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1. (WO2019006409) 3D PRINTED COMPOSITES FROM A SINGLE RESIN BY PATTERNED LIGHT EXPOSURES
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/006409 국제출원번호: PCT/US2018/040467
공개일: 03.01.2019 국제출원일: 29.06.2018
IPC:
C08F 2/48 (2006.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,B33Y 80/00 (2015.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 218/04 (2006.01) ,C08F 220/00 (2006.01) ,C08F 220/18 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
2
중합 방법
46
파동 에너지 또는 입자 방사선에 의하여 개시되는 중합
48
자외선 또는 가시광선에 의한 것
[IPC code unknown for B33Y 10][IPC code unknown for B33Y 70][IPC code unknown for B33Y 80]
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
2
중합 방법
44
배합 성분의 존재하에서 중합. 예. 가소제, 염료, 충전제
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
218
하나 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 하나 이상의 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 포화 카르복실산, 탄산 또는 할로포름산의 아실옥시기에 의하여 종결되어 있는 화합물의 공중합체
02
.모노카르복실산의 에스테르
04
비닐에스테르
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
220
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 카르복실기 또는 그의 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴로 종결되어 있는 화합물의 공중합체
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
220
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 카르복실기 또는 그의 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴로 종결되어 있는 화합물의 공중합체
02
.10개 미만의 탄소 원자를 함유하는 모노카르복실산; 그의 유도체
10
에스테르
12
일가 알코올 또는 페놀의 에스테르
16
페놀 또는 둘 이상의 탄소 원자를 함유하는 알코올의 에스테르
18
아크릴산 또는 메타크릴산과 함께
출원인:
ALIGN TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 2820 Orchard Parkway San Jose, California 95134, US
발명자:
COLE, Michael Christopher; US
대리인:
MEDLEY, Patrick M.; US
HARWOOD, Melissa M.; US
HAGADORN, Charles C.; US
POTTER, Garrett T.; US
우선권 정보:
62/527,74930.06.2017US
발명의 명칭: (EN) 3D PRINTED COMPOSITES FROM A SINGLE RESIN BY PATTERNED LIGHT EXPOSURES
(FR) COMPOSITES IMPRIMÉS EN 3D À PARTIR D'UNE SEULE RÉSINE PAR EXPOSITION À LA LUMIÈRE CONFIGURÉE
요약서:
(EN) Provided herein are processes for the generation of composite polymer materials utilizing a single resin. The processes utilize diffusion between a region undergoing a polymerization reaction preferentially polymerizing one monomer component and an unreactive region. Diffusion and subsequent/concurrent polymerization results in a higher concentration of the more reactive monomer component in the reacting region and a higher concentration of the less reactive monomer components in the unreactive region. The unreactive region may be later polymerized. In embodiments, photopolymerization is used and the regions are generated by a mask or other mechanism to pattern the light.
(FR) La présente invention concerne des procédés de génération de matériaux polymères composites à l'aide d'une seule résine. Les procédés utilisent la diffusion entre une région subissant une réaction de polymérisation polymérisant préférentiellement un constituant monomère et une région non réactive. La diffusion et la polymérisation subséquente/simultanée conduisent à une concentration plus élevée en constituant monomère plus réactif dans la région de réaction et à une concentration plus élevée en constituants monomères moins réactifs dans la région non réactive. La région non réactive peut être polymérisée ultérieurement. Dans des modes de réalisation, la photopolymérisation est utilisée et les régions sont générées par un masque ou un autre mécanisme pour configurer la lumière.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)