이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2018164076) FILM ELECTRODE, RESIN LAYER FORMING INK, INORGANIC LAYER FORMING INK, AND ELECTRODE PRINTING APPARATUS
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/164076 국제출원번호: PCT/JP2018/008411
공개일: 13.09.2018 국제출원일: 05.03.2018
국제예비심사 청구일: 28.09.2018
IPC:
H01M 4/04 (2006.01) ,H01M 4/139 (2010.01) ,H01M 4/36 (2006.01) ,H01M 4/62 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
4
전극(전기분해용 전극 C25)
02
활물질로서 되는 또는 활물질을 함유한 전극
04
제조방법일반
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
4
전극(전기분해용 전극 C25)
02
활물질로서 되는 또는 활물질을 함유한 전극
13
비수성(非水性) 전해질 축전지의 전극, 예. 리튬축전지용 전극; 리튬축전지용 전극의 제조공정
139
제조공정
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
4
전극(전기분해용 전극 C25)
02
활물질로서 되는 또는 활물질을 함유한 전극
36
활물질, 고형활물질, 유체활물질의 재료의 선택
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
M
화학적 에너지 전기적 에너지 직접 변환하기 위한 방법 또는 수단, 예. 전지
4
전극(전기분해용 전극 C25)
02
활물질로서 되는 또는 활물질을 함유한 전극
62
고형활물질중의 불활성재료성분의 선택, 예. 결합제, 충전제
출원인:
MASUZAWA, Masahiro [JP/JP]; JP (US)
USHIROGOCHI, Toru [JP/JP]; JP (US)
YANAGITA, Hideo [JP/JP]; JP (US)
ZAMA, Yuu [JP/JP]; JP (US)
YOSHIDA, Aya [JP/JP]; JP (US)
TAKEUCHI, Shigeo [JP/JP]; JP (US)
HIROWATARI, Anna [JP/JP]; JP (US)
KIMURA, Okitoshi [JP/JP]; JP (US)
MATSUOKA, Kohji [JP/JP]; JP (US)
TAKAUJI, Keigo [JP/JP]; JP (US)
OHKIMOTO, Miku [JP/JP]; JP (US)
RICOH COMPANY, LTD. [JP/JP]; 3-6, Nakamagome 1-chome, Ohta-ku, Tokyo 1438555, JP (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
발명자:
MASUZAWA, Masahiro; JP
USHIROGOCHI, Toru; JP
YANAGITA, Hideo; JP
ZAMA, Yuu; JP
YOSHIDA, Aya; JP
TAKEUCHI, Shigeo; JP
HIROWATARI, Anna; JP
KIMURA, Okitoshi; JP
MATSUOKA, Kohji; JP
TAKAUJI, Keigo; JP
OHKIMOTO, Miku; JP
대리인:
ITOH, Tadashige; JP
ITOH, Tadahiko; JP
우선권 정보:
2017-04212106.03.2017JP
2017-19627406.10.2017JP
2018-02257309.02.2018JP
발명의 명칭: (EN) FILM ELECTRODE, RESIN LAYER FORMING INK, INORGANIC LAYER FORMING INK, AND ELECTRODE PRINTING APPARATUS
(FR) ÉLECTRODE DE FILM, ENCRE DE FORMATION DE COUCHE DE RÉSINE, ENCRE DE FORMATION DE COUCHE INORGANIQUE ET APPAREIL D'IMPRESSION D'ÉLECTRODE
요약서:
(EN) A disclosed film electrode includes an electrode base, and an active material layer formed on the electrode base, and a resin layer adhering to at least one of a peripheral portion of the active material layer and a surface of the active material layer in a direction extending along a plane of the electrode base.
(FR) La présente invention concerne une électrode de film comprenant une base d'électrode, une couche de matériau actif formée sur la base d'électrode et une couche de résine adhérant à une partie périphérique de la couche de matériau actif et/ou une surface de la couche de matériau actif dans une direction s'étendant le long d'un plan de la base d'électrode.
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)