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1. (WO2018165090) TOUGH, HIGH TEMPERATURE POLYMERS PRODUCED BY STEREOLITHOGRAPHY
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/165090 국제출원번호: PCT/US2018/021042
공개일: 13.09.2018 국제출원일: 06.03.2018
IPC:
C08F 2/48 (2006.01) ,C08F 222/10 (2006.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,C08F 220/34 (2006.01) ,C08F 220/54 (2006.01) ,B33Y 70/00 (2015.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
2
중합 방법
46
파동 에너지 또는 입자 방사선에 의하여 개시되는 중합
48
자외선 또는 가시광선에 의한 것
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
222
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 카르복실기로 종결되어 있고, 적어도 하나가 다른 카르복실기를 함유하는 화합물의 공중합체 그의 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴
10
.에스테르
[IPC code unknown for B33Y 10]
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
220
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 카르복실기 또는 그의 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴로 종결되어 있는 화합물의 공중합체
02
.10개 미만의 탄소 원자를 함유하는 모노카르복실산; 그의 유도체
10
에스테르
34
질소를 함유하는 에스테르
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
220
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 카르복실기 또는 그의 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴로 종결되어 있는 화합물의 공중합체
02
.10개 미만의 탄소 원자를 함유하는 모노카르복실산; 그의 유도체
52
아미드 또는 이미드
54
아미드
[IPC code unknown for B33Y 70]
출원인:
CARBON, INC. [US/US]; 1089 Mills Way Redwood City, California 94063, US
발명자:
MENYO, Matthew S.; US
대리인:
MYERS BIGEL, P.A.; P.O. Box 37428 Raleigh, North Carolina 27627, US
우선권 정보:
62/469,17909.03.2017US
62/574,80820.10.2017US
발명의 명칭: (EN) TOUGH, HIGH TEMPERATURE POLYMERS PRODUCED BY STEREOLITHOGRAPHY
(FR) POLYMÈRES HAUTE TEMPÉRATURE RÉSISTANTS PRODUITS PAR STÉRÉOLITHOGRAPHIE
요약서:
(EN) The present invention concerns methods of forming a three-dimensional object, and polymerizable liquids such as dual cure resins useful for making a three-dimensional object by sterolithography, such as by continuous liquid interface production (CLIP).
(FR) La présente invention concerne des procédés de formation d'un objet tridimensionnel, et des liquides polymérisables tels que des résines à double durcissement utiles pour fabriquer un objet tridimensionnel par stéréolithographie, par exemple par production d'interface liquide continue (CLIP).
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)