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1. (WO2018190089) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2018/190089 국제출원번호: PCT/JP2018/011100
공개일: 18.10.2018 국제출원일: 20.03.2018
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,C02F 1/42 (2006.01) ,C02F 1/58 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
04
적어도 하나의 전위장벽 또는 표면장벽(예. PN접합, 공핍층, 캐리어 밀집층)을 갖는 장치
18
불순물(예, 도우핑 물질)을 포함하고 있거나 포함하지 않는 주기율표 제4족의 원소 또는 Ⅲ-Ⅴ족 화합물로 구성된 반도체본체를 갖는 장치
30
21/20~ 21/26에 분류되지 않은 방법이나 장비를 사용한 반도체본체의 처리
302
반도체표면의 물리적 성질 또는 그 형상의 변환, 예. 에칭(etching), 경면연마(polishing), 절단(cutting)
304
기계적 처리. 예, 연마, 경면연마, 절단(cutting)
C SECTION C — 화학; 야금
02
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
F
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
1
물, 폐수 또는 하수의 처리
42
이온 교환에 의한 것
C SECTION C — 화학; 야금
02
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
F
물, 폐수, 하수 또는 오니(슬러지)의 처리
1
물, 폐수 또는 하수의 처리
58
특정 용존 화합물의 제거에 의한 것
출원인:
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
발명자:
森田 博志 MORITA, Hiroshi; JP
顔 暢子 GAN, Nobuko; JP
대리인:
重野 剛 SHIGENO, Tsuyoshi; JP
重野 隆之 SHIGENO, Takayuki; JP
우선권 정보:
2017-08062614.04.2017JP
발명의 명칭: (EN) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ALIMENTATION EN EAU DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄水供給装置
요약서:
(EN) This cleaning water supply device is provided with: an ultrapure water line 1 through which a fixed amount of ultrapure water flows; a production unit 2 which adds a fixed amount of a solute into the ultrapure water line to produce a cleaning water; a cleaning water line 3 through which the cleaning water flows; cleaning machines 5A-5N to which the cleaning water is supplied from the cleaning water line 3; a solute removal unit 4 into which surplus cleaning water is introduced from the cleaning water line 3; and a recovery line 6 for returning, to a tank or the like, recovered water from which the solute has been removed.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'alimentation en eau de nettoyage pourvu : d'une conduite d'eau ultra-pure 1 à travers laquelle s'écoule une quantité fixe d'eau ultra-pure ; d'une unité de production 2 qui ajoute une quantité fixe d'un soluté dans la conduite d'eau ultra-pure afin de produire une eau de nettoyage ; d'une conduite d'eau de nettoyage 3 à travers laquelle s'écoule l'eau de nettoyage ; de machines de nettoyage 5A-5N auxquelles l'eau de nettoyage est fournie par la conduite d'eau de nettoyage 3 ; d'une unité d'élimination de soluté 4 dans laquelle de l'eau de nettoyage excédentaire est introduite à partir de la conduite d'eau de nettoyage 3 ; et d'une conduite de récupération 6 servant à renvoyer, vers un réservoir, ou analogue, l'eau récupérée de laquelle a été éliminé le soluté.
(JA) 洗浄水供給装置は、超純水が定量にて流れる超純水ライン1と、該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部2と、洗浄水を流すための洗浄水ライン3と、該洗浄水ライン3から洗浄水が供給される洗浄機5A~5Nと、余剰の洗浄水が洗浄水ライン3から導入される溶質除去部4と、溶質が除去された回収水をタンク等へ戻すための回収ライン6を有する。
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공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)