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1. (WO2019043947) ETCHING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/043947 국제출원번호: PCT/JP2017/031799
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 04.09.2017
IPC:
H05B 33/10 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01)
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
10
전계발광광원의 제조에 특히 적용하는 장치 또는 공정
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
27
하나의 공통기판내 또는 기판상에 형성된 복수의 반도체구성부품 또는 기타 고체구성부품으로 구성된 장치
28
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 구성부품을 포함하는 것
32
광방출에 특별히 적용되는 구성부품을 가지는 것, 예.유기 발광 다이오드를 사용한 플랫 패널 디스플레이
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
50
광방출에 특별히 적용되는 것, 예. 유기 발광 다이오드(OLED) 또는 고분자 발광 다이오드 (PLED)
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
02
세부
출원인:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
발명자:
谷山 博己 TANIYAMA, Hiroki; --
岡部 達 OKABE, Tohru; --
齋田 信介 SAIDA, Shinsuke; --
市川 伸治 ICHIKAWA, Shinji; --
郡司 遼佑 GUNJI, Ryosuke; --
仲田 芳浩 NAKADA, Yoshihiro; --
井上 彬 INOUE, Akira; --
神村 浩治 JINMURA, Hiroharu; --
대리인:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) ETCHING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) エッチング装置、および表示装置の製造方法
요약서:
(EN) An etching device (1) is provided with: a chemical treatment tank (20), in which a substrate (2) is transferred; and a jetting section (21), which is disposed in the chemical treatment tank (20), and which has a blowout port (22) facing the direction not intersecting the surface of the substrate (2), said jetting section jetting a mist-like etchant chemical (22) through the blowout port (22).
(FR) La présente invention concerne un dispositif de gravure qui est pourvu : d'un réservoir de traitement chimique (20), dans lequel un substrat (2) est transféré ; et d'une section de projection (21), qui est disposée dans le réservoir de traitement chimique (20), et qui a un orifice de soufflage (22) faisant face à la direction ne croisant pas la surface du substrat (2), ladite section de projection projetant un produit chimique d'agent de gravure de type brume (22) à travers l'orifice de soufflage (22).
(JA) エッチング装置(1)は、内部で基板(2)が搬送される薬液処理槽(20)と、薬液処理槽(20)の内部に配置され、基板(2)の表面と交わらない方向に向く吹き出し口(22)を有し、かつ吹き出し口(22)を通じて霧状のエッチャント薬液(22)を噴射する噴射部(21)とを備えている。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)