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1. (WO2018224245) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/224245 국제출원번호: PCT/EP2018/062325
공개일: 13.12.2018 국제출원일: 14.05.2018
IPC:
G02B 7/182 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
7
광학요소용 마운트, 조절수단, 광-밀결합
18
프리즘용; 반사경용
182
반사경용
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
출원인:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
발명자:
WUESTNER, Sebastian; DE
NEFZI, Marwene; DE
PNINI-MITTLER, Boaz; DE
HEMBACHER, Stefan; DE
대리인:
LORENZ, Markus; DE
우선권 정보:
10 2017 209 794.909.06.2017DE
발명의 명칭: (EN) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) DISPOSITIF POUR L’ORIENTATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
요약서:
(EN) The invention relates to a device (1) for adjusting an optical element (2), comprising an actuation device (3) having a plurality of actuation units (4) for adjusting the optical element (2), wherein the actuation units (4) are connected to the optical element (2) via securing points (5) and they exert a force on the optical element (2) in order to adjust the optical element (2). A measuring device (6) is provided for determining parasitic forces (FP) and/or parasitic torques (MP) acting on the optical element (2). A compensation device (7) is also provided, comprising at least one compensation unit (8), wherein the at least one compensation unit (8) applies a compensation force (FK) and/or a compensation torque (MK) to the optical element (2), based on data from the measuring device (6), in order to correct the parasitic forces (FP) and/or the parasitic torques (MP).
(FR) L’invention concerne un dispositif (1) pour l‘orientation d’un élément optique (2), comprenant un dispositif d’actionnement (3) qui comprend une pluralité d’unités d’actionnement (4) pour l’orientation de l’élément optique (2), l’unité d’actionnement (4) étant connectée à l’élément optique (2) par l'intermédiaire des points de fixation (5) et appliquant une force sur l’élément optique (2) pour orienter l’élément optique (2). Un dispositif de mesure (6) est prévu pour la détermination des forces parasites (FP) et/ou couples parasites (MP) agissant sur l'élément optique (2). Un dispositif de compensation (7) comprenant au moins une unité de compensation (8) est aussi prévu, l’au moins une unité de compensation (8) appliquant une force de compensation (FK) et/ou un couple de compensation (MK) sur l’élément optique (2) sur la base de données du dispositif de mesure (6), pour corriger les forces parasites (FP) et/ou les couples parasites (MP).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Ausrichtung eines optischen Elements (2), mit einer Betätigungseinrichtung (3) welche eine Mehrzahl von Betätigungseinheiten (4) zur Ausrichtung des optischen Elements (2) aufweist, wobei die Betätigungseinheit (4) über Befestigungspunkte (5) mit dem optischen Element (2) verbunden sind und eine Kraft auf das optische Element (2) aufbringen um das optische Element (2) auszurichten. Vorgesehen ist eine Messeinrichtung (6) zur Bestimmung von auf das optische Element (2) wirkenden parasitären Kräften (FP) und/oder parasitären Momenten (MP). Ferner ist eine Kompensationseinrichtung (7) mit wenigstens einer Kompensationseinheit (8) vorgesehen, wobei die wenigstens eine Kompensationseinheit (8) auf Basis von Daten der Messeinrichtung (6) eine Kompensationskraft (FK) und/oder ein Kompensationsmoment (MK) auf das optische Element (2) aufbringt, um die parasitären Kräfte (FP) und/oder die parasitären Momente (MP) zu korrigieren.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 독일어 (DE)
출원언어: 독일어 (DE)