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1. (WO2019003037) SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC COMPONENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/003037 국제출원번호: PCT/IB2018/054405
공개일: 03.01.2019 국제출원일: 15.06.2018
IPC:
H04N 5/369 (2011.01) ,G11C 11/405 (2006.01) ,H01L 27/1156 (2017.01) ,H01L 27/146 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01) ,H04N 5/374 (2011.01)
H SECTION H — 전기
04
전기통신기술
N
화상통신, 예. 텔레비젼
5
텔레비젼 시스템의 세부
30
광 또는 아날로그 정보를 전기적 정보로 변환시키는 것
335
고체 이미지 센서 를 사용하는 것
369
SSIS 구조; 그와 관련된 회로
G SECTION G — 물리학
11
정보저장
C
정적기억
11
특정의 전기적 또는 자기적 기억소자의 사용에 따라 특징지워지는 디지털 기억장치; 그를 위한 기억소자
21
전기적 소자를 사용하는 것
34
반도체장치를 사용하는 것
40
트랜지스터를 사용하는 것
401
재충전(refreshing)이나 또는 전하 재발생을 필요로 하는 셀(cells)를 형성하는 것, 예. 다이나믹 셀
403
다중 메모리 셀에 공통적으로 전하 재발생을 가지는 것, 예. 외부의 재충전
405
3개의 전하 전송게이트를 가지는 것, 예. 셀당 모스트랜지스터
[IPC code unknown for H01L 27/1156]
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
27
하나의 공통기판내 또는 기판상에 형성된 복수의 반도체구성부품 또는 기타 고체구성부품으로 구성된 장치
14
적외선, 가시광, 단파장의 전자파 또는 입자선 복사에 감응하는 반도체구성부품으로서 이들의 복사선 에너지를 전기적 에너지로 변환하거나 이들의 복사선에 의해 전기적 에너지를 제어하는 것에 특별히 사용되는 것
144
복사선에 의하여 제어되는 장치
146
고체촬상장치(이미지 센서) 구조
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
29
정류, 증폭, 발진 또는 스위칭에 특별히 적용되는 반도체 장치이며, 적어도 1개의 전위 장벽 또는 표면 장벽을 가지는 것; 적어도 1개의 전위 장벽 또는 표면 장벽(예. PN접합 공핍층 또는 캐리어 집중층)을 가지는 캐패시터 또는 저항; 반도체 본체 또는 전극의 세부
66
반도체장치의 형(types)
68
정류, 증폭 또는 스위칭 되는 전류가 흐르지 않는 하나의 전극에 단지 전위를 부여하거나, 단지 전류을 제공하는 것만으로 제어되는 것
76
유니폴라(unipolar) 장치
772
전계 효과 트랜지스터
78
절연된 게이트에 의해 발생되는 전계효과를 갖는 것
786
박막트랜지스터(thin-film transistors)
H SECTION H — 전기
04
전기통신기술
N
화상통신, 예. 텔레비젼
5
텔레비젼 시스템의 세부
30
광 또는 아날로그 정보를 전기적 정보로 변환시키는 것
335
고체 이미지 센서 를 사용하는 것
369
SSIS 구조; 그와 관련된 회로
374
어드레스된 센서, 예. MOS 또는 CMOS 센서
출원인:
株式会社半導体エネルギー研究所 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県厚木市長谷398 398, Hase, Atsugi-shi, Kanagawa 2430036, JP
발명자:
岡本佑樹 OKAMOTO, Yuki; JP
黒川義元 KUROKAWA, Yoshiyuki; JP
楠本直人 KUSUMOTO, Naoto; JP
우선권 정보:
2017-12512427.06.2017JP
발명의 명칭: (EN) SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC COMPONENT
(FR) DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
(JA) 半導体装置および電子部品
요약서:
(EN) Provided is a semiconductor device which is capable of holding a signal detected by a sensor element. This semiconductor device is provided with a sensor element, a first transistor, a second transistor, and a third transistor, wherein one electrode of the sensor element is electrically connected to a first gate, the first gate is electrically connected to either the source or the drain of the third transistor, either the source or the drain of the first transistor is electrically connected to the gate of the second transistor, and a semiconductor layer is provided with a metal oxide.
(FR) L'invention concerne un dispositif à semi-conducteur qui est capable de maintenir un signal détecté par un élément de capteur. Le dispositif à semi-conducteur de la présente invention est pourvu d'un élément de capteur, d'un premier transistor, d'un deuxième transistor et d'un troisième transistor, une électrode de l'élément de capteur étant électriquement connectée à une première grille, la première grille étant électriquement connectée soit à la source soit au drain du troisième transistor, soit la source soit le drain du premier transistor étant connecté électriquement à la grille du deuxième transistor, et une couche semi-conductrice étant pourvue d'un oxyde métallique.
(JA) センサ素子が検知した信号を保持することのできる半導体装置を提供する。 センサ素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、を有し、セ ンサ素子の一方の電極は第1のゲートと電気的に接続され、第1のゲートは第3のトランジスタのソ ースまたはドレインの一方と電気的に接続され、第1のトランジスタのソースまたはドレインの一方 は第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、半導体層は金属酸化物を有する構成とする。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)