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1. (WO2019039355) COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/039355 국제출원번호: PCT/JP2018/030292
공개일: 28.02.2019 국제출원일: 14.08.2018
IPC:
G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
09
구조적 세부, 예 지지체, 보조층에 특징이 있는 것
11
피복체 또는 중간체, 예 하인(subbing)층을 갖는 것
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
027
후속 포토리소그래픽(photolithographic) 공정을 위한 반도체본체상의 마스크 제조, 그룹 21/18 또는 21/34에 분류된 것은 제외
출원인:
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
발명자:
緒方 裕斗 OGATA, Hiroto; JP
臼井 友輝 USUI, Yuki; JP
遠藤 雅久 ENDO, Masahisa; JP
岸岡 高広 KISHIOKA, Takahiro; JP
대리인:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
우선권 정보:
2017-16148024.08.2017JP
발명의 명칭: (EN) COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
(FR) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSINE
(JA) レジスト下層膜形成組成物
요약서:
(EN) [Problem] To provide a novel composition for forming a resist underlayer film. [Solution] A composition for forming a resist underlayer film, which contains a copolymer having a constituent unit represented by formula (1) and a solvent. (In the formula, X represents a bivalent linear hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, wherein the bivalent linear hydrocarbon group may have at least one sulfur or oxygen atom in the main chain thereof and may have at last one hydroxy group as a substituent; R represents a linear hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms; and two n's independently represent 0 or 1.)
(FR) L'invention concerne une nouvelle composition de formation d'un film de sous-couche de résine. La solution selon l'invention porte sur une composition pour la formation d'un film de sous-couche de résine qui contient un copolymère ayant une unité structurelle représentée par la formule (1), et un solvant. Dans la formule, X représente un groupe hydrocarbure linéaire bivalent ayant 2 à 10 atomes de carbone, le groupe hydrocarbure linéaire bivalent pouvant avoir au moins un atome de soufre ou d'oxygène dans sa chaîne principale et pouvant avoir au moins un groupe hydroxy en tant que substituant; R représente un groupe hydrocarbure linéaire ayant de 1 à 10 atomes de carbone; et deux n représentent indépendamment 0 ou 1.
(JA) 【課題】 新規なレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される構造単位を有する共重合体及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物。(上記式中、Xは炭素原子数2乃至10の二価の鎖状炭化水素基を表し、該二価の鎖状炭化水素基は、主鎖に硫黄原子又は酸素原子を少なくとも1つ有していてもよく、また置換基としてヒドロキシ基を少なくとも1つ有していてもよく、Rは炭素原子数1乃至10の鎖状炭化水素基を表し、2つのnはそれぞれ0又は1を表す。)
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아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)