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1. (WO2019033307) WASTE LIQUID STORAGE DEVICE AND WET ETCHING SYSTEM
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/033307 국제출원번호: PCT/CN2017/097696
공개일: 21.02.2019 국제출원일: 16.08.2017
IPC:
C02F 9/06 (2006.01) ,C02F 1/72 (2006.01) ,B65D 88/54 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
02
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
F
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
9
물, 폐수 또는 하수의 다단계 처리
04
화학적 처리 단계를 최소한 한 개 갖는 것
06
전기 화학적 처리
C SECTION C — 화학; 야금
02
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
F
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
1
물, 폐수 또는 하수의 처리
72
산화에 의한 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
65
운반; 포장; 저장; 얇거나 단섬유 부재의 취급
D
물품 또는 재료의 보관 또는 수송용의 용기, 예. 장류(Bags), 나무통, 병, 상자, 캔류(Cans), 마분지 상자(Carton), 나무상자(Crate), 드럼, 호리병(Jars), 탱크, 호퍼(Hopper), 운송 콘테이너, 부속품, 폐개구(Closures) 또는 그 부착; 포장 요소; 포장체
88
대형 용기
54
채워 넣기(filling) 또는 하역(emptying)을 용이하게 하는 수단에 의해서 특징 지어진 것
출원인:
深圳市柔宇科技有限公司 SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋 Building #43, Dayun Software Town, No. 8288 Longgang Road, Henggang Street, Longgang District Shenzhen, Guangdong 518052, CN
발명자:
徐蕊 XU, Rui; CN
曹飞 CAO, Fei; CN
钟仁聪 ZHONG, Rencong; CN
대리인:
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; 中国北京市 清华园清华大学照澜院商业楼301室 Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan Beijing 100084, CN
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) WASTE LIQUID STORAGE DEVICE AND WET ETCHING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE STOCKAGE DE DÉCHETS LIQUIDES ET SYSTÈME DE GRAVURE HUMIDE
(ZH) 废液存储装置和湿式蚀刻系统
요약서:
(EN) A waste liquid storage device (10) and a wet etching system having the waste liquid storage device (10), for storing a waste liquid (20) generated by wet etching. The waste liquid (20) comprises a first solute (22) and a second solute (24), and the second solute (24) is a catalyst for an exothermic oxidation reaction of the first solute (22). The waste liquid storage device (10) comprises a first liquid storage tank (11) and a first conduit (12) for connecting an external complexant solution source (30) with the first liquid storage tank (11). The first liquid storage tank (11) is used for storing the waste liquid (20), the first conduit (12) is used for channeling a complexant (32) to the first liquid storage tank (11), and the complexant (32) is used to inhibit the catalytic ability of the second solute (24) for reaction of the first solute (22). The wet etching system (100) comprises a wet etching machine (40) for etching workpieces and generating the waste liquid (20), and the waste liquid storage device (10).
(FR) Un dispositif de stockage de déchets liquides (10) et un système de gravure humide comprenant le dispositif de stockage de déchets liquides (10), pour stocker un liquide résiduaire (20) généré par gravure humide. Le liquide résiduaire (20) comprend un premier soluté (22) et un second soluté (24), le second soluté (24) étant un catalyseur pour une réaction d'oxydation exothermique du premier soluté (22). Le dispositif de stockage de déchets liquides (10) comprend un premier réservoir de stockage de liquide (11) et un premier conduit (12) pour relier une source de solution de complexant externe (30) au premier réservoir de stockage de liquide (11). Le premier réservoir de stockage de liquide (11) est utilisé pour stocker les déchets liquides (20), le premier conduit (12) est utilisé pour acheminer un complexant (32) vers le premier réservoir de stockage de liquide (11), et le complexant (32) est utilisé pour inhiber l'action catalytique du second soluté (24) dans la réaction du premier soluté (22). Le système de gravure humide (100) comprend une machine de gravure humide (40) pour graver des pièces et générer les déchets liquides (20), et le dispositif de stockage de déchets liquides (10).
(ZH) 一种废液存储装置(10)及具有该废液存储装置(10)的湿式蚀刻系统,用于存储湿式蚀刻产生的废液(20),废液(20)包括第一溶质(22)和第二溶质(24),第二溶质(24)为第一溶质(22)发生放热氧化反应的催化剂,废液存储装置(10)包括第一储液罐(11)和连接外部的络合剂溶液源(30)与第一储液罐(11)的第一管路(12),第一储液罐(11)用于存储废液(20),第一管路(12)用于将络合剂(32)导引到第一储液罐(11),络合剂(32)用于抑制第二溶质(24)对第一溶质(22)反应的催化能力。其中,湿式蚀刻系统(100)包括用于蚀刻工件和产生废液(20)的湿式蚀刻机台(40)和废液存储装置(10)。
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아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 중국어 (ZH)
출원언어: 중국어 (ZH)