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1. (WO2019006675) POLISHING AGENT, ALUMINUM ALLOY PART AND POLISHING PROCESS THEREFOR
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/006675 국제출원번호: PCT/CN2017/091742
공개일: 10.01.2019 국제출원일: 04.07.2017
IPC:
C09G 1/02 (2006.01) ,C09G 1/04 (2006.01) ,C23F 3/03 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
G
프랑스 니스 이외의 광택제 조성물(POLISHING COMPOSITIONS); 스키 왁스(SKI WAXES)
1
광택제 조성물
02
연마제 또는 분쇄제를 포함한 것
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
G
프랑스 니스 이외의 광택제 조성물(POLISHING COMPOSITIONS); 스키 왁스(SKI WAXES)
1
광택제 조성물
04
수성분산액
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
F
기계적 방법에 의하지 않는 표면에서 금속재료의 제거; 금속 물질의 부식 억제; 외피층 억제 일반; 클래스 C23 및 서브클래스 C21D, C22F 또는 클래스 C25에 포함되는 적어도 하나의 공정과 관련되는 금속재료의 표면처리를 위한 다단계 공정
3
화학적방법에 의한 금속의 광내기
02
경금속
03
산성용액을 사용하는 것
출원인:
深圳市恒兆智科技有限公司 SHENZHEN HENGZHAOZHI TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 南山区蛇口街道南海大道1079号花园城数码大厦B座202.203-115王饶玲 WANG, Raoling 202.203-115 Block B, Garden City Digital Building NanhaiRoad 1079, Shekou Street, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518000, CN
발명자:
王饶玲 WANG, Raoling; CN
대리인:
深圳市华腾知识产权代理有限公司 SHENZHEN HUATENG INTELLECTUAL PROPERTY AGENT CO., LTD.; 中国广东省深圳市 龙华新区龙华街道龙观东路望成大厦11楼1116室彭年才 PENG, Niancai Room 1116, 11th Floor, Wangcheng Building Longguan East Road, Longhua Street, Longhua Shenzhen, Guangdong 518109, CN
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) POLISHING AGENT, ALUMINUM ALLOY PART AND POLISHING PROCESS THEREFOR
(FR) AGENT DE POLISSAGE, PIÈCE EN ALLIAGE D'ALUMINIUM ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE ASSOCIÉ
(ZH) 抛光剂、铝合金件及其抛光处理方法
요약서:
(EN) A polishing agent, an aluminum alloy part and a polishing process therefor. The polishing agent is used for surface pretreatment of an aluminum alloy part and comprises the following components in parts by weight per 100 parts by weight of the polishing agent: 2-20 parts of nitric acid, 1-5 parts of hydrochloric acid, 1-5 parts of diamond micro powder, 0.1-0.5 parts of stearic acid, 0.1-0.6 parts of copper sulfate, 3-10 parts of polyvinyl alcohol and the balance of water. Processed with the above polishing agent, the surface of an aluminum alloy part is clean and bright, and the polishing process is simple, environmentally friendly, no escape of harmful gases, convenient to operate and low-cost.
(FR) La présente invention concerne un agent de polissage, une pièce en alliage d'aluminium et un procédé de polissage associé. L'agent de polissage est utilisé pour le prétraitement de surface d'une pièce en alliage d'aluminium et comprend les composants suivants en parties en poids pour 100 parties en poids de l'agent de polissage : de 2 à 20 parties d'acide nitrique, de 1 à 5 parties d'acide chlorhydrique, de 1 à 5 parties de micro-poudre de diamant, de 0,1 à 0,5 partie d'acide stéarique, de 0,1 à 0,6 partie de sulfate de cuivre, de 3 à 10 parties de poly(alcool de vinyle) et le reste d'eau. Traitée avec l'agent de polissage ci-dessus, la surface de la pièce en alliage d'aluminium est propre et brillante, et le procédé de polissage est simple, respectueux de l'environnement, ne dégage pas de gaz nocifs, et pratique à faire fonctionner et de faible coût.
(ZH) 一种抛光剂、铝合金件及其抛光处理方法。抛光剂用于铝合金件表面预处理,以100重量份计,包括如下重量份数的成分:2-20份硝酸,1-5份盐酸,1-5份精钢石微粉,0.1-0.5份硬脂酸,0.1-0.6份硫酸铜,3-10份聚乙烯醇和余量水。经过上述抛光剂处理后,铝合金件表面清洁光亮,而且整个抛光处理方法工艺简单、环保,无有害气体逸出,操作方便,使用成本低。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 중국어 (ZH)
출원언어: 중국어 (ZH)