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1. (WO2019043761) INFLEXIBLE SUBSTRATE PROVIDED WITH DISPLAY ELEMENT, AND FLEXIBLE DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/043761 국제출원번호: PCT/JP2017/030790
공개일: 07.03.2019 국제출원일: 28.08.2017
IPC:
G09F 9/00 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,G09F 9/35 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
09
교육; 암호방법; 전시; 광고; 봉인
F
표시; 광고; 사인; 라벨 또는 명찰; 시일
9
정보가 개별소자의 선택 또는 조합에 의하여 지지체상에 형성되는 가변정보용의 표시장치
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
1335
셀과 광학장치(예. 반사경, 편광자) 의 구조적 결합
G SECTION G — 물리학
09
교육; 암호방법; 전시; 광고; 봉인
F
표시; 광고; 사인; 라벨 또는 명찰; 시일
9
정보가 개별소자의 선택 또는 조합에 의하여 지지체상에 형성되는 가변정보용의 표시장치
30
필요한 문자가 개개요소를 조합하는 것에 의하여 형성되는 것
G SECTION G — 물리학
09
교육; 암호방법; 전시; 광고; 봉인
F
표시; 광고; 사인; 라벨 또는 명찰; 시일
9
정보가 개별소자의 선택 또는 조합에 의하여 지지체상에 형성되는 가변정보용의 표시장치
30
필요한 문자가 개개요소를 조합하는 것에 의하여 형성되는 것
35
액정이 있는 것
출원인:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
발명자:
金子 誠二 KANEKO, Seiji; --
神崎 庸輔 KANZAKI, Yohsuke; --
斉藤 貴翁 SAITOH, Takao; --
三輪 昌彦 MIWA, Masahiko; --
山中 雅貴 YAMANAKA, Masaki; --
대리인:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) INFLEXIBLE SUBSTRATE PROVIDED WITH DISPLAY ELEMENT, AND FLEXIBLE DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SUBSTRAT RIGIDE POURVU D'UN ÉLÉMENT D'AFFICHAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE SOUPLE
(JA) 表示素子を備えた非可撓性基板及び可撓性表示装置の製造方法
요약서:
(EN) In a right-side PI layer inclined area (RPA), a photosensitive PI layer (10), which covers a ground PI layer (2) exposed from an inorganic film composed of a moisture-proof layer (3), a gate insulation layer (5), a second insulation layer (7), and a third insulation layer (9), is formed.
(FR) Selon la présente invention, dans une zone inclinée de couche PI côté droit (RPA), une couche PI photosensible (10), qui recouvre une couche PI de mise à la terre (2) visible au niveau d'un film inorganique composé d'une couche étanche à l'humidité (3), d'une couche d'isolation de grille (5), d'une deuxième couche d'isolation (7) et d'une troisième couche d'isolation (9), est formée.
(JA) 右側PI層傾斜領域(RPA)においては、防湿層(3)とゲート絶縁層(5)と第2絶縁層(7)と第3絶縁層(9)との無機膜から露出する下地PI層(2)を覆う感光性PI層(10)が形成されている。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)