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1. (WO2019043773) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATOR
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/043773 국제출원번호: PCT/JP2017/030851
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 29.08.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
G
X선 기술
2
X선의 발생에 특히 적합한 장치 또는 처리로서 X선관을 포함하지 않는 것, 예. 플라스마의 발생을 포함하는 것
출원인:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
발명자:
杉澤 克彦 SUGISAWA, Katsuhiko; JP
대리인:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATOR
(FR) GÉNÉRATEUR DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
요약서:
(EN) [Problem] To enable easy measurement of the film thickness of debris adhered to the surface of a component without the need for the extensive disassembly of the in-chamber component in an extreme ultraviolet light generator. [Solution] An extreme ultraviolet light generator (10) comprises: a chamber (5) for generating extreme ultraviolet light by irradiating a droplet comprising a target material with laser light; an EUV light collector mirror (11) that is an optical element arranged in the chamber (5); and measuring equipment (24, 25) that can move along the surface (11S) of the EUV light collector mirror and measures the film thickness of a target material adhered to the surface (11S).
(FR) L'invention aborde le problème de permettre une mesure aisée de l'épaisseur de film de débris collés à la surface d'un composant sans nécessiter un démontage extensif du composant en chambre dans un générateur de lumière ultraviolette extrême. La solution selon l'invention porte sur un générateur de lumière ultraviolette extrême (10) qui comprend : une chambre (5) pour générer une lumière ultraviolette extrême par irradiation d'une gouttelette comprenant un matériau cible avec une lumière laser ; un miroir collecteur de lumière EUV (11) qui est un élément optique disposé dans la chambre (5) ; et un équipement de mesure (24, 25) qui peut se déplacer le long de la surface (11S) du miroir collecteur de lumière EUV et mesure l'épaisseur de film d'un matériau cible collé à la surface (11S).
(JA) 【課題】極端紫外光生成装置において、大掛かりなチャンバ内部品の取り外しを必要とせずに、部品表面に付着したデブリの膜厚を簡便に測定可能とする。 【解決手段】極端紫外光生成装置(10)は、ターゲット材料からなるドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成するチャンバ(5)と、チャンバ(5)内に配置された光学素子であるEUV光コレクタミラー(11)と、EUV光コレクタミラーの表面(11S)に沿って移動可能であって、この表面(11S)に付着しているターゲット材料の膜厚を測定する測定装置(24、25)とを備える。
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유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)