이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2018166444) PHOTOETCHING APPARATUS AND METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/166444 국제출원번호: PCT/CN2018/078829
공개일: 20.09.2018 국제출원일: 13.03.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
9
원고, 마스크, 프레임, 사진시트, 표면구조 또는 모양이 작성된 표면의 위치결정 또는 위치 맞춤, 예. 자동적인 것
출원인:
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT(GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
발명자:
周畅 ZHOU, Chang; CN
杨志勇 YANG, Zhiyong; CN
马琳琳 MA, Linlin; CN
대리인:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 长宁区天山西路789号1幢341室 Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
우선권 정보:
201710154356.415.03.2017CN
발명의 명칭: (EN) PHOTOETCHING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PHOTOGRAVURE
(ZH) 光刻装置及方法
요약서:
(EN) Disclosed are a photoetching apparatus and method. The photoetching apparatus comprises at least two sets of exposure apparatus and one set of substrate apparatus, wherein the substrate apparatus comprises a substrate table (10) and a substrate (7), wherein the substrate table (10) carries the substrate (7); and the at least two sets of exposure apparatus are symmetrically distributed, in the direction of exposure scanning, above the substrate (7), and form two exposure fields on the substrate (7) to expose the substrate (7) in the exposure fields.
(FR) L'invention concerne un appareil et un procédé de photogravure. L'appareil de photogravure comprend au moins deux ensembles d'appareil d'exposition et un ensemble d'appareil de substrat, l'appareil de substrat comprenant une table de substrat (10) et un substrat (7), la table de substrat (10) portant le substrat (7) ; et lesdits ensembles d'appareil d'exposition sont répartis symétriquement, dans la direction de balayage d'exposition, au-dessus du substrat (7), et forment deux champs d'exposition sur le substrat (7) pour exposer le substrat (7) dans les champs d'exposition.
(ZH) 一种光刻装置及方法,光刻装置包括至少两套曝光装置和一套基板装置,其中:基板装置包括一基板台(10)和一基板(7),基板台(10)承载基板(7);至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在基板(7)上方,同时在基板(7)上形成两个曝光场,对曝光场内基板(7)进行曝光。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 중국어 (ZH)
출원언어: 중국어 (ZH)