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1. (WO2018221275) RETARDATION FILM AND PRODUCTION METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/221275 국제출원번호: PCT/JP2018/019348
공개일: 06.12.2018 국제출원일: 18.05.2018
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,B29C 47/14 (2006.01) ,B29C 55/02 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,C08L 53/02 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
5
렌즈 이외 광학요소
30
편광요소
B SECTION B — 처리조작; 운수
29
플라스틱의 가공; 가소 상태 물질의 가공 일반
C
플라스틱의 성형 또는 접합; 가소 상태에 있는 물질의 성형 일반; 성형품의 후처리, 예. 수선
47
압출 성형, 즉 소정의 형상을 형성시키는 다이 또는 노즐을 통해서 성형 재료를 압출하는 것
08
구성 부품, 세부 또는 부속 장치; 보조 조작
12
압출 노즐 또는 다이
14
폭이 넓은 것, 예. 시트를 위한
B SECTION B — 처리조작; 운수
29
플라스틱의 가공; 가소 상태 물질의 가공 일반
C
플라스틱의 성형 또는 접합; 가소 상태에 있는 물질의 성형 일반; 성형품의 후처리, 예. 수선
55
연신 성형, 예. 다이를 통해서 빼내는 것; 그것을 위한 장치
02
판 또는 시트
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
J
마무리; 일반적 혼합 방법; 서브클래스 C08B, C08C, C08F, C08G 또는 C08H에 포함 되지 않는 후 처리(가공, 예.플라스틱의 성형 B29)
5
고분자 물질을 포함하는 성형품의 제조
18
필름 또는 쉬트(Sheet)의 제조
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
53
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자의 서열을 하나라도 함유하는 블록 공중합체의 조성물; 그러한 고분자 유도체의 조성물
02
.비닐 방향족 단량체 및 콘쥬게이트 디엔의
출원인:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP
발명자:
浅田 毅 ASADA, Takeshi; JP
대리인:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
우선권 정보:
2017-10859131.05.2017JP
발명의 명칭: (EN) RETARDATION FILM AND PRODUCTION METHOD
(FR) FILM DE DÉPHASAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 位相差フィルム及び製造方法
요약서:
(EN) A retardation film and a production method therefor, said retardation film: substantially comprising only one type of copolymer P including a polymerization unit A and a polymerization unit B; having a phase-separated structure exhibiting structural birefringence; and having an NZ coefficient greater than 0 and less than 1. Ideally: the phase-separated structure includes a phase having the polymerization unit A as the main component thereof and a phase having the polymerization unit B as the main component thereof; the phase-separated structure has a lamellar, cylindrical, or spheroid form; and the inter-phase distance in the phase-separated structure is no more than 200 nm.
(FR) L’invention concerne un film de déphasage et un procédé de fabrication de celui-ci. Ce film de déphasage est constitué en pratique uniquement d’une sorte de copolymère (P) contenant une unité polymère (A) et une unité polymère (B), et possède une structure de séparation de phases exprimant une biréfringence structurale. Le film de déphasage présente un coefficient NZ supérieur à 0 et inférieur à 1. De préférence, ladite structure de séparation de phases contient une phase ayant pour composant principal ladite unité polymère (A), et une phase ayant pour composant principal ladite unité polymère (B), ladite structure de séparation de phases présente la forme d’une lamelle, d’un cylindre ou d’un sphéroïde, et la distance interphase dans ladite structure de séparation de phases est inférieure ou égale à 200nm.
(JA) 重合単位Aと重合単位Bとを含む1種の共重合体Pのみから実質的になり、構造性複屈折を発現する相分離構造を有し、0より大きく、且つ1より小さいNZ係数を有する、位相差フィルム;並びにその製造方法。好ましくは、前記相分離構造が、前記重合単位Aを主成分とする相と、前記重合単位Bを主成分とする相とを含み、前記相分離構造が、ラメラ、シリンダ、スフェロイドのいずれかの形態を有し、前記相分離構造における相間距離が200nm以下である。
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아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)