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1. (WO2019032700) SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HAVING MAGNETIC CORE INDUCTOR AND METHOD OF MAKING SAME
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/032700 국제출원번호: PCT/US2018/045807
공개일: 14.02.2019 국제출원일: 08.08.2018
IPC:
H01L 49/02 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/311 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
49
27/00 ~ 47/00 및 51/00으로 분류되지 않고, 다른 서브클래스에도 분류되지 않는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
02
박막 또는 후막장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
027
후속 포토리소그래픽(photolithographic) 공정을 위한 반도체본체상의 마스크 제조, 그룹 21/18 또는 21/34에 분류된 것은 제외
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
04
적어도 하나의 전위장벽 또는 표면장벽(예. PN접합, 공핍층, 캐리어 밀집층)을 갖는 장치
18
불순물(예, 도우핑 물질)을 포함하고 있거나 포함하지 않는 주기율표 제4족의 원소 또는 Ⅲ-Ⅴ족 화합물로 구성된 반도체본체를 갖는 장치
30
21/20~ 21/26에 분류되지 않은 방법이나 장비를 사용한 반도체본체의 처리
31
반도체본체상에 절연층 형성. 예. 마스킹용 또는 사진석판기술의 이용에 의한 것; 절연층의 후처리; 절연층에 적합한 물질의 선택
3105
후처리
311
절연층을 에칭
출원인:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
발명자:
SUO, Peng; SG
GU, Yu; SG
SEE, Guan Huei; SG
SUNDARRAJAN, Arvind; SG
대리인:
PATEL, Ronak, A.; US
TABOADA, Alan; US
MOSER, Raymond R., Jr.; US
LINARDAKIS, Leonard, P.; US
우선권 정보:
16/056,84707.08.2018US
62/544,74411.08.2017US
발명의 명칭: (EN) SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HAVING MAGNETIC CORE INDUCTOR AND METHOD OF MAKING SAME
(FR) SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR AYANT UNE BOBINE D'INDUCTANCE À NOYAU MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
요약서:
(EN) A method of forming a magnetic core on a substrate having a stacked inductor coil includes etching a plurality of polymer layers to form at least one feature through the plurality of polymer layers, wherein the at least one feature is disposed within a central region of a stacked inductor coil formed on the substrate; and depositing a magnetic material within the at least one feature.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation d'un noyau magnétique sur un substrat ayant une bobine d'inductance empilée comprenant la gravure d'une pluralité de couches polymères pour former au moins une caractéristique à travers la pluralité de couches polymères, ladite au moins une caractéristique étant disposée à l'intérieur d'une région centrale d'une bobine d'inductance empilée formée sur le substrat ; et le dépôt d'un matériau magnétique à l'intérieur de ladite caractéristique.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)