이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019009477) 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치 및 그 방법
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/009477 국제출원번호: PCT/KR2017/014065
공개일: 10.01.2019 국제출원일: 04.12.2017
IPC:
A61N 1/08 (2006.01) ,A61N 1/06 (2006.01) ,A61N 1/40 (2006.01) ,A61N 7/00 (2006.01) ,A61N 7/02 (2006.01)
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
1
전기치료; 그것을 위한 회로
02
세부
08
감시, 보호, 제어 또는 표시를 위한 회로 또는 장치
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
1
전기치료; 그것을 위한 회로
02
세부
04
전극
06
고주파치료를 위한 것
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
1
전기치료; 그것을 위한 회로
40
유도성 또는 용량성 결합(capacitive coupling)에 의한 전기장을 적용
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
7
초음파치료
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
7
초음파치료
02
국소용 초음파 고온체
출원인:
대양의료기(주) DAEYANG MEDICAL CO.,LTD. [KR/KR]; 강원도 원주시 문막읍 동화공단로 147 147, Donghwagongdan-ro, Munmak-eup Wonju-si Gangwon-do 26365, KR
발명자:
윤정섭 YUN, Jeong Sub; KR
김원기 KIM, Won Ky; KR
김명선 KIM, Myoung Sun; KR
전세훈 JEON, Se Hoon; KR
대리인:
최호석 CHOI, Ho Suk; KR
우선권 정보:
10-2017-008548905.07.2017KR
10-2017-008549605.07.2017KR
10-2017-015551921.11.2017KR
발명의 명칭: (EN) DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING IMPEDANCE MATCHING FOR VERY HIGH FREQUENCY TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE POUR UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT À TRÈS HAUTE FRÉQUENCE
(KO) 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치 및 그 방법
요약서:
(EN) The present invention relates to a device and method for controlling impedance matching for a very high frequency treatment device and, more particularly, to a device for controlling impedance matching for a very high frequency treatment device, wherein the device for controlling impedance matching is provided in a very high frequency treatment device comprising a very high frequency emitter for emitting a very high frequency on the skin, and comprises a first variable capacitor for measuring impedance within the very high frequency treatment device and a second variable capacitor for measuring impedance within the body of a person receiving treatment. The present invention enables impedance matching between impedance within a very high frequency treatment device and impedance within the body of a person receiving treatment, and thus can efficiently transfer energy to the skin when a very high frequency treatment is performed, and stably maintain an output of a very high frequency.
(FR) La présente invention concerne un dispositif et un procédé pour commander une adaptation d'impédance pour un dispositif de traitement à très haute fréquence et, plus particulièrement, un dispositif pour commander une adaptation d'impédance pour un dispositif de traitement à très haute fréquence, le dispositif de commande d'adaptation d'impédance étant prévu dans un dispositif de traitement à très haute fréquence comprenant un émetteur de très haute fréquence pour émettre une très haute fréquence sur la peau, et comprend un premier condensateur variable pour mesurer l'impédance à l'intérieur du dispositif de traitement à très haute fréquence et un second condensateur variable pour mesurer l'impédance à l'intérieur du corps d'une personne recevant un traitement. La présente invention permet une adaptation d'impédance entre l'impédance à l'intérieur d'un dispositif de traitement à très haute fréquence et l'impédance à l'intérieur du corps d'une personne recevant un traitement, et permet ainsi de transférer efficacement de l'énergie à la peau lorsqu'un traitement à très haute fréquence est effectué, et de maintenir de manière stable une sortie de très haute fréquence.
(KO) 본 발명은 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 초단파를 피부에 조사하는 초단파 방출기를 포함한 초단파 치료 장치에 구비되되, 초단파 치료 장치 내 임피던스를 측정하기 위한 제1 가변 콘덴서 및 피시술자의 신체 내 임피던스를 측정하기 위한 제2 가변 콘덴서를 포함하는 초단파 치료 장치용 임피던스 매칭 제어 장치에 있어서, 초단파 치료 장치 내 임피던스와 피시술자의 신체 내 임피던스를 매칭시켜 초단파 치료 시 에너지를 효율적으로 피부에 전달하고, 초단파의 출력을 안정적으로 유지할 수 있도록 한다.
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)