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1. (WO2019031361) PELLICLE AND METHOD FOR PRODUCING PELLICLE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/031361 국제출원번호: PCT/JP2018/028904
공개일: 14.02.2019 국제출원일: 01.08.2018
IPC:
G03F 1/62 (2012.01) ,G03F 1/64 (2012.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
1
질감이 있거나 무늬가 있는 표면의 사진제판법 제품을 위한 원화, 예. 마스크, 포토-마스크 또는 레티클(reticle); 마스크 블랭크(mask blank) 또는 그 투과필름(pellicle); 그를 위해 특히 적용된 용기; 그 준비과정
62
투과필름(pellicle) 또는 투과필름 집합체, 예. 지지체 상에 얇은 막을 가지는 것; 그 준비과정
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
1
질감이 있거나 무늬가 있는 표면의 사진제판법 제품을 위한 원화, 예. 마스크, 포토-마스크 또는 레티클(reticle); 마스크 블랭크(mask blank) 또는 그 투과필름(pellicle); 그를 위해 특히 적용된 용기; 그 준비과정
62
투과필름(pellicle) 또는 투과필름 집합체, 예. 지지체 상에 얇은 막을 가지는 것; 그 준비과정
64
지지체에 의해 특징지어 지는 것, 예. 구조 또는 그 재료
출원인:
エア・ウォーター株式会社 AIR WATER INC. [JP/JP]; 北海道札幌市中央区北3条西1丁目2番地 2, Kita 3-jo Nishi 1-chome, Chuo-ku, Sapporo-shi Hokkaido 0600003, JP
발명자:
奥 秀彦 OKU, Hidehiko; JP
秀 一郎 HIDE, Ichiro; JP
대리인:
椿 豊 TSUBAKI, Yutaka; JP
우선권 정보:
2017-15356908.08.2017JP
발명의 명칭: (EN) PELLICLE AND METHOD FOR PRODUCING PELLICLE
(FR) PELLICULE ET PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DES PELLICULES
(JA) ペリクルおよびペリクルの製造方法
요약서:
(EN) Provided are: a pellicle (1) which is capable of improving the production yield; and a method for producing a pellicle. This method for producing a pellicle comprises: a step for preparing a supporting body (3) that contains Si; and a step for forming a pellicle film (4) on the surface of the supporting body. The step for forming a pellicle film comprises: a step for forming an SiC film (121) that has a first average carbon concentration on the surface of the supporting body by carbonizing Si in the surface of the supporting body; and a step for forming an SiC film (122) that has a second average carbon concentration which is different from the first average carbon concentration on the surface of the SiC film. This method for producing a pellicle additionally comprises a step for having at least a part of the back surface of an SiC film (12) exposed by means of wet etching.
(FR) L'invention concerne : une pellicule (1) qui est capable d'améliorer le rendement de production ; et un procédé pour produire une pellicule. Ce procédé pour produire une pellicule comprend : une étape de préparation d'un support (3) qui contient du Si ; et une étape de formation d'un film de pellicule (4) sur la surface du support. L'étape de formation d'un film de pellicule comprend : une étape consistant à saturer de Si la surface du support pour former sur la surface du support un film en SiC (121) ayant une première concentration moyenne en carbone ; et une étape consistant à former sur la surface du film de SiC un film de SiC (122) ayant une seconde concentration moyenne en carbone qui est différente de la première concentration moyenne en carbone. Ce procédé de fabrication d'une pellicule comprend également une étape consistant à exposer au moins une partie de la surface arrière d'un film de SiC (12) au moyen d'une gravure humide.
(JA) 製造歩留まりを向上することのできるペリクル(1)およびペリクルの製造方法を提供する。ペリクルの製造方法は、Siを含む支持体(3)を準備する工程と、支持体の表面にペリクル膜(4)を形成する工程とを備える。ペリクル膜を形成する工程は、支持体の表面のSiを炭化することにより、支持体の表面に、第1の平均炭素濃度を有するSiC膜(121)を形成する工程と、SiC膜の表面に、第1の平均炭素濃度とは異なる第2の平均炭素濃度を有するSiC膜(122)を成膜する工程とを含む。ペリクルの製造方法は、ウエットエッチングによりSiC膜(12)の裏面の少なくとも一部を露出させる工程をさらに備える。
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공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)