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1. (WO2018180850) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2018/180850 국제출원번호: PCT/JP2018/011312
공개일: 04.10.2018 국제출원일: 22.03.2018
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
1337
액정분자의 표면유도 배향, 예. 정렬층에 의한
출원인:
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
발명자:
後藤 麻里奈 GOTO Marina; JP
井ノ上 雄一 INOUE Yuichi; JP
대리인:
小川 眞治 OGAWA Shinji; JP
우선권 정보:
2017-06764530.03.2017JP
발명의 명칭: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示素子の製造方法
요약서:
(EN) Provided is a method for manufacturing a liquid crystal display element, which comprises one to n separate and independent light irradiation steps for irradiating a liquid crystal composition containing a polymerizable compound affixed onto a substrate with light having a peak at 300-400 nm, and is characterized in that, when the concentration change amount Vk per unit minute of the concentration difference between the concentration (Ck) of the polymerizable compound after the liquid crystal composition containing 0.3 mass% of the polymerizable compound has been irradiated with light for five minutes under the light irradiation condition of a k-th light irradiation step (Sk) among the one to n light irradiation steps, and 0.3 mass% is represented by expression (1) in each of the steps, the average reaction velocity Vave of the polymerizable compound in all light irradiation steps (ΣSk) represented by expression (2) is controlled to 0.030-0.048 (mass%/min).
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément d'affichage à cristaux liquides, qui comprend une à n étapes d'irradiation de lumière séparées et indépendantes permettant d'irradier une composition de cristaux liquides contenant un composé polymérisable apposée sur un substrat avec une lumière ayant un pic à 300-400 nm, et qui est caractérisé en ce que, lorsque la quantité de changement de concentration Vk par unité minute de la différence de concentration entre la concentration (Ck) du composé polymérisable après que la composition de cristaux liquides contenant 0,3 % en masse du composé polymérisable a été irradiée avec de la lumière pendant cinq minutes dans la condition d'irradiation de lumière d'une k-ième étape d'irradiation de lumière (Sk) parmi les une à n étapes d'irradiation de lumière, et 0,3 % en masse est représentée par l'expression (1) dans chacune des étapes, la vitesse de réaction moyenne Vave du composé polymérisable dans toutes les étapes d'irradiation de lumière (ΣSk) représentée par l'expression (2) est régulée à 0,030-0,048 (% en masse/min).
(JA) 基板上に添着された重合性化合物を含有する液晶組成物に300~400nmにピークを有する光を照射する光照射工程を別個独立する1~n回備えた液晶表示素子の製造方法であって、 前記の1~n回の光照射工程のうちk回目の光照射工程(S)の光照射条件下で前記重合性化合物を0.3質量%含有する液晶組成物に対して5分間光を照射した後の前記重合性化合物の濃度(C)と、0.3質量%との濃度差の単位分あたりの濃度変化量Vが、式(1)で工程毎に表される場合、式(2)で表される全光照射工程(ΣSk)における前記重合性化合物の平均反応速度Vaveを0.030~0.048(質量%/分)に制御することを特徴とする、液晶表示素子の製造方法を提供する。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)