첨가제의 사용
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
B
유기 화학의 일반적 방법; 장치
63
정제; 유기 화합물을 회복하기 위한 목적에 특히 적합한 분리 안정화; 첨가제의 사용
04
.첨가제의 사용
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
7
정제; 탄화수소의 분리 또는 안정화; 첨가제의 사용
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
7
정제; 탄화수소의 분리 또는 안정화; 첨가제의 사용
20
첨가제의 사용, 예. 안정화를 위한 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
9
비고리 포화 탄화수소
14
5~15개의 탄소 원자가 있는 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
29
6원 방향족 환에 속해 있지 않은 탄소 원자에 결합되어 있는 히드록시기 또는 O-금속기를 가진 화합물의 제조
74
.분리; 정제; 안정화; 첨가제의 사용
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
29
6원 방향족 환에 속해 있지 않은 탄소 원자에 결합되어 있는 히드록시기 또는 O-금속기를 가진 화합물의 제조
74
.분리; 정제; 안정화; 첨가제의 사용
94
첨가제의 사용, 예. 안정화를 위한 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
31
비고리 탄소 원자에 결합한 히드록시기 또는 O - 금속기를 가진 포화 화합물
02
.비고리 1가 알코올
10
3개의 탄소 원자를 함유하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
41
에테르의 제조 기, 기, 또는 기를 가진 화합물의 제조
01
.에테르의 제조
34
분리; 정제; 안정화; 첨가제의 사용
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
41
에테르의 제조 기, 기, 또는 기를 가진 화합물의 제조
01
.에테르의 제조
34
분리; 정제; 안정화; 첨가제의 사용
46
첨가제의 사용, 예. 안정화를 위한 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
43
에테르; 기, 기 또는 기를 가진 화합물
02
에테르
03
모든 에테르기기의 산소원자가 비환식탄소원자에 결합되어 있는 것
04
포화에테르
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
43
에테르; 기, 기 또는 기를 가진 화합물
02
에테르
03
모든 에테르기기의 산소원자가 비환식탄소원자에 결합되어 있는 것
04
포화에테르
13
수산기 또는 O - 금속기를 함유하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
45
그것들의 화합물의 킬레이트의 제조; 탄소원자 또는 수소원자만으로 결합되어 있는 C=O 기를 가진 화합물의 제조
78
.첨가제의 사용; 안정화; 정제; 분리
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
45
그것들의 화합물의 킬레이트의 제조; 탄소원자 또는 수소원자만으로 결합되어 있는 C=O 기를 가진 화합물의 제조
78
.첨가제의 사용; 안정화; 정제; 분리
86
첨가제의 사용, 예. 안정화를 위한 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
49
케톤; 케텐; 이중화케텐; 케톤성킬레이트
04
.비환식 탄소원자에 케토기가 결합된 포화화합물
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
49
케톤; 케텐; 이중화케텐; 케톤성킬레이트
385
.환부분을 구성하고 있는 케토기를 함유한 포화화합물
395
5원환의
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
49
케톤; 케텐; 이중화케텐; 케톤성킬레이트
385
.환부분을 구성하고 있는 케토기를 함유한 포화화합물
403
6원환의
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
67
카르복시산 에스테르의 제조
48
.첨가제의 사용; 안정화; 분리; 정제
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
67
카르복시산 에스테르의 제조
48
.첨가제의 사용; 안정화; 분리; 정제
62
첨가제의 사용, 예. 안정화를 위한 것
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
69
카르복시산의 에스테르; 탄산 또는 할로포름산의 에스테르
02
.카르복시기가 비환식탄소원자 또는 수소에 결합되어 있는 비환식포화-염기카르복시산의 에스테르
12
아세트산 에스테르(acetic aeid)
14
1개의 수산기를 가진 화합물
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
69
카르복시산의 에스테르; 탄산 또는 할로포름산의 에스테르
66
에스테르화되어 있는 카르복시기가 비환식탄소원자에 결합되고, 산부분에 OH 기, O - 금속기 - CHO 기, 케토기, 에테르기, 아실옥시기, 기,기, 또는 기 중 어느 것이든 가진 카르복시산 에스테르
67
포화된 산의
675
포화히드록시카르복시산의
68
유산 에스테르(lactic acid)
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
C
비환 화합물 또는 탄소환 화합물
69
카르복시산의 에스테르; 탄산 또는 할로포름산의 에스테르
66
에스테르화되어 있는 카르복시기가 비환식탄소원자에 결합되고, 산부분에 OH 기, O - 금속기 - CHO 기, 케토기, 에테르기, 아실옥시기, 기,기, 또는 기 중 어느 것이든 가진 카르복시산 에스테르
67
포화된 산의
708
에테르
C SECTION C — 화학; 야금
07
유기화학
D
이종원자 고리 화합물(고분자 화합물 C08)
307
이종원자로서 1개의 산소 원자만을 갖는 5원환을 함유하는 이종원자 고리 화합물
02
.다른 환과 축합하고 있지 않는 것
26
고리 원자 상호간 또는 고리 원자와 비환식 원자간에 1개의 이중 결합을 갖는 것
30
이종원자 또는 이종원자에 대한 3개의 결합을 갖고, 그중 많아야 1개가 할로겐에 대한 결합인 탄소 원자, 예. 에스테르기 또는 니트릴기가 고리의 탄소 원자에 직접 결합한 것
32
산소 원자
33
2 위치에 케토 또는 비치환 에놀형인 산소 원자가 있는 것
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
04
크롬산염
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
04
적어도 하나의 전위장벽 또는 표면장벽(예. PN접합, 공핍층, 캐리어 밀집층)을 갖는 장치
18
불순물(예, 도우핑 물질)을 포함하고 있거나 포함하지 않는 주기율표 제4족의 원소 또는 Ⅲ-Ⅴ족 화합물로 구성된 반도체본체를 갖는 장치
30
21/20~ 21/26에 분류되지 않은 방법이나 장비를 사용한 반도체본체의 처리
302
반도체표면의 물리적 성질 또는 그 형상의 변환, 예. 에칭(etching), 경면연마(polishing), 절단(cutting)
304
기계적 처리. 예, 연마, 경면연마, 절단(cutting)
출원인:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
발명자:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
吉留 正洋 YOSHIDOME Masahiro; JP
河田 幸寿 KAWADA Yukihisa; JP
대리인:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
우선권 정보:
2017-16731931.08.2017JP
발명의 명칭: (EN) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD AND DRUG SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION DE SOLUTION MÉDICAMENTEUSE ET SOLUTION MÉDICAMENTEUSE
(JA) 薬液の精製方法、及び、薬液
요약서:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a drug solution purification method with which it is possible to obtain a drug solution exhibiting excellent impairment suppression performance. The present invention also addresses the problem of providing a drug solution. The drug solution purification method according to the present invention is for obtaining a drug solution through filtration of a to-be-purified material containing an organic solvent, wherein the contained amount of a stabilizing agent in the to-be-purified material is not less than 0.1 ppm by mass but less than 100 ppm by mass with respect to the total mass of the to-be-purified material.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir un procédé de purification de solution médicamenteuse grâce auquel il est possible d'obtenir une solution médicamenteuse présentant une excellente performance de suppression d'altération. La présente invention aborde également le problème consistant à fournir une solution médicamenteuse. Le procédé de purification de solution médicamenteuse selon la présente invention est destiné à obtenir une solution médicamenteuse par filtration d'un matériau à purifier contenant un solvant organique, la quantité d'agent stabilisant contenue dans le matériau à purifier étant non inférieure à 0,1 ppm en masse mais inférieure à 100 ppm en masse par rapport à la masse totale du matériau à purifier.
(JA) 本発明は、優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる、薬液の精製方法の提供を課題とする。また、薬液の提供も課題とする。本発明の薬液の精製方法は、有機溶剤を含有する被精製物を精製して薬液を得る、薬液の精製方法であって、被精製物中における安定化剤の含有量が、被精製物の全質量に対して0.1質量ppm以上、100質量ppm未満である。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)