이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019009316) MULTILAYER FILM STACK
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/009316 국제출원번호: PCT/JP2018/025294
공개일: 10.01.2019 국제출원일: 04.07.2018
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 27/08 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
5
렌즈 이외 광학요소
30
편광요소
B SECTION B — 처리조작; 운수
32
적층체
B
적층체, 즉 평평하거나 평평하지 않은 형상 (예. 세포상(cellular) 또는 벌집 구조(honeycomb)) 의 층으로 조립된 제품
7
층간의 관계를 특징으로 하는 적층체, 예를 들어 본질적으로 다른 물리적 성질을 갖는 층 또는 층의 상호 연결을 특징으로 하는 적층체
02
물리적 성질에 관한 것(예. 경도)
B SECTION B — 처리조작; 운수
32
적층체
B
적층체, 즉 평평하거나 평평하지 않은 형상 (예. 세포상(cellular) 또는 벌집 구조(honeycomb)) 의 층으로 조립된 제품
27
본질적으로 합성 수지에서 되는 적층체
06
층의 주된 또는 유일한 구성요소가 상기의 물질이고 특정물질의 다른 층에 인접한 것
08
다른 종류의 합성수지층에 인접한 것
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
1335
셀과 광학장치(예. 반사경, 편광자) 의 구조적 결합
출원인:
帝人フィルムソリューション株式会社 TEIJIN FILM SOLUTIONS LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関三丁目2番1号 2-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000013, JP
발명자:
廣瀬 周 HIROSE Amane; JP
東條 光峰 TOJO Mitsuo; JP
대리인:
為山 太郎 TAMEYAMA, Taro; JP
우선권 정보:
2017-13370307.07.2017JP
발명의 명칭: (EN) MULTILAYER FILM STACK
(FR) EMPILEMENT DE FILM MULTICOUCHE
(JA) 多層積層フィルム
요약서:
(EN) A multilayer film stack includes: a multilayered stack structure wherein a first layer containing a first resin and a second layer containing a second resin are alternately stacked; and a thick film layer in contact with the multilayered stack structure. The multilayered stack structure includes a layer thickness profile that has a repeating unit made up of a single first layer and a single second layer having a physical thickness. The layer thickness profile includes a region of monotonically-increasing thickness and a thin layer region. The thin layer region has at least three repeating units. A ratio L2/L1 is 0.85 or less and a ratio A2/L1 is 0.70 or less where L1 represents the maximum thickness of the repeating units in the region of monotonically-increasing thickness, L2 represents the maximum thickness of the repeating units in the thin layer region, and A2 represents an average thickness in the thin layer region. The thin layer region is located on the thicker portion side of the region of monotonically-increasing thickness to come in contact with the thick film layer.
(FR) La présente invention concerne un empilement de film multicouche qui comprend : une structure d’empilement multicouche dans laquelle une première couche contenant une première résine et une deuxième couche contenant une deuxième résine sont empilées en alternance ; et une couche de film épaisse en contact avec la structure d’empilement multicouche. La structure d’empilement multicouche comprend un profil d’épaisseur de couche qui comporte un motif de répétition constitué d’une première couche unique et d’une deuxième couche unique ayant une épaisseur physique. Le profil d’épaisseur de couche comprend une région d’épaisseur augmentant de façon monotone et une région de couche mince. La région de couche mince comporte au moins trois motifs de répétition. Un rapport L2/L1 est de 0,85 ou moins et un rapport A2/L1 est de 0,70 ou moins, où L1 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région d’épaisseur augmentant de façon monotone, L2 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région de couche mince, et A2 représente une épaisseur moyenne dans la région de couche mince. La région de couche mince est située sur le côté de la partie plus épaisse de la région d’épaisseur augmentant de façon monotone de façon à venir en contact avec la couche de film épaisse.
(JA) 第1の樹脂を含む第1層と第2の樹脂を含む第2層とが交互に積層した多層積層構造と、それに接した厚膜層とを有しており、前記多層積層構造は、1つの第1層と1つの第2層とを有する繰返し単位の物理厚みでの層厚みプロファイルを有し、当該層厚みプロファイルは厚み単調増加領域と薄層領域とを有し、前記薄層領域は、少なくとも3つの繰り返し単位を有し、薄層領域における繰り返し単位の最大厚みをL2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比L2/L1が0.85以下であり、且つ、薄層領域の平均厚みをA2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比A2/L1が0.70以下である領域であり、前記薄層領域が厚み単調増加領域の厚みが厚い側にあり、そして厚膜層と接するように存在する、多層積層フィルム。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)