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1. (WO2019044339) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/044339 국제출원번호: PCT/JP2018/028740
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 31.07.2018
IPC:
H01B 5/14 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
B
케이블; 도체; 절연체; 도전성, 절연성 또는 유전성 특성에 대한 재료의 선택
5
형태를 특징으로 하는 비절연도체 또는 도전물체
14
절연지지체상에 도전층 또는 도전필름이 있는 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
32
적층체
B
적층체, 즉 평평하거나 평평하지 않은 형상 (예. 세포상(cellular) 또는 벌집 구조(honeycomb)) 의 층으로 조립된 제품
7
층간의 관계를 특징으로 하는 적층체, 예를 들어 본질적으로 다른 물리적 성질을 갖는 층 또는 층의 상호 연결을 특징으로 하는 적층체
02
물리적 성질에 관한 것(예. 경도)
G SECTION G — 물리학
06
산술논리연산; 계산; 계수
F
전기에 의한 디지털 데이터처리
3
컴퓨터로 처리할 수 있는 형식으로 전송된 데이터를 변환하는 입력기구; 처리장치로부터 출력장치로 데이터를 전송하기 위한 출력기구, 예. 인터페이스 기구
01
사용자와 컴퓨터의 상호작용을 위한 입력장치 또는 입력과 출력이 결합한 장치
03
암호화된 형태로 위치의 변위 또는 구성부재의 대체를 위한 배열.
041
변환 수단에 의해 특징지워진 디지타이저, 예. 터치 스크린 또는 터치 패드용의 것
출원인:
NISSHA株式会社 NISSHA CO.,LTD. [JP/JP]; 京都府京都市中京区壬生花井町3番地 3, Mibu Hanai-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048551, JP
발명자:
面 了明 Omote, Ryomei; JP
西川 和宏 Nishikawa, Kazuhiro; JP
寺谷 和臣 Teratani, Kazuomi; JP
坂田 喜博 Sakata, Yoshihiro; JP
西村 剛 Nishimura, Takeshi; JP
砂走 孝邦 Sunahase, Takakuni; JP
우선권 정보:
2017-16607430.08.2017JP
발명의 명칭: (EN) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM D'ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電極フィルムおよびその製造方法
요약서:
(EN) [Problem] To provide an electrode film that is excellent in mesh pattern invisibility and image visibility, and a method for manufacturing the same. [Solution] A method for manufacturing an electrode film comprising: a step for sequentially stacking a metal layer and a black photoresist layer on a first principal surface of a transparent substrate; a step for partially exposing, developing, and patterning in a mesh shape the black photoresist layer; a step for processing the metal layer into a metal mesh electrode by, using the patterned black photoresist layer as an etching mask, etching the metal layer until the width thereof becomes smaller than the width of thin lines constituting a mesh of the black photoresist layer; and a step for softening the black photoresist layer by heating, and thereby covering not only the upper surface but also both side surfaces of each of thin lines constituting a mesh of the metal mesh electrode with a flap of the softened black photoresist layer.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un film d'électrode qui est excellent en termes d'invisibilité de motif de maillage et de visibilité d'image, et son procédé de fabrication. La solution selon l'invention concerne un procédé de fabrication d'un film d'électrode comprenant : une étape d'empilement séquentiel d'une couche métallique et d'une couche de résine photosensible noire sur une première surface principale d'un substrat transparent; une étape d'exposition partielle, de développement et de formation de motifs dans une forme de maille de la couche de résine photosensible noire; une étape de traitement de la couche métallique en une électrode à mailles métalliques par, à l'aide de la couche de résine photosensible noire à motifs en tant que masque de gravure, graver la couche métallique jusqu'à ce que sa largeur devienne plus petite que la largeur de lignes minces constituant un maillage de la couche de résine photosensible noire; et une étape pour ramollir la couche de résine photosensible noire par chauffage, et recouvrant ainsi non seulement la surface supérieure mais également les deux surfaces latérales de chacune des lignes fines constituant un maillage de l'électrode à mailles métalliques avec un rabat de la couche de résine photosensible noire ramollie.
(JA) 【課題】 メッシュパターンの不可視性および画像の視認性に優れた、電極フィルムおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 電極フィルムの製造方法は、透明基材の第一主面上に金属層、黒色フォトレジスト層を順次積層する工程と、前記黒色フォトレジスト層を部分的に露光し、現像してメッシュ形状にパターニングする工程と、パターニングされた前記黒色フォトレジスト層をエッチングマスクとして、前記黒色フォトレジスト層のメッシュを構成する細線幅より小幅となるまで前記金属層をエッチングして金属メッシュ電極に加工する工程と、前記黒色フォトレジスト層を加熱して軟化させ、軟化した前記黒色フォトレジスト層の垂れにより前記金属メッシュ電極のメッシュを構成する細線の上面のみならず両側面まで被覆させる工程と、を備える。
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공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)