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1. (WO2019044896) TRANSPARENT CONDUCTOR AND ORGANIC DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/044896 국제출원번호: PCT/JP2018/031925
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 29.08.2018
IPC:
H01B 5/14 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 15/04 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/28 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
B
케이블; 도체; 절연체; 도전성, 절연성 또는 유전성 특성에 대한 재료의 선택
5
형태를 특징으로 하는 비절연도체 또는 도전물체
14
절연지지체상에 도전층 또는 도전필름이 있는 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
32
적층체
B
적층체, 즉 평평하거나 평평하지 않은 형상 (예. 세포상(cellular) 또는 벌집 구조(honeycomb)) 의 층으로 조립된 제품
9
본질적으로 그룹 B32B 11/00~ B32B 29/00 에 포함되지 않는 특수물질로 이루어진 적층체
B SECTION B — 처리조작; 운수
32
적층체
B
적층체, 즉 평평하거나 평평하지 않은 형상 (예. 세포상(cellular) 또는 벌집 구조(honeycomb)) 의 층으로 조립된 제품
15
본질적으로 금속으로 이루어진 적층체
04
층의 주된 또는 유일한 구성요소가 금속으로 이루어지고, 특정 물질의 다른 층에 인접한 것
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
06
.피복재료에 특징이 있는 것
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
06
.피복재료에 특징이 있는 것
08
산화물
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
50
광방출에 특별히 적용되는 것, 예. 유기 발광 다이오드(OLED) 또는 고분자 발광 다이오드 (PLED)
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
12
실질적으로 2차원 방사면이 있는 광원
26
전극으로써 사용되는 도전물질의 배치 또는 조성에 의해서 특징지어진 것
28
반투명전극
출원인:
TDK株式会社 TDK CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 2-5-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 1036128, JP
발명자:
新開 浩 SHINGAI Hiroshi; JP
西沢 明憲 NISHIZAWA Akinori; JP
原田 ▲祥▼平 HARADA Shouhei; JP
대리인:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
黒木 義樹 KUROKI Yoshiki; JP
三上 敬史 MIKAMI Takafumi; JP
우선권 정보:
2017-16461329.08.2017JP
2017-16461529.08.2017JP
발명의 명칭: (EN) TRANSPARENT CONDUCTOR AND ORGANIC DEVICE
(FR) CONDUCTEUR TRANSPARENT ET DISPOSITIF ORGANIQUE
(JA) 透明導電体及び有機デバイス
요약서:
(EN) Provided is a transparent conductor 10 comprising a transparent substrate 11, a first metal oxide layer 12, a metal layer 18 including a silver alloy, a third metal oxide layer 14, and a second metal oxide layer 16 in this order. The first metal oxide layer 12 is constituted by a metal oxide other than ITO, the second metal oxide layer 16 includes ITO, and the work function of a surface 16a of the second metal oxide layer 16 on the opposite side to the metal layer 18 side is 4.5 eV or higher.
(FR) L'invention concerne un conducteur transparent 10 comprenant un substrat transparent 11, une première couche d'oxyde métallique 12, une couche métallique 18 comprenant un alliage d'argent, une troisième couche d'oxyde métallique 14 et une seconde couche d'oxyde métallique 16 dans cet ordre. La première couche d'oxyde métallique 12 est constituée d'un oxyde métallique autre que l'ITO, la seconde couche d'oxyde métallique 16 comprend de l'ITO, et la fonction de travail d'une surface 16a de la seconde couche d'oxyde métallique 16 sur le côté opposé au côté de la couche métallique 18 est supérieure ou égale à 4,5 eV.
(JA) 透明導電体10は、透明基材11と、第1の金属酸化物層12と、銀合金を含む金属層18と、第3の金属酸化物層14と、第2の金属酸化物層16と、をこの順で備える。第1の金属酸化物層12は、ITOとは異なる金属酸化物で構成され、第2の金属酸化物層16は、ITOを含有し、第2の金属酸化物層16の金属層18側とは反対側の表面16aの仕事関数が4.5eV以上である。
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공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)