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1. (WO2018185985) INKJET APPLICATION DEVICE AND DEVICE FOR MANUFACTURING BATTERY
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2018/185985 국제출원번호: PCT/JP2017/046387
공개일: 11.10.2018 국제출원일: 25.12.2017
IPC:
B05C 11/10 (2006.01) ,B05C 5/00 (2006.01) ,H01M 4/13 (2010.01) ,H01M 4/139 (2010.01) ,H01M 10/0562 (2010.01) ,H01M 10/0585 (2010.01)
B SECTION B — 처리조작; 운수
05
무화 또는 분무일반; 액체 또는 타유동성 재료의 표면에의 적용일반
C
액체 또는 타유동성 물질을 표면에 작용시키기 위한 장치일반
11
그룹 B05C 1/00 - B05C 9/00까지에 특별히 분류되지 못하는 부속품
10
액체 또는 타유동성 물질의 저장, 공급 혹은 조절; 과량의 액체나 타유동성 물질의 원상회복
B SECTION B — 처리조작; 운수
05
무화 또는 분무일반; 액체 또는 타유동성 재료의 표면에의 적용일반
C
액체 또는 타유동성 물질을 표면에 작용시키기 위한 장치일반
5
액체 또는 타유동성 물질이 피가공물의 표면에 사출, 유출 또는 표면상을 자유유동되도록 한 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
4
전극(전기분해용 전극 C25)
02
활물질로서 되는 또는 활물질을 함유한 전극
13
비수성(非水性) 전해질 축전지의 전극, 예. 리튬축전지용 전극; 리튬축전지용 전극의 제조공정
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
4
전극(전기분해용 전극 C25)
02
활물질로서 되는 또는 활물질을 함유한 전극
13
비수성(非水性) 전해질 축전지의 전극, 예. 리튬축전지용 전극; 리튬축전지용 전극의 제조공정
139
제조공정
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
10
2차전지; 그의 제조
05
비수성(非水性) 전해질을 가지는 축전지
056
전해질로 사용되는 물질에 특징이 있는 것, 예. 혼합 무기/유기 전해질
0561
오직 무기물질로만 이루어진 전해질
0562
고체물질
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
10
2차전지; 그의 제조
05
비수성(非水性) 전해질을 가지는 축전지
058
구조 또는 제조
0585
오직 평면형(flat) 구성요소만을 가지는 축전지, 즉 평면형 양극, 음극 및 분리막
출원인:
株式会社石井表記 KABUSHIKI KAISHA ISHII HYOKI [JP/JP]; 広島県福山市神辺町旭丘5番地 5, Asahioka, Kannabe-cho, Fukuyama-shi, Hiroshima 7202113, JP
발명자:
増成 誠治 MASUNARI Seiji; JP
▲桑▼田 幹雄 KUWADA Mikio; JP
村上 美徳 MURAKAMI Yoshinori; JP
細川 知子 HOSOKAWA Tomoko; JP
池上 岳宏 IKEGAMI Takahiro; JP
中谷 英之 NAKATANI Hideyuki; JP
馬場 守 BABA Mamoru; JP
대리인:
城村 邦彦 SHIROMURA Kunihiko; JP
熊野 剛 KUMANO Tsuyoshi; JP
우선권 정보:
2017-07533505.04.2017JP
발명의 명칭: (EN) INKJET APPLICATION DEVICE AND DEVICE FOR MANUFACTURING BATTERY
(FR) DISPOSITIF D'APPLICATION DE JET D'ENCRE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE BATTERIE
(JA) インクジェット塗布装置及び電池製造用装置
요약서:
(EN) An inkjet application device (1) has a distribution pathway for liquid material provided with a first flow path (4) for supplying liquid material pressure fed by a pump (2) to a supply tank (3) and a second flow path (6) for supplying the liquid material in the supply tank (3) to an inkjet head (5). A filter (40) through which bubbles in the liquid material that are generated by pressure feeding by the pump (2) cannot pass and through which the particles in the liquid material can pass is disposed in the supply tank (3).
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'application de jet d'encre (1) ayant un trajet de distribution pour un matériau liquide pourvu d'un premier trajet d'écoulement (4) destiné à fournir une pression de matériau liquide alimentée par une pompe (2) vers un réservoir d'alimentation (3) et d'un second trajet d'écoulement (6) pour alimenter le matériau liquide du réservoir d'alimentation (3) à une tête à jet d'encre (5). Un filtre (40) à travers lequel ne peuvent pas passer les bulles qui sont générées dans le matériau liquide par l'alimentation en pression de la pompe (2) et à travers lequel les particules dans le matériau liquide peuvent passer, est disposé dans le réservoir d'alimentation (3).
(JA) インクジェット塗布装置(1)のポンプ(2)によって圧送される液状材料を供給タンク(3)に供給する第一流路(4)と、供給タンク(3)内の液状材料をインクジェットヘッド(5)に供給する第二流路(6)とを備えてなる液状材料の流通経路を有し、供給タンク(3)内に、ポンプ(2)による圧送によって発生する液状材料中の気泡を通過させず且つ液状材料中の粒子を通過させるフィルタ(40)を配備する。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)