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1. (WO2019009301) SILICOTITANATE MOLDED BODY, METHOD FOR PRODUCING SAME, CESIUM AND/OR STRONTIUM ADSORBENT CONTAINING SILICOTITANATE MOLDED BODY, AND DECONTAMINATION METHOD FOR RADIOACTIVE WASTE LIQUID USING SAID ADSORBENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/009301 국제출원번호: PCT/JP2018/025253
공개일: 10.01.2019 국제출원일: 03.07.2018
IPC:
C04B 35/462 (2006.01) ,B01J 20/10 (2006.01) ,B01J 20/28 (2006.01) ,B01J 20/30 (2006.01) ,B28B 3/20 (2006.01) ,C01B 33/20 (2006.01) ,C04B 35/499 (2006.01) ,G21F 9/12 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
35
조성에 특징을 갖는 성형세라믹제품; 세라믹조성; 세라믹제품의 제조전의 무기화합물의 처리분말
01
.산화물을 기재로 하는 것
46
산화티탄 또는 티탄산염을 기재로 하는 것
462
티탄산염을 기재로 하는 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
J
화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치
20
고체흡착조성물 또는 여과조제조성물; 크로마토그래피용 흡착제; 그러한 조제, 재생 또는 재활성화를 위한 프로세스
02
무기물로 이루어지는 것
10
실리카 또는 규산염으로 이루어지는 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
J
화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치
20
고체흡착조성물 또는 여과조제조성물; 크로마토그래피용 흡착제; 그러한 조제, 재생 또는 재활성화를 위한 프로세스
28
형태 또는 물리적 성질에 특징이 있는 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
01
물리적 방법, 화학적 방법 또는 장치일반
J
화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치
20
고체흡착조성물 또는 여과조제조성물; 크로마토그래피용 흡착제; 그러한 조제, 재생 또는 재활성화를 위한 프로세스
30
제조, 재생 또는 재활성화를 위한 공정
B SECTION B — 처리조작; 운수
28
시멘트, 점토 또는 석재의 가공
B
점토 또는 다른 세라믹 조성물, 슬래그 또는 시멘트 함유 혼합물, 예. 플래스터의 성형
3
압착의 사용에 의한 재료로부터의 성형품의 제조; 그것을 위하여 특히 적합한 프레스
20
재료가 밀려나는 것
C SECTION C — 화학; 야금
01
무기화학
B
비금속 원소; 그 화합물
33
규소; 그 화합물
20
규산염
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
35
조성에 특징을 갖는 성형세라믹제품; 세라믹조성; 세라믹제품의 제조전의 무기화합물의 처리분말
01
.산화물을 기재로 하는 것
495
바나듐, 니오븀, 탄탈륨, 몰리브덴늄 또는 텅스텐산화물 또는 이들의 고용체와 다른 산화물을 기재로 하는 것, 예, 바나딘산염, 니오브산염, 탄탈산염, 몰리브덴산염 또는 텅스텐산염
497
고용체와 산화연을 기재로 하는 것
499
티탄산염도 함유하는 것
G SECTION G — 물리학
21
핵공학
F
X선, 감마(gamma)선, 미립자선 또는 입자충격에 대한 보호; 방사능 오염물질의 처리; 오염제거장치
9
오염제거장치; 방사능 오염물질의 처리
04
액체의 처리
06
처리
12
흡수에 의한 것; 흡착에 의한 것; 이온교환에 의한 것
출원인:
株式会社荏原製作所 EBARA CORPORATION [JP/JP]; 東京都大田区羽田旭町11番1号 11-1, Haneda Asahi-cho, Ota-ku, Tokyo 1448510, JP
日本化学工業株式会社 NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 東京都江東区亀戸9丁目11番1号 11-1, Kameido 9-chome, Koto-ku, Tokyo 1368515, JP
발명자:
佐久間 貴志 SAKUMA, Takashi; JP
小松 誠 KOMATSU, Makoto; JP
出水 丈志 IZUMI, Takeshi; JP
宮部 慎介 MIYABE, Shinsuke; JP
坂本 剛 SAKAMOTO, Takeshi; JP
野口 英治 NOGUCHI, Eiji; JP
杉原 かおり SUGIHARA, Kaori; JP
대리인:
小野 新次郎 ONO, Shinjiro; JP
松山 美奈子 MATSUYAMA, Minako; JP
鐘ヶ江 幸男 KANEGAE, Yukio; JP
우선권 정보:
2017-13180905.07.2017JP
발명의 명칭: (EN) SILICOTITANATE MOLDED BODY, METHOD FOR PRODUCING SAME, CESIUM AND/OR STRONTIUM ADSORBENT CONTAINING SILICOTITANATE MOLDED BODY, AND DECONTAMINATION METHOD FOR RADIOACTIVE WASTE LIQUID USING SAID ADSORBENT
(FR) CORPS MOULÉ DE SILICOTITANATE AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, AGENT D'ABSORPTION DE CÉSIUM ET/OU STRONTIUM CONTENANT CE CORPS MOULÉ DE SILICOTITANATE, ET PROCÉDÉ DE DÉCONTAMINATION D'EFFLUENTS RADIOACTIFS METTANT EN ŒUVRE CET AGENT D'ABSORPTION
(JA) シリコチタネート成形体及びその製造方法、シリコチタネート成形体を含むセシウム及び/又はストロンチウムの吸着剤、及び当該吸着剤を用いる放射性廃液の除染方法
요약서:
(EN) Provided are: a silicotitanate molded body which has high strength and generates little fine powder; a method for producing this silicotitanate molded body; an adsorbent which contains this silicotitanate molded body; and a decontamination method for radioactive cesium and/or radioactive strontium, which uses this adsorbent. A silicotitanate molded body that is characterized by containing crystalline silicotitanate particles which have a particle size distribution wherein 90% or more of particles on a volume basis have a particle diameter within the range of from 1 μm to 10 μm (inclusive), and which are represented by general formula A2Ti2O3(SiO4)·nH2O (wherein A represents one or two alkali metal elements selected from among Na and K; and n represents a number of 0-2), and an oxide of one or more elements that are selected from the group consisting of aluminum, zirconium, iron and cerium.
(FR) L'invention fournit un corps moulé de silicotitanate d'une grande résistance et peu susceptible de générer une fine poudre, un procédé de fabrication de ce corps moulé de silicotitanate, un agent d'absorption contenant ce corps moulé de silicotitanate, et un procédé de traitement de décontamination de césium radioactif et/ou strontium radioactif mettant en œuvre cet agent d'absorption. Plus précisément, l'invention concerne un corps moulé de silicotitanate qui est caractéristique en ce qu'il comprend : des particules de silicotitanate cristallin représentées par la formule générale A2Ti23(SiO4)・nH2O (Dans la formule, A représente une ou deux sortes d'élément métal alcalin choisie parmi Na et K, et n représente un nombre de 0 à 2.) qui présentent une distribution granulométrique telle que sur la base du volume le diamètre de 90% des particules ou plus est supérieur ou égal à 1μm et inférieur ou égal à 10μm; et un oxyde d'au moins une sorte d'élément choisi dans un groupe constitué d'un aluminium, d'un zirconium, d'un fer et d'un cérium.
(JA) 強度が大きく、微粉の発生が少ないシリコチタネート成形体及びその製造方法、当該シリコチタネート成形体を含む吸着剤、並びに当該吸着剤を用いる放射性セシウム及び/又は放射性ストロンチウムの除染処理方法を提供する。 体積基準で90%以上の粒子の粒径が1μm以上10μm以下の範囲である粒度分布を有する、一般式:A2Ti23(SiO4)・nH2O(式中、Aは、Na及びKから選ばれる1種又は2種のアルカリ金属元素を示す。nは0~2の数を示す。)で表される結晶性シリコチタネート粒子と、アルミニウム、ジルコニウム、鉄、及びセリウムからなる群より選ばれる1種以上の元素の酸化物と、を含有することを特徴とする、シリコチタネート成形体。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)