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1. (WO2019009063) PHOTOSHAPING COMPOSITION
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/009063 국제출원번호: PCT/JP2018/023293
공개일: 10.01.2019 국제출원일: 19.06.2018
IPC:
C08F 2/44 (2006.01) ,B29C 64/106 (2017.01) ,B29C 64/124 (2017.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,C08K 3/34 (2006.01) ,C08L 33/00 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
2
중합 방법
44
배합 성분의 존재하에서 중합. 예. 가소제, 염료, 충전제
[IPC code unknown for B29C 64/106][IPC code unknown for B29C 64/124][IPC code unknown for B33Y 70]
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
K
무기 또는 비고분자 유기 물질의 배합 성분으로서의 사용
3
무기 배합 성분의 사용
34
규소 함유 화합물
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
33
단 한 개의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 하나 이상의 불포화 지방족기를 갖고, 그중 단 한 개의 지방족기가 카르복실기로 종결되어 있는 화합물, 또는 그 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴의 호모중합체 또는 공중합체의 조성물; 그런 고분자 유도체의 조성물
출원인:
株式会社エンプラス ENPLAS CORPORATION [JP/JP]; 埼玉県川口市並木2丁目30番1号 30-1, Namiki 2-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 3320034, JP
발명자:
上本 紘平 JOHMOTO, Kohei; JP
石田 毅一郎 ISHIDA, Kiichiro; JP
小橋 一輝 KOBASHI, Itsuki; JP
대리인:
特許業務法人大貫小竹国際特許事務所 OHNUKI & KOTAKE; 東京都千代田区神田須田町二丁目25番地 山崎須田町ビル5階 Yamasakisudacho-Building 5th floor, 25, Kandasudacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
우선권 정보:
2017-13210105.07.2017JP
2018-09198611.05.2018JP
발명의 명칭: (EN) PHOTOSHAPING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE PHOTOFORMAGE
(JA) 光造形用組成物
요약서:
(EN) [Problem] To provide a photoshaping composition which can give a shaped object having heightened mechanical properties in high-temperature environments and which can have a sufficiently low viscosity during shaping. [Solution] A photoshaping composition which comprises a photocurable resin and a phyllosilicate compound. It is preferred that the phyllosilicate compound is selected from the group consisting of mica, talc, silica, and mixtures of two or more of these. The photoshaping composition can give a shaped object which, in a high-temperature environment, has a storage modulus of 2,400 MPa or greater. During shaping, the photoshaping composition can have a viscosity less than 1,800 mPa∙s.
(FR) L'invention a pour objet une composition de photoformage qui permet d'obtenir un objet mis en forme ayant des propriétés mécaniques accrues dans des environnements à haute température et qui peut avoir une viscosité suffisamment faible pendant le formage. À et effet l'invention porte sur une composition de photoformage qui comprend une résine photodurcissable et un composé phyllosilicate. Il est préférable que le composé phyllosilicate soit choisi dans le groupe constitué par le mica, le talc, la silice et les mélanges de deux ou plus de deux de ceux-ci. La composition de photoformage permet d'obtenir un objet mis en forme qui, dans un environnement à haute température, a un module de conservation supérieur ou égal à 2 400 MPa. Pendant le formage, la composition de photoformage peut avoir une viscosité inférieure à 1800 mPa∙s.
(JA) 【課題】造形物において高温環境下での機械的物性を高くでき、且つ、造形時においては、粘度を十分に低くすることが可能な光造形用組成物を提供する。 【解決手段】光造形用組成物は、光硬化性樹脂と、層状ケイ酸塩化合物と、を含む。層状ケイ酸塩化合物としては、マイカ、タルク、シリカ、及び、これらを組み合わせた混合物からなる群から選択するとよい。造形物の高温環境下において、貯蔵弾性率を2400MPa以上とすることができ、また、造形時において、粘度を1800mPa・s未満とすることが可能となる。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)