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1. (WO2018179641) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2018/179641 국제출원번호: PCT/JP2017/046479
공개일: 04.10.2018 국제출원일: 25.12.2017
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 12/08 (2006.01) ,C08F 20/16 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
039
광축퇴 가능한 고분자화합물 예. 양화형 전자 레지스트
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
12
단 하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 하나 이상의 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 방향족 탄화수소 고리에 의하여 종결되어 있는 화합물의 호모중합체 또는 공중합체
02
.단 하나의 불포화 지방족기를 함유한 단량체
04
하나의 고리를 함유하는 것
06
탄화수소
08
스티렌
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
20
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 하나의 카르복실기 또는 그 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴로 종결된 화합물의 호모중합체 또는 공중합체
02
.10개 미만의 탄소 원자를 갖는 모노카르복실산; 그의 유도체
10
에스테르
12
일가 알코올 또는 폐놀의 에스테르
16
페놀 또는 2개 이상의 탄소를 함유하는 알코올의 에스테르
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
04
크롬산염
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
출원인:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
발명자:
藤本 進二 FUJIMOTO, Shinji; JP
松田 知樹 MATSUDA, Tomoki; JP
山田 悟 YAMADA, Satoru; JP
대리인:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
우선권 정보:
2017-06804330.03.2017JP
발명의 명칭: (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT
(JA) 感光性転写材料、及び回路配線の製造方法
요약서:
(EN) Disclosed is a photosensitive transferring material comprising: a temporary support; and a photosensitive resin composition layer including a photoacid generator, and a polymer component including a polymer that includes a constituent unit (a-1) including a group wherein a carboxy group is protected in the form of an acetal, or a constituent unit (a-2) including a group in which a phenolic hydroxyl group is protected in the form of an acetal. The polymer component includes a constituent unit (b-1) including a phenolic hydroxyl group and/or a constituent unit (b-2) including an alcoholic hydroxyl group. The total percentage of the constituent unit (b-1) and the constituent unit (b-2) in all of the constituent units in the polymer component is from 1 mol% to 18 mol%. Also disclosed is a method for producing a circuit wiring using the photosensitive transferring material.
(FR) L'invention concerne un matériau de transfert photosensible comprenant : un support temporaire ; et une couche de composition de résine photosensible comprenant un générateur photoacide, et un composant polymère comprenant un polymère qui comprend une unité constitutive (a-1) comprenant un groupe dans lequel un groupe carboxy est protégé sous la forme d'un acétal, ou une unité constitutive (a-2) comprenant un groupe dans lequel un groupe hydroxyle phénolique est protégé sous la forme d'un acétal. Le composant polymère comprend une unité constitutive (b-1) comprenant un groupe hydroxyle phénolique et/ou une unité constitutive (b-2) comprenant un groupe hydroxyle alcoolique. Le pourcentage total de l'unité constitutive (b-1) et de l'unité constitutive (b-2) dans toutes les unités constitutives dans le composant polymère est de 1 % en moles à 18 % en moles. L'invention concerne également un procédé de production d'un câblage de circuit à l'aide du matériau de transfert photosensible.
(JA) 仮支持体;及び、カルボキシ基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-1)又はフェノール性水酸基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-2)を有する重合体を含む重合体成分と、光酸発生剤とを含有する感光性樹脂組成物層;を有し、重合体成分が、フェノール性水酸基を有する構成単位(b-1)及びアルコール性水酸基を有する構成単位(b-2)の少なくとも一方を有し、重合体成分の全構成単位に占める構成単位(b-1)の割合と構成単位(b-2)の割合との合計が1モル%以上18モル%以下である感光性転写材料、並びに、感光性転写材料を用いた回路配線の製造方法。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)