이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2018225748) COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/225748 국제출원번호: PCT/JP2018/021607
공개일: 13.12.2018 국제출원일: 05.06.2018
IPC:
C08F 2/50 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,H01L 23/12 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
2
중합 방법
46
파동 에너지 또는 입자 방사선에 의하여 개시되는 중합
48
자외선 또는 가시광선에 의한 것
50
증감제(감광제)의 사용
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
04
크롬산염
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
027
탄소-탄소 2중결합을 갖는 비고분자 광중합성 화합물, 예. 에틸렌형 화합물
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
038
불용성 또는 특이적으로 친수성으로 된 고분자화합물
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
23
반도체 또는 다른 고체장치의 세부
12
마운트, 예. 분리할 수 없는 절연기판
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
K
인쇄회로; 전기장치의 상체 또는 구조적 세부, 전기부품의 조립체의 제조
3
인쇄회로를 제조하기 위한 장치 또는 방법
22
인쇄회로의 2차적처리
28
비금속질의 보호피복을 시행하는 일
출원인:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
발명자:
穴吹 翔馬 ANABUKI, Shoma; JP
伊藤 彰基 ITOU, Akinori; JP
川島 直之 KAWASHIMA, Naoyuki; JP
西村 功 NISHIMURA, Isao; JP
宮木 伸行 MIYAKI, Nobuyuki; JP
金子 将寛 KANEKO, Masahiro; JP
대리인:
大渕 美千栄 OFUCHI, Michie; JP
布施 行夫 FUSE, Yukio; JP
松本 充史 MATSUMOTO, Mitsufumi; JP
우선권 정보:
2017-11330908.06.2017JP
2017-11331008.06.2017JP
2017-11331108.06.2017JP
발명의 명칭: (EN) COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
(FR) COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DURCI, ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
(JA) 組成物、硬化膜の製造方法及び電子部品
요약서:
(EN) Provided are: a composition capable of forming a cured film which can maintain insulation property even in a severe environment such as a high-temperature and high-humidity environment; and a method for producing the cured film. The composition according to the present invention comprises a radically-polymerizable compound, a photoradical generator, and a photo-cation generator, wherein, when the total mass of the composition is 100 mass%, the composition comprises 0.5-100 ppm of halogen atoms.
(FR) L’invention fournit une composition qui permet de former un film durci permettant de maintenir des propriétés isolantes y compris sous un environnement rigoureux tel que sous de hautes températures et une humidité élevée, et fournit également un procédé de fabrication dudit film durci. La composition de l’invention comprend un composé polymérisable par voie radicalaire, un générateur de photoradicaux et un générateur de photocations. Lorsque la masse totale de ladite composition est de 100% en masse, la teneur en atomes d’halogène est supérieure ou égale à 0,5ppm et inférieure ou égale à 100ppm.
(JA) 高温高湿下などの過酷な環境下であっても絶縁性を維持できる硬化膜を形成可能な組成物、及び前記硬化膜の製造方法を提供する。 本発明に係る組成物は、ラジカル重合性化合物、光ラジカル発生剤、及び光カチオン発生剤を含有する組成物であって、前記組成物の全質量を100質量%としたきに、ハロゲン原子を0.5ppm以上100ppm以下含有する。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)