이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019009304) GAS TREATMENT DEVICE, GAS MANUFACTURING SYSTEM, AND ENERGY GENERATING SYSTEM
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/009304 국제출원번호: PCT/JP2018/025268
공개일: 10.01.2019 국제출원일: 03.07.2018
IPC:
B01J 19/12 (2006.01) ,B01D 53/00 (2006.01) ,F02M 27/04 (2006.01) ,B01J 19/08 (2006.01) ,G21H 5/00 (2006.01)
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
J
화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치
19
화학적, 물리적 또는 물리화학적 프로세스 일반; 그것들에 관련한 장치
08
전기 또는 파동에너지를 직접 적용하는 또는 입자선 방사를 사용하는 프로세스; 그를 위한 장치
12
전자파의 이용
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
D
분리
53
가스 또는 증기의 분리; 기체로부터 휘발성 용제증기의 회수; 폐가스, 예를 들어 엔진배기가스, 매연, 연기굴뚝연기 등의 화학적 또는 생물학적 정화; 또는 에어로졸
F SECTION F — 기계공학; 조명; 가열; 무기; 폭파
02
연소기관(열가스 또는 연소생성물을 이용하는 기관설비)
M
일반 연소기관에의 가연혼합물 또는 그의 성분의 공급
27
촉매, 전기적수단, 자기, 광선, 음파등에 의하여 연소공 기, 연료 또는 연료-공기혼합기를 처리하는 장치
04
전기적 수단 또는 자기에 의한 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
J
화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치
19
화학적, 물리적 또는 물리화학적 프로세스 일반; 그것들에 관련한 장치
08
전기 또는 파동에너지를 직접 적용하는 또는 입자선 방사를 사용하는 프로세스; 그를 위한 장치
G SECTION G — 물리학
21
핵공학
H
방사선원으로부터의 에너지 취득; 방사선원으로부터의 방사선의 응용; 우주선의 이용
5
방사선원에서의 방사선응용 또는 그것을 위한 장치
출원인:
林 芳信 HAYASHI, Yoshinobu [JP/JP]; JP
발명자:
林 芳信 HAYASHI, Yoshinobu; JP
대리인:
八木澤 史彦 YAGISAWA, Fumihiko; JP
佐藤 武史 SATO, Takeshi; JP
우선권 정보:
2017-13301006.07.2017JP
발명의 명칭: (EN) GAS TREATMENT DEVICE, GAS MANUFACTURING SYSTEM, AND ENERGY GENERATING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF D'ÉPURATION DES GAZ, SYSTÈME DE FABRICATION DE GAZ ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'ÉNERGIE
(JA) 気体処理装置、ガス製造システム及びエネルギー生成システム
요약서:
(EN) [Problem] To provide a gas treatment device for efficiently treating a gas, a gas manufacturing system, and an energy generating system. [Solution] A gas treatment device 1 has a main body member 10 forming a passage for air, and hollow shaped gate members 30 disposed at each of an entry side where air enters the main body member 10 and an exit side where air leaves the main body member 10. A plurality of through holes that form the passage for air are formed in the main body member 10, and α-ray radiating bodies are affixed to the inside surfaces of the through holes.
(FR) [Problème] Fournir un dispositif d'épuration de gaz pour traiter efficacement un gaz, un système de fabrication de gaz et un système de production d'énergie. [Solution] Un dispositif de traitement de gaz 1 comprenant un élément de corps principal 10 formant un passage pour l'air, et des éléments d'entrée de forme creuse 30 disposés de chaque côté d'une entrée où l'air entre dans l'élément de corps principal 10 et un côté de sortie où l'air quitte l'élément de corps principal 10. Plusieurs trous débouchants qui forment le passage pour l'air sont en place dans l'élément de corps principal 10, et des corps à rayonnement de rayons alpha sont installés dans les surfaces intérieures des trous débouchants.
(JA) 【課題】効率的に気体を処理する気体処理装置、ガス製造システム及びエネルギー生成システムを提供すること。 【解決手段】気体処理装置1は、気体の通路となる本体部材10と、本体部材10に気体が入る入口側と本体部材10から気体が出る出口側にそれぞれ配置される中空形状のゲート部材30とを有し、本体部材10には、気体の通路となる複数の貫通孔が形成されており、貫通孔の内側面にα線放射体が固定されている。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)