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1. (WO2019031250) RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/031250 국제출원번호: PCT/JP2018/027972
공개일: 14.02.2019 국제출원일: 25.07.2018
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
038
불용성 또는 특이적으로 친수성으로 된 고분자화합물
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
04
크롬산염
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
출원인:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
발명자:
中川 恭志 NAKAGAWA Hisashi; JP
浅野 裕介 ASANO Yusuke; JP
峯岸 信也 MINEGISHI Shinya; JP
대리인:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
우선권 정보:
2017-15612610.08.2017JP
발명의 명칭: (EN) RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
요약서:
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a radiation sensitive composition which has excellent sensitivity and resolution; and a resist pattern forming method. The present invention is a radiation sensitive composition which contains a polymetalloxane that has a structural unit represented by formula (1), a radiation sensitive acid generator, and a solvent. In formula (1), M represents a germanium atom, a tin atom or a lead atom; Ar1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6-20 ring members or a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 5-20 ring members; R1 represents a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, a hydrogen atom, a halogen atom or a hydroxy group; and n represents 2 or 3.
(FR) L'invention a pour objet de fournir une composition sensible au rayonnement excellente en termes de sensibilité et de résolution, et un procédé de formation de motif de réserve. Plus précisément, l'invention concerne une composition sensible au rayonnement qui comprend un polymétalloxane présentant une unité structurale représentée par la formule (1), un corps générant un acide sensible au rayonnement, et un solvant. Dans la formule (1), M représente un atome de germanium, un atome d'étain ou un atome de plomb. Ar représente un groupe aryle de 6 à 20 chaînons substitué ou non substitué, ou un groupe hétéroaryle de 5 à 20 chaînons substitué ou non substitué. R représente un groupe organique monovalent de 1 à 20 atomes de carbone, un atome d'hydrogène, un atome d'hlogène et un groupe hydroxy. n représente 2 ou 3.
(JA) 感度及び解像性に優れる感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される構造単位を有するポリメタロキサンと、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)中、Mは、ゲルマニウム原子、スズ原子又は鉛原子である。Arは、置換若しくは非置換の環員数6~20のアリール基又は置換若しくは非置換の環員数5~20のヘテロアリール基である。Rは、炭素数1~20の1価の有機基、水素原子、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。nは、2又は3である。
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아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)