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1. (WO2019028201) TRANSLUCENT COC POLYMER COMPOUNDS FOR 3D PRINTING
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/028201 국제출원번호: PCT/US2018/044910
공개일: 07.02.2019 국제출원일: 02.08.2018
IPC:
C08L 45/00 (2006.01) ,C08F 232/04 (2006.01) ,C08L 53/00 (2006.01) ,C08L 53/02 (2006.01) ,B29C 64/00 (2017.01) ,B33Y 70/00 (2015.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
45
곁사슬에 불포화 지방족기를 갖지 않고 탄소 고리 또는 헤테로 고리계에 한 개 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 화합물의 호모중합체 또는 공중합체의 조성물; 그런 고분자 유도체의 조성물
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
232
탄소 고리에 하나 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하고 곁사슬에 불포화 지방족기를 갖지 않는 고리 화합물의 공중합체
02
.축합 고리를 갖지 않는 것
04
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
53
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자의 서열을 하나라도 함유하는 블록 공중합체의 조성물; 그러한 고분자 유도체의 조성물
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
53
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자의 서열을 하나라도 함유하는 블록 공중합체의 조성물; 그러한 고분자 유도체의 조성물
02
.비닐 방향족 단량체 및 콘쥬게이트 디엔의
[IPC code unknown for B29C 64][IPC code unknown for B33Y 70]
출원인:
POLYONE CORPORATION [US/US]; 33587 Walker Road Avon Lake, Ohio 44012, US
발명자:
AVAKIAN, Roger W.; US
DUAN, Yannan; US
대리인:
HORNICKEL, John H.; US
SAMBROOK, Michael J.; US
우선권 정보:
62/540,76403.08.2017US
발명의 명칭: (EN) TRANSLUCENT COC POLYMER COMPOUNDS FOR 3D PRINTING
(FR) COMPOSÉS POLYMÈRES COC TRANSLUCIDES POUR IMPRESSION 3D
요약서:
(EN) Cyclic olefin copolymer (COC) is useful as a build material for 3D printing, especially desktop 3D printing. Low haze and high transmission versions are a function of specific grades of styrenic block copolymer (SBC) used for impact modification.
(FR) La présente invention concerne un copolymère d'oléfine cyclique (COC) utile comme matériau de construction pour l'impression 3D, en particulier l'impression 3D de bureau. Des versions à faible voile et transmission élevée dépendent de grades spécifiques de copolymère bloc styrénique (SBC) utilisé pour la modification d'impact.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)