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1. (WO2018179264) FILM FORMING INSTRUMENT, FILM FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE, AND PRODUCTION INSTRUMENT FOR ELECTRONIC DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보

공개번호: WO/2018/179264 국제출원번호: PCT/JP2017/013354
공개일: 04.10.2018 국제출원일: 30.03.2017
IPC:
B05C 5/00 (2006.01) ,B05D 1/26 (2006.01) ,B41J 2/01 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,H01L 21/336 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01) ,H05B 33/06 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B SECTION B — 처리조작; 운수
05
무화 또는 분무일반; 액체 또는 타유동성 재료의 표면에의 적용일반
C
액체 또는 타유동성 물질을 표면에 작용시키기 위한 장치일반
5
액체 또는 타유동성 물질이 피가공물의 표면에 사출, 유출 또는 표면상을 자유유동되도록 한 장치
B SECTION B — 처리조작; 운수
05
무화 또는 분무일반; 액체 또는 타유동성 재료의 표면에의 적용일반
D
액체 또는 타유동성 물질을 표면에 작용시키기 위한 공정일반 ]
1
액체나 타유동성 물질을 작용시키기 위한 방법(공정)
26
표면과 접촉 또는 거의 접촉하는 배출구 장치로부터 액체나 타유동성 물질을 작용시킴으로써 행하여지는 것
B SECTION B — 처리조작; 운수
41
스탬프; 타이프라이터; 복사기; 인쇄
J
타이프 라이터; 선택적 프린팅 기구, 즉 조판 이외의 수단으로 프린팅하는 기구; 오타의 수정
2
인쇄 또는 마킹(marking) 방법을 실시하는데 특징이 있는 타이프 라이터 또는 선택적 인쇄 기구
005
액체 또는 입자를 선택적으로 인쇄 재료에 접촉시킴을 특징으로 하는 것
01
잉크 제트
G SECTION G — 물리학
09
교육; 암호방법; 전시; 광고; 봉인
F
표시; 광고; 사인; 라벨 또는 명찰; 시일
9
정보가 개별소자의 선택 또는 조합에 의하여 지지체상에 형성되는 가변정보용의 표시장치
G SECTION G — 물리학
09
교육; 암호방법; 전시; 광고; 봉인
F
표시; 광고; 사인; 라벨 또는 명찰; 시일
9
정보가 개별소자의 선택 또는 조합에 의하여 지지체상에 형성되는 가변정보용의 표시장치
30
필요한 문자가 개개요소를 조합하는 것에 의하여 형성되는 것
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
04
적어도 하나의 전위장벽 또는 표면장벽(예. PN접합, 공핍층, 캐리어 밀집층)을 갖는 장치
18
불순물(예, 도우핑 물질)을 포함하고 있거나 포함하지 않는 주기율표 제4족의 원소 또는 Ⅲ-Ⅴ족 화합물로 구성된 반도체본체를 갖는 장치
334
유니폴라(unipolar)형 장치를 제조하기 위한 다단계공정
335
전계효과 트랜지스터(FET)
336
절연게이트를 갖는 것
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
27
하나의 공통기판내 또는 기판상에 형성된 복수의 반도체구성부품 또는 기타 고체구성부품으로 구성된 장치
28
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 구성부품을 포함하는 것
32
광방출에 특별히 적용되는 구성부품을 가지는 것, 예.유기 발광 다이오드를 사용한 플랫 패널 디스플레이
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
29
정류, 증폭, 발진 또는 스위칭에 특별히 적용되는 반도체 장치이며, 적어도 1개의 전위 장벽 또는 표면 장벽을 가지는 것; 적어도 1개의 전위 장벽 또는 표면 장벽(예. PN접합 공핍층 또는 캐리어 집중층)을 가지는 캐패시터 또는 저항; 반도체 본체 또는 전극의 세부
66
반도체장치의 형(types)
68
정류, 증폭 또는 스위칭 되는 전류가 흐르지 않는 하나의 전극에 단지 전위를 부여하거나, 단지 전류을 제공하는 것만으로 제어되는 것
76
유니폴라(unipolar) 장치
772
전계 효과 트랜지스터
78
절연된 게이트에 의해 발생되는 전계효과를 갖는 것
786
박막트랜지스터(thin-film transistors)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
50
광방출에 특별히 적용되는 것, 예. 유기 발광 다이오드(OLED) 또는 고분자 발광 다이오드 (PLED)
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
02
세부
04
봉지장치
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
02
세부
06
전극단자
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
10
전계발광광원의 제조에 특히 적용하는 장치 또는 공정
출원인:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
발명자:
昼岡 正樹 HIRUOKA, Masaki; --
대리인:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) FILM FORMING INSTRUMENT, FILM FORMING METHOD, ELECTRONIC DEVICE, AND PRODUCTION INSTRUMENT FOR ELECTRONIC DEVICE
(FR) INSTRUMENT DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET INSTRUMENT DE PRODUCTION DESTINÉ À UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 成膜装置、成膜方法、電子デバイス、および電子デバイスの製造装置
요약서:
(EN) Provided is a film forming instrument (1) comprising an ejection unit (44a) that ejects a first droplet material and an ejection unit (44b) that ejects a second droplet material having a higher viscosity than the first droplet material, the first and second droplet materials being ejected so that a first film formed by application of the first droplet material and a second film formed by application of the second droplet material are adjacent to each other on a surface of an object to be coated.
(FR) L'invention concerne un instrument de formation de film (1) comprenant une unité d'éjection (44a) qui éjecte un premier matériau de gouttelette et une unité d'éjection (44b) qui éjecte un second matériau de gouttelette présentant une viscosité supérieure à celle du premier matériau de gouttelette, les premier et second matériaux de gouttelette étant éjectés de sorte qu'un premier film formé par l'application du premier matériau de gouttelette et un second film formé par l'application du second matériau de gouttelette soient adjacents l'un à l'autre sur une surface d'un objet à revêtir.
(JA) 成膜装置(1)は、第1液滴材料を吐出する吐出部(44a)と、第1液滴材料の粘度よりも高い粘度を有する第2液滴材料を吐出する吐出部(44b)とを備え、第1液滴材料の塗布によって形成される第1膜と、第2液滴材料の塗布によって形成される第2膜とが、塗布対象の物体の表面において隣接するように第1および第2液滴材料を吐出する。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)