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1. (WO2018164045) ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE, PHASE DIFFERENCE FILM, CIRCULARLY POLARIZING PLATE
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明 細 書

発明の名称 有機エレクトロルミネッセンス表示装置、位相差フィルム、円偏光板

技術分野

0001  

背景技術

0002  

先行技術文献

特許文献

0003  

発明の概要

発明が解決しようとする課題

0004   0005  

課題を解決するための手段

0006   0007  

発明の効果

0008  

図面の簡単な説明

0009  

発明を実施するための形態

0010   0011   0012   0013   0014   0015   0016   0017   0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031   0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039   0040   0041   0042   0043   0044   0045   0046   0047   0048   0049   0050   0051   0052   0053   0054   0055   0056   0057   0058   0059   0060   0061   0062   0063   0064  

実施例

0065   0066   0067   0068   0069   0070   0071   0072   0073   0074   0075   0076   0077   0078   0079   0080   0081   0082   0083   0084   0085   0086   0087   0088   0089   0090   0091   0092   0093   0094   0095   0096   0097   0098   0099   0100   0101   0102  

符号の説明

0103  

請求の範囲

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   12   13  

図面

1   2   3   4   5  

明 細 書

発明の名称 : 有機エレクトロルミネッセンス表示装置、位相差フィルム、円偏光板

技術分野

[0001]
 本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、位相差フィルム、および、円偏光板に関する。

背景技術

[0002]
 従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、円偏光板が有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置に使用されている。円偏光板としては、例えば、特許文献1に記載されるように、光学異方性層A、光学異方性層B、および、偏光子を組み合わせた態様が開示されている。

先行技術文献

特許文献

[0003]
特許文献1 : 国際公開第2016/158298号パンフレット

発明の概要

発明が解決しようとする課題

[0004]
 一方、近年、有機EL表示装置に代表される表示装置においては、視野角特性のより一層の向上が求められている。より具体的には、円偏光板を含む表示装置においては、斜め方向から視認した際の外光反射のより一層の低減が求められている。
 本発明者が、特許文献1に記載の円偏光板を含む有機EL表示装置の外光反射特性について検討を行ったところ、斜め方向から視認した際の外光反射の抑制が昨今求められるレベルまで到達しておらず、更なる改良が必要であった。
[0005]
 本発明は、上記実情に鑑みて、斜め方向から視認した際の外光反射がより抑制された、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。
 また、本発明は、表示装置に適用した際に、斜め方向から視認した際の外光反射がより抑制された、位相差フィルムおよび円偏光板を提供することも課題とする。

課題を解決するための手段

[0006]
 本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、斜め方向から視認する場合、λ/4板のレタデーション、または、λ/4板の面内遅相軸と偏光子の吸収軸との関係が変化することが斜め方向反射率の悪化する原因であり、λ/4板としてのポジティブAプレートと偏光子との間に所定の面内レタデーションを示すネガティブAプレートを用いることにより、レタデーションおよび軸角度の変化を補償して上記課題を解決できることを見出した。
 すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
[0007]
(1) 有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル上に配置された円偏光板とを有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
 円偏光板が、偏光子と、位相差フィルムとを有し、
 位相差フィルムが、偏光子側から、ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートを有し、
 ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超90nm以下であり、
 ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、100~200nmであり、
 ネガティブAプレートの面内遅相軸とポジティブAプレートの面内遅相軸とのなす角度が45±10°であり、
 ネガティブAプレートの面内遅相軸と偏光子の吸収軸とが平行である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(2) ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超80nm未満である、(1)に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(3) ポジティブAプレートが、逆波長分散性を示す、(1)または(2)に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(4) ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、117~157nmである、(1)~(3)のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(5) ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートの厚みが、それぞれ10μm以下である、(1)~(4)のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(6) ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートのいずれも、液晶化合物を用いて形成される層である、(1)~(5)のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
(7) ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートを有し、
 ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超90nm以下であり、
 ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、100~200nmであり、
 ネガティブAプレートの面内遅相軸とポジティブAプレートの面内遅相軸とのなす角度が45±10°である、位相差フィルム。
(8) ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超80nm未満である、(7)に記載の位相差フィルム。
(9) ポジティブAプレートが、逆波長分散性を示す、(7)または(8)に記載の位相差フィルム。
(10) ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、117~157nmである、(7)~(9)のいずれかに記載の位相差フィルム。
(11) ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートの厚みが、それぞれ10μm以下である、(7)~(10)のいずれかに記載の位相差フィルム。
(12) ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートのいずれも、液晶化合物を用いて形成される層である、(7)~(11)のいずれかに記載の位相差フィルム。
(13) 偏光子、および、偏光子上に配置された(7)~(12)のいずれかに記載の位相差フィルムを有し、
 偏光子側から、ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートがこの順で配置され、
 ネガティブAプレートの面内遅相軸と偏光子の吸収軸とが平行である、円偏光板。

発明の効果

[0008]
 本発明によれば、斜め方向から視認した際の外光反射がより抑制された、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することができる。
 また、本発明によれば、表示装置に適用した際に、斜め方向から視認した際の外光反射がより抑制された、位相差フィルムおよび円偏光板を提供することもできる。

図面の簡単な説明

[0009]
[図1] 本発明の位相差フィルムの断面図である。
[図2] 本発明の位相差フィルムにおける、ネガティブAプレートの面内遅相軸、および、ポジティブAプレートの面内遅相軸の関係を示す図である。
[図3] 本発明の円偏光板の断面図である。
[図4] 本発明の円偏光板における、偏光子の吸収軸、ネガティブAプレートの面内遅相軸、および、ポジティブAプレートの面内遅相軸の関係を示す図である。
[図5] 本発明の有機EL表示装置の断面図である。

発明を実施するための形態

[0010]
 以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
[0011]
 本発明において、Re(λ)およびRth(λ)は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、550nmとする。
 本発明において、Re(λ)およびRth(λ)はAxoScan OPMF-1(オプトサイエンス社製)において、波長λで測定した値である。AxoScanにて平均屈折率((nx+ny+nz)/3)と膜厚(d(μm))を入力することにより、
 遅相軸方向(°)
 Re(λ)=R0(λ)
 Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d
が算出される。
 なお、R0(λ)は、AxoScan OPMF-1で算出される数値として表示されるものであるが、Re(λ)を意味している。
[0012]
 本明細書において、屈折率nx、ny、および、nzは、アッベ屈折率(NAR-4T、アタゴ(株)製)を使用し、光源にナトリウムランプ(λ=589nm)を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計DR-M2(アタゴ(株)製)にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
 また、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、および、ポリスチレン(1.59)。
 また、本明細書において、Nzファクターとは、Nz=(nx-nz)/(nx-ny)で与えられる値である。
[0013]
 なお、本明細書では、「可視光」とは、380~800nmのことをいう。
 また、本明細書において、角度(例えば「90°」などの角度)、およびその関係(例えば「直交」、「平行」、および「45°で交差」など)については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±10°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましく、1°以下であることがさらに好ましく、1°未満であることが特に好ましい。
[0014]
 なお、本明細書において、Aプレートは以下のように定義される。
 Aプレートは、ポジティブAプレート(正のAプレート)とネガティブAプレート(負のAプレート)との2種があり、フィルム面内の遅相軸方向(面内での屈折率が最大となる方向)の屈折率をnx、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、ポジティブAプレートは式(A1)の関係を満たすものであり、ネガティブAプレートは式(A2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブAプレートはRthが正の値を示し、ネガティブAプレートはRthが負の値を示す。
 式(A1)  nx>ny≒nz
 式(A2)  ny<nx≒nz
 なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(ny-nz)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、-10~10nm、好ましくは-5~5nmの場合も「ny≒nz」に含まれ、(nx-nz)×dが、-10~10nm、好ましくは-5~5nmの場合も「nx≒nz」に含まれる。
[0015]
 本明細書において、偏光子の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。「透過軸」は、「吸収軸」と90°の角度をなす方向を意味する。
 本明細書において、ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートの「面内遅相軸」は、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。
[0016]
 以下に、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL表示装置)、位相差フィルム、および、円偏光板について図面を参照して説明する。
 なお、以下では、位相差フィルム、円偏光板、および、有機EL表示装置の順に説明を行う。
[0017]
<位相差フィルム>
 本発明の位相差フィルムについて図面を参照して説明する。図1に、本発明の位相差フィルムの断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係および位置関係などは必ずしも図1の態様に制限されない。
 位相差フィルム10は、ネガティブAプレート12と、ポジティブAプレート14とを有する。
 また、図2において、ネガティブAプレート12の面内遅相軸、および、ポジティブAプレート14の面内遅相軸の関係を示す。図2中、ネガティブAプレート12およびポジティブAプレート14中の矢印は、それぞれの層中の面内遅相軸の方向を表す。
 以下、位相差フィルム10に含まれる各部材について詳述する。
[0018]
(ネガティブAプレート)
 ネガティブAプレートは、後述する円偏光板中において偏光子側に配置される層である。なお、ネガティブAプレートは、単層構造であることが好ましい。
 ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションは、50nm超90nm以下であり、有機EL表示装置を斜め方向から視認した際の外光反射がより抑制される点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、50nm超80nm未満が好ましく、65~75nmがより好ましい。
[0019]
 ネガティブAプレートの波長550nmにおける厚み方向のレタデーションであるRth(550)は、本発明の効果がより優れる点で、-45nm以上-25nm未満が好ましく、-40nm以上-25nm未満がより好ましく、-37.5~-32.5nmがさらに好ましい。
[0020]
 ネガティブAプレートは、順波長分散性(面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。)を示しても、逆波長分散性(面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。)を示してもよい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
 なお、ネガティブAプレートの面内レタデーションを適切に順波長分散性とするためには、具体的には、ネガティブAプレートのRe(450nm)/Re(550nm)は、1.00超1.20以下であることが好ましく、1.04~1.18であることがより好ましく、ネガティブAプレートのRe(650nm)/Re(550nm)は、0.70以上1.00未満であることが好ましく、0.80~0.98であることがより好ましい。
 なお、上記Re(450)およびRe(650)は、それぞれ波長450nmおよび波長650nmで測定したネガティブAプレートの面内レタデーションを示す。
[0021]
 ネガティブAプレートの厚みは特に制限されず、面内レタデーションが所定の範囲となるように調整されるが、位相差フィルムの薄型化の点から、10μm以下が好ましく、0.5~5.0μmがより好ましく、0.5~2.0μmがさらに好ましい。
 なお、本明細書において、ネガティブAプレートの厚みとは、ネガティブAプレートの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、ネガティブAプレートの任意の5点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
[0022]
 ネガティブAプレートは、液晶化合物を用いて形成される層であることが好ましい。ただし、上述した面内レタデーションなど所定の特性を満たせば、他の材料で構成されていてもよい。例えば、ポリマーフィルム(特に、延伸処理が施されたポリマーフィルム)から形成されていてもよい。
 なお、従来、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル(有機EL表示パネル)は剛直な平面型が主流であったが、近年、折り畳みが可能なフレキシブルな有機EL表示パネルが提案されている。このようなフレキシブルな有機EL表示パネルに用いる円偏光板としては、それ自体がフレキシブル性に優れることが求められる。この観点からは、液晶化合物を用いて形成されたネガティブAプレートであれば、ポリマーフィルムよりもフレキシブル性に優れるため、フレキシブルな有機EL表示パネルに好適に適用できる。
 また、後段で詳述するポジティブAプレートも、上記理由から、液晶化合物を用いて形成されたポジティブAプレートであることが好ましい。
 つまり、液晶化合物を用いて形成されたネガティブAプレートおよび液晶化合物を用いて形成されたポジティブAプレートを含む円偏光板であれば、フレキシブルな有機EL表示パネルにより好適に適用できる。
[0023]
 液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ(棒状液晶化合物)と円盤状タイプ(円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物)とに分類できる。さらに、液晶化合物は、低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。なお、液晶化合物として、2種以上の棒状液晶化合物、2種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
[0024]
 ネガティブAプレートは、光学特性の温度変化および湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶化合物(棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物)を用いて形成することがより好ましい。液晶化合物は2種類以上の混合物でもよく、その場合、少なくとも1つが2以上の重合性基を有していることが好ましい。
 つまり、ネガティブAプレートは、重合性基を有する液晶化合物(棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物)が重合などによって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
 上記重合性基の種類は特に制限されず、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
 ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタアクリロイル基が好ましい。
 カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
 特に、好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
[0025]
[化1]


[0026]
 ネガティブAプレートの形成方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
 なかでも、面内レタデーションの制御がしやすい点から、重合性基を有する液晶化合物(以後、単に「重合性液晶化合物」とも称する)を含むネガティブAプレート形成用組成物(以後、単に「組成物」とも称する)を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させ、得られた塗膜に対して硬化処理(紫外線の照射(光照射処理)または加熱処理)を施して、ネガティブAプレートを形成する方法が好ましい。
 以下、上記方法の手順について詳述する。
[0027]
 まず、支持体上に、組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させる。
 使用される組成物は、重合性液晶化合物を含む。重合性液晶化合物の定義は、上述した通りである。
[0028]
 組成物中における重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、面内レタデーションの制御がしやすい点から、組成物中の全固形分に対して、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、99質量%以下の場合が多い。
 なお、組成物中の全固形分には、溶媒は含まれない。
[0029]
 上記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
 例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α-カルボニル化合物、アシロインエーテル、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
 組成物中における重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.01~20質量%が好ましく、0.5~5質量%がより好ましい。
[0030]
 また、組成物には、重合性モノマーが含まれていてもよい。
 重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。重合性モノマーとしては、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましく、上記の重合性基を有する液晶化合物と共重合性のものがより好ましい。例えば、特開2002-296423号公報中の段落[0018]~[0020]に記載のものが挙げられる。
 組成物中における重合性モノマーの含有量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、1~50質量%が好ましく、2~30質量%がより好ましい。
[0031]
 また、組成物には、界面活性剤が含まれていてもよい。
 界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられ、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開2001-330725号公報中の段落[0028]~[0056]に記載の化合物、および、特願2003-295212号明細書中の段落[0069]~[0126]に記載の化合物が挙げられる。
[0032]
 また、組成物には、溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、アミド(例:N,N-ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例:ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例:ピリジン)、炭化水素(例:ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例:クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例:酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ケトン(例:アセトン、メチルエチルケトン)、および、エーテル(例:テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン)が挙げられる。なお、2種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
[0033]
 また、組成物には、垂直配向剤、および、水平配向剤などの各種配向制御剤が含まれていてもよい。これらの配向制御剤は、界面側において液晶化合物を水平または垂直に配向制御可能な化合物である。
 さらに、組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。
[0034]
 使用される支持体は、組成物を塗布するための基材として機能を有する部材である。支持体は、組成物を塗布および硬化させた後に剥離される仮支持体であってもよい。
[0035]
 支持体(仮支持体)としては、プラスチックフィルムの他、ガラス基板を用いてもよい。プラスチックフィルムを構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーン、および、ポリビニルアルコール(PVA)などが挙げられる。
 支持体の厚みは、5~1000μm程度であればよく、10~250μmが好ましく、15~90μmがより好ましい。
[0036]
 なお、必要に応じて、支持体上には、配向層を配置してもよい。
 配向層は、一般的には、ポリマーを主成分とする。配向層用ポリマーとしては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマーは、ポリビニルアルコール、ポリイミド、または、その誘導体が好ましい。
 なお、配向層には、公知のラビング処理が施されることが好ましい。
 配向層の厚みは、0.01~10μmが好ましく、0.01~1μmがより好ましい。
[0037]
 組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法などが挙げられる。いずれの方法で塗布する場合においても、単層塗布が好ましい。
[0038]
 支持体上に形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。
 配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
 なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては50~150℃が好ましく、加熱時間としては10秒間~5分間が好ましい。
[0039]
 次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
 重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
 光照射処理の照射条件は特に制限されないが、50~1000mJ/cm 2の照射量が好ましい。
[0040]
(ポジティブAプレート)
 ポジティブAプレートは、後述する円偏光板中において上記ネガティブAプレートを介して偏光子上に配置される層である。なお、ポジティブAプレートは、単層構造であることが好ましい。
 ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションは、100~200nmであり、本発明の効果がより優れる点で、117~157nmが好ましく、127~147nmがより好ましい。
[0041]
 ポジティブAプレートの波長550nmにおける厚み方向のレタデーションであるRth(550)は、本発明の効果がより優れる点で、50~100nmが好ましく、58~78nmがより好ましく、63~74nmがさらに好ましい。
[0042]
 ポジティブAプレートは、順波長分散性(面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。)を示しても、逆波長分散性(面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。)を示してもよいが、本発明の効果がより優れる点で、逆波長分散性を示すことが好ましい。なお、上記順波長分散性および逆波長分散性は、可視光域において示されることが好ましい。
 なお、ポジティブAプレートの面内レタデーションを適切に逆波長分散性とするためには、具体的には、ポジティブAプレートのRe(450nm)/Re(550nm)は、0.70以上1.00未満であることが好ましく、0.80~0.90であることがより好ましく、ポジティブAプレートのRe(650nm)/Re(550nm)は、1.00超1.20以下であることが好ましく、1.02~1.10であることがより好ましい。
 なお、上記Re(450)およびRe(650)は、それぞれ波長450nmおよび波長650nmで測定したポジティブAプレートの面内レタデーションを示す。
[0043]
 ポジティブAプレートの厚みは特に制限されず、面内レタデーションが所定の範囲となるように調整されるが、位相差フィルムの薄型化の点から、10μm以下が好ましく、0.5~5.0μmが好ましく、1~2.5μmがより好ましい。
 なお、本明細書において、ポジティブAプレートの厚みとは、ポジティブAプレートの平均厚みを意図する。上記厚みは、ポジティブAプレートの任意の5点以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。
[0044]
 図2に示す、ネガティブAプレート12の面内遅相軸とポジティブAプレート14の面内遅相軸とのなす角度θは、45±10°である。つまり、上記角度θは、35~55°である。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、角度θは、40~50°が好ましく、42~48°がより好ましく、44°超46°未満がさらに好ましい。
 なお、上記角度は、ネガティブAプレート表面の法線方向から視認した際の、ネガティブAプレートの面内遅相軸とポジティブAプレートの面内遅相軸とのなす角度を意図する。
[0045]
 ポジティブAプレートを構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、上述したネガティブAプレートで述べた態様が挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、ポジティブAプレートは、重合性基を有する液晶化合物(棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物)が重合などによって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
 ポジティブAプレートの形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用でき、例えば、上述したネガティブAプレートを形成する方法が挙げられる。
[0046]
 なかでも、ポジティブAプレートを形成する際に用いられる重合性基を有する液晶化合物としては、一般式(I)で表される化合物が好ましい。
 一般式(I)  L 1-G 1-D 1-Ar-D 2-G 2-L 2
[0047]
 D 1およびD 2は、それぞれ独立に、-CO-O-、-O-CO-、-C(=S)O-、-O-C(=S)-、-CR 12-、-CR 12-CR 34-、-O-CR 12-、-CR 12-O-、-CR 12-O-CR 34-、-CR 12-O-CO-、-O-CO-CR 12-、-CR 12-O-CO-CR 34-、-CR 12-CO-O-CR 34-、-NR 1-CR 23-、-CR 12-NR 3-、-CO-NR 1-、または、-NR 1-CO-を表し、R 1、R 2、R 3、およびR 4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1~4のアルキル基を表す。
 G 1およびG 2は、それぞれ独立に、炭素数5~8の2価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、-O-、-S-、または、-NR 6-で置換されていてもよく、R 6は水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表す。
 L 1およびL 2は、それぞれ独立に、1価の有機基を表し、L 1およびL 2からなる群から選ばれる少なくとも一種が、重合性基を有する1価の基を表す。
 Arは、一般式(II-1)、一般式(II-2)、一般式(II-3)、または、一般式(II-4)で表される2価の芳香環基を表す。
[0048]
[化2]


[0049]
 Q 1は、-S-、-O-、または-NR 11-を表し、R 11は、水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表す。Y 1は、炭素数6~12の芳香族炭化水素基、または、炭素数3~12の芳香族複素環基を表す。Z 1、Z 2、および、Z 3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~20の脂肪族炭化水素基、炭素数3~20の脂環式炭化水素基、1価の炭素数6~20の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、-NR 1213または-SR 12を表す。Z 1およびZ 2は、互いに結合して芳香族炭化水素環または芳香族複素環を形成してもよく、R 12およびR 13は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表す。A 1およびA 2は、それぞれ独立に、-O-、-NR 21-(R 21は水素原子または置換基を表す。)、-S-および-CO-からなる群から選ばれる基を表す。Xは水素原子または置換基が結合していてもよい第14~16族の非金属原子を表す。Axは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。Ayは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~30の有機基を表す。AxおよびAyが有する芳香環は置換基を有していてもよく、AxとAyとは結合して、環を形成していてもよい。Q 2は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数1~6のアルキル基を表す。
[0050]
 一般式(I)で表される化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開2012-21068号公報に記載の化合物(A)のD 1、D 2、G 1、G 2、L 1、L 2、R 4、R 5、R 6、R 7、X 1、Y 1、Q 1、および、Q 2に関する記載をそれぞれ上記一般式(I)のD 1、D 2、G 1、G 2、L 1、L 2、R 1、R 2、R 3、R 4、Q 、Y 1、Z 1、および、Z 2について参照でき、特開2008-107767号公報に記載の一般式(I)で表される化合物のA 1、A 2、および、Xに関する記載をそれぞれ上記一般式(I)のA 1、A 2、および、Xについて参照でき、国際公開第2013/018526号パンフレットに記載の一般式(I)で表される化合物のAx、Ay、および、Q 1に関する記載をそれぞれ上記一般式(I)に関するAx、Ay、および、Q 2について参照できる。Z 3については、特開2012-21068号公報に記載の化合物(A)のQ 1に関する記載を参照できる。
[0051]
 L 1およびL 2の一方は、-D 3-G 3-Sp-P 3で表される基であることが好ましい。また、L 1およびL 2の両方が、-D 3-G 3-Sp-P 3で表される基であってもよい。
 D 3は、D 1と同義である。
 G 3は、単結合、炭素数6~12の2価の芳香環基もしくは複素環基、または、炭素数5~8の2価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、-O-、-S-、または、-NR 7-で置換されていてもよく、ここでR 7は水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表す。
 Spは、単結合、アルキレン基、-O-、-C(=O)-、-NR 8-、または、これらを組み合わせた基を表す。上記組み合わせた基としては、例えば、-(CH 2n-、-(CH 2n-O-、-(CH 2-O-) n-、-(CH 2CH 2-O-) m、-O-(CH 2n-、-O-(CH 2n-O-、-O-(CH 2-O-) n-、-O-(CH 2CH 2-O-) m、-C(=O)-O-(CH 2n-、-C(=O)-O-(CH 2n-O-、-C(=O)-O-(CH 2-O-) n-、-C(=O)-O-(CH 2CH 2-O-) m、-C(=O)-NR 8-(CH 2n-、-C(=O)-NR 8-(CH 2n-O-、-C(=O)-NR 8-(CH 2-O-) n-、-C(=O)-NR 8-(CH 2CH 2-O-) m、および、-(CH 2n-O-C(=O)-(CH 2n-C(=O)-O-(CH 2n-O-が挙げられる。ここで、nは2~12の整数を表し、mは2~6の整数を表し、R 8は水素原子または炭素数1~6のアルキル基を表す。なお、nが3以上の場合、-(CH 2n-で表されるアルキレン基は分岐していてもよい。
 P 3は重合性基を示す。重合性基の定義は、上述した通りである。
[0052]
(その他の層)
 上記位相差フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、ネガティブAプレート、および、ポジティブAプレート以外の他の層を含んでいてもよい。
 例えば、位相差フィルムは、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向層を含んでいてもよい。配向層の配置位置は特に制限されないが、例えば、ネガティブAプレートとポジティブAプレートとの間が挙げられる。
 配向層を構成する材料、および、配向層の厚みは、上述した通りである。
 また、位相差フィルムは、各層間を接着するための接着層または粘着層を含んでいてもよい。
[0053]
 位相差フィルムの製造方法は特に制限されず、例えば、それぞれ用意したネガティブAプレート、および、ポジティブAプレートを接着剤または粘着剤を介して貼り合わせる方法が挙げられる。
[0054]
 上記位相差フィルムは、種々の用途に適用でき、特に、反射防止用途に好適に適用できる。より具体的には、有機EL表示装置などの表示装置の反射防止用途に好適に適用できる。
[0055]
<円偏光板>
 本発明の円偏光板について図面を参照して説明する。図3に、本発明の円偏光板の断面図を示す。
 円偏光板16は、偏光子18と、ネガティブAプレート12と、ポジティブAプレート14とをこの順で有する。
 また、図4において、偏光子18の吸収軸、ネガティブAプレート12の面内遅相軸、および、ポジティブAプレート14の面内遅相軸の関係を示す。図4中、偏光子18中の矢印は吸収軸の方向を表し、ネガティブAプレート12およびポジティブAプレート14中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸の方向を表す。
 以下、円偏光板16に含まれる各部材について詳述する。
 まず、円偏光板16に含まれるネガティブAプレート12およびポジティブAプレート14の態様は、上述した通りである。
[0056]
(偏光子)
 偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材(直線偏光子)であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
 吸収型偏光子としては、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子とがあり、いずれも適用できる。なかでも、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
 また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第5048120号公報、特許第5143918号公報、特許第5048120号公報、特許第4691205号公報、特許第4751481号公報、および、特許第4751486号公報に記載の方法が挙げられ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用できる。
 なかでも、取り扱い性の点から、偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂(-CH -CHOH-を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン-ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも1つが好ましい。)を含む偏光子であることが好ましい。
[0057]
 偏光子の厚みは特に制限されないが、取り扱い性に優れると共に、光学特性にも優れる点より、35μm以下が好ましく、3~25μmがより好ましく、4~15μmがさらに好ましい。上記厚みであれば、画像表示装置の薄型化にも対応可能となる。
[0058]
 図4に示すように、偏光子18の吸収軸とネガティブAプレート12の面内遅相軸とは、平行である。平行の定義は上述した通りであり、言い換えれば、偏光子18の吸収軸とネガティブAプレート12の面内遅相軸とのなす角度は0~10°の範囲にある。なかでも、偏光子18の吸収軸とネガティブAプレート12の面内遅相軸とのなす角度は、0以上5°未満が好ましく、0以上2°未満が好ましく、0以上1°未満がさらに好ましい。
 なお、上記角度とは、偏光子18表面の法線方向から視認した際の、偏光子18の吸収軸とネガティブAプレート12の面内遅相軸とのなす角度を意図する。
[0059]
 また、偏光子18の吸収軸とポジティブAプレート14の面内遅相軸とのなす角度θは、45±10°であることが好ましい。つまり、偏光子18の吸収軸とポジティブAプレート14の面内遅相軸とのなす角度θは、35~55°が好ましい。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、偏光子18の吸収軸とポジティブAプレート14の面内遅相軸とのなす角度θは、40~50°がより好ましく、42~48°がさらに好ましい。
 なお、上記角度θとは、偏光子18表面の法線方向から視認した際の、偏光子18の吸収軸とポジティブAプレート14の面内遅相軸とのなす角度を意図する。
[0060]
(その他の層)
 上記円偏光板16は、本発明の効果を損なわない範囲で、偏光子18、ネガティブAプレート12、および、ポジティブAプレート14以外の他の層を含んでいてもよい。
 例えば、円偏光板16は、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向層を含んでいてもよい。配向層の配置位置は特に制限されないが、例えば、ネガティブAプレート12とポジティブAプレート14との間が挙げられる。
 配向層を構成する材料、および、配向層の厚みは、上述した通りである。
 また、円偏光板16は、各層間を接着するための接着層または粘着層を含んでいてもよい。
[0061]
 さらに、偏光子の表面上には、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。
 偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、透明支持体またはハードコート層であってもよく、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
 ハードコート層としては、公知の層を使用でき、例えば、上述した多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
 また、透明支持体としては、公知の透明支持体が挙げられる。また、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表されるセルロース系ポリマー(以下、セルロースアシレートという)、熱可塑性ノルボルネン系樹脂(日本ゼオン(株)製のゼオネックスおよびゼオノア、並びに、JSR(株)製のアートンなど)、アクリル系樹脂、および、ポリエステル系樹脂が挙げられる。
 偏光子保護フィルムの厚みは特に制限されないが、円偏光板の厚みを薄くできる点から、40μm以下が好ましく、25μm以下がより好ましい。
[0062]
 円偏光板の製造方法は特に制限されず、例えば、それぞれ用意した偏光子、ネガティブAプレート、および、ポジティブAプレートを接着剤または粘着剤を介して貼り合わせる方法が挙げられる。
[0063]
 上記円偏光板は、種々の用途に適用でき、特に、反射防止用途に好適に適用できる。より具体的には、有機EL表示装置などの表示装置の反射防止用途に好適に適用できる。
[0064]
<有機EL表示装置>
 本発明の有機EL表示装置について図面を参照して説明する。図5に、本発明の有機EL表示装置の断面図を示す。
 有機EL表示装置20は、偏光子18と、ネガティブAプレート12と、ポジティブAプレート14と、有機EL表示パネル22とをこの順で有する。なお、図5に示すように、円偏光板16中の偏光子18が視認側に配置される。
 有機EL表示パネル22は、電極間(陰極および陽極間)に有機発光層(有機エレクトロルミネッセンス層)を挟持してなる有機EL素子を用いて構成された表示パネルである。
 有機EL表示パネル22の構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
実施例
[0065]
 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
[0066]
[実施例1]
<<偏光子の作製>>
<保護膜の作製>
 下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープを調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度2.88のセルロースアセテート      100質量部
エステルオリゴマー(化合物1-1)            10質量部
耐久性改良剤(化合物1-2)                4質量部
紫外線吸収剤(化合物1-3)                3質量部
メチレンクロライド(第1溶媒)             438質量部
メタノール(第2溶媒)                  65質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
[0067]
[化3]


[0068]
[化4]


[0069]
[化5]


[0070]
[外層セルロースアシレートドープの作製]
 上記のコア層セルロースアシレートドープ90質量部に下記組成のマット剤分散液を10質量部加え、外層セルロースアシレートドープを調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ20nmのシリカ粒子
(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製)    2質量部
メチレンクロライド(第1溶媒)              76質量部
メタノール(第2溶媒)                  11質量部
コア層セルロースアシレートドープ1             1質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
[0071]
[セルロースアシレートフィルムの作製]
 上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを3層同時に流延口から20℃のドラム上に流延した。ドラム上のフィルムの溶媒含有率が略20質量%の状態となったところでフィルムを剥ぎ取り、剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、フィルム中の残留溶媒が3~15質量%の状態で、フィルムを横方向に1.2倍延伸しつつ乾燥した。その後、延伸されたフィルムを熱処理装置のロール間に搬送することにより、厚み25μmのセルロースアシレートフィルムを作製し、偏光板保護膜とした。
[0072]
<ハードコート層の作製>
 ハードコート層形成用の塗布液として、下記表1に記載のハードコート用硬化性組成物を調製した。
[0073]
[表1]


[0074]
[化6]


[0075]
 上記ハードコート用硬化性組成物を、上記にて作製した偏光板保護膜上へ塗布した。その後、偏光板保護膜上の塗膜を100℃で60秒乾燥し、窒素0.1%以下の条件でUV(紫外線)を1.5kW、300mJにて塗膜に照射し、硬化させ、厚み3μmのハードコート層を有するハードコート層付保護膜を作製した。なお、ハードコート層の厚みの調整は、スロットダイを用い、ダイコート法において塗布量を調整することにより行った。
[0076]
<保護膜付き偏光子の作製>
1)フィルムのケン化
 作製したハードコート層付保護膜を37℃に調温した4.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液(ケン化液)に1分間浸漬した後、ハードコート層付保護膜を取り出して水洗した。その後、ハードコート層付保護膜を0.05mol/Lの硫酸水溶液に30秒間浸漬した後、ハードコート層付保護膜を取り出して、さらに水洗浴に通した。そして、得られたフィルムをエアナイフによる水切りを3回繰り返し、水を落とした後に70℃の乾燥ゾーンに15秒間滞留させて乾燥し、ケン化処理したハードコート層付保護膜を作製した。
2)偏光子の作製
 特開2001-141926号公報の実施例1に従い、乾燥条件を変更して、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、幅1330mm、厚み15μmの偏光子を作製した。
3)貼り合わせ
 作製した偏光子と、ケン化処理したハードコート層付保護膜とを、PVA((株)クラレ製、PVA-117H)3質量%水溶液を接着剤として、偏光子の吸収軸とフィルム(ハードコート層付保護膜)の長手方向とが平行となるようにロールツーロールで貼りあわせて保護膜付き偏光子を作製した。
 このとき、セルロースアシレートフィルムと偏光子とが対向するように、偏光子と、ケン化処理したハードコート層付保護膜とを貼り合わせた。
[0077]
<<ネガティブAプレートの作製>>
<仮支持体の作製>
 下記一般式(II)で表されるラクトン環構造を有するアクリル系樹脂{共重合モノマー質量比=メタクリル酸メチル/2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル=8/2、ラクトン環化率約100%、ラクトン環構造の含有割合19.4%、重量平均分子量133000、メルトフローレート6.5g/10分(240℃、10kgf)、Tg131℃}90質量部と、アクリロニトリル-スチレン(AS)樹脂{トーヨーAS AS20、東洋スチレン社製}10質量部との混合物(Tg127℃)のペレットを二軸押出機に供給し、約280℃でシート状に溶融押出しした。その後、溶融押出しされたシートを、縦一軸延伸機において、給気温度130℃、シート面温度120℃、延伸速度30%/分、および、延伸倍率35%で縦延伸した。その後、縦延伸されたシートを、テンター式延伸機において、給気温度130℃、シート面温度120℃、延伸速度30%/分、および、延伸倍率35%で横延伸した。その後、横延伸されたシートを、巻取り部前で両端部を切り落とし、長さ4000mのロールフィルムとして巻き取りして、厚み40μmの長尺状の仮支持体を作製した。
[0078]
[化7]


[0079]
 上記一般式(II)中、R 1は水素原子であり、R 2およびR 3はメチル基である。
[0080]
<配向層の形成>
 上記仮支持体上に、下記組成の配向層形成用塗布液を#14のワイヤーバーで連続的に塗布した。配向層形成用塗布液が塗布された仮支持体を、60℃の温風で60秒、さらに100℃の温風で120秒乾燥し、仮支持体上に塗膜を形成した。さらに、塗膜に対して、仮支持体の長手方向にラビング処理を施し、配向層を形成した。
 使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は96.8%であった。
[0081]
-配向層形成用塗布液の組成-
 下記の変性ポリビニルアルコール             10質量部
 水                          308質量部
 メタノール                       70質量部
 イソプロパノール                    29質量部
 光重合開始剤(IRGACURE(登録商標)2959、BASF社製)
                            0.8質量部
[0082]
[化8]



 変性ポリビニルアルコールの組成割合は、モル分率である。
[0083]
<ネガティブAプレートの形成>
 次に、後述する表2に示す組成物1を、MEK(メチルエチルケトン)に溶解させて、固形分濃度が10質量%となるよう調製し、塗布液を得た。得られた塗布液を上記配向層上にバー塗布して、120℃で2分間加熱熟成を行って、塗膜中において液晶化合物の均一な配向状態を得た。その後、この塗膜を120℃に保持し、これにメタルハライドランプを用いて120℃、100mJ/cm 2にて紫外線照射して、ネガティブAプレート(膜厚:1.0μm)を形成した。上記手順によって、仮支持体、配向層、および、ネガティブAプレートを有するフィルムAを得た。
[0084]
 なお、表2中の数値は、質量部を表す。
[0085]
[表2]


[0086]
 棒状液晶化合物(1)
[化9]


[0087]
 棒状液晶化合物(2)
[化10]


[0088]
[化11]


[0089]
[化12]


[0090]
[化13]


[0091]
[化14]


[0092]
[化15]


[0093]
<<ポジティブAプレートの作製>>
 上記<<ネガティブAプレートの作製>>で述べた方法に沿って、配向層付き仮支持体を製造した。
[0094]
<ポジティブAプレートの形成>
 次に、上述した表2に示す組成物2を、MEK(メチルエチルケトン)に溶解させて、固形分濃度が10質量%となるよう調製し、塗布液を得た。得られた塗布液を上記配向層上にバー塗布して、120℃で2分間加熱熟成を行って、塗膜中において液晶化合物の均一な配向状態を得た。その後、この塗膜を120℃に保持し、これにメタルハライドランプを用いて120℃、100mJ/cm 2にて紫外線照射して、ポジティブAプレート(膜厚:2.2μm)を形成した。上記手順によって、仮支持体、配向層、および、ポジティブAプレートを有するフィルムBを得た。
[0095]
<<円偏光板の作製>>
 上記で得られた保護膜付き偏光子の偏光子側の表面上に、偏光子とネガティブAプレートとが対向するように市販のアクリル接着剤(東亞合成株式会社製UV-3300)を介して、保護膜付き偏光子とフィルムAとを貼り合わせて、貼合体を得た。メタルハライドランプを用いて、仮支持体側から照射量100mJ/cm 2の紫外線を上記貼合体に照射して、接着剤を硬化させた後、得られたフィルムから仮支持体を剥離した。
 次に、保護膜付き偏光子とネガティブAプレートとを含むフィルムのネガティブAプレート側の表面上に、ネガティブAプレートとポジティブAプレートとが対向するように市販のアクリル接着剤(東亜合成株式会社製UV-3300)を介して、上記フィルムとフィルムBとを貼り合わせて、貼合体を得た。メタルハライドランプを用いて、仮支持体側から照射量100mJ/cm 2の紫外線を上記貼合体に照射して、接着剤を硬化させた後、得られたフィルムから仮支持体を剥離し、偏光子とネガティブAプレートとポジティブAプレートとをこの順で有する円偏光板を作製した。
 なお、後述する表3に示す「ネガティブAプレートの面内遅相軸と偏光子の吸収軸となす角度(°)」および「ポジティブAプレートの面内遅相軸と偏光子の吸収軸となす角度(°)」に記載の角度となるように、各層の貼り合わせを実施した。
[0096]
[実施例2~7、比較例1~3]
 <<ネガティブAプレートの作製>>および<<ポジティブAプレートの作製>>の際の厚み、および、ネガティブAプレートの面内遅相軸と偏光子の吸収軸となす角度(°)を後述する表3に記載の通り変更した以外は、実施例1と同様の手順に従って、円偏光板を作製した。
[0097]
 なお、フィルムAおよびフィルムBからそれぞれ仮支持体を剥離し、ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートのRe(550)、Rth(550)、Re(450)/Re(550)、および、Re(650)/Re(550)をAxoScanにより測定した。
[0098]
[円偏光板の有機EL表示パネルへの実装および表示性能の評価]
(円偏光板の有機EL表示装置への実装)
 有機EL表示パネル搭載のSAMSUNG社製GALAXY S IVを分解し、円偏光板を剥離して、実施例1~7および比較例1~3の円偏光板をそれぞれ有機EL表示パネル上に貼合し、有機EL表示装置を作製した。
[0099]
(斜め表示性能の評価)
 作製した有機EL表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。外光反射光が最も視認されやすい黒表示にて、極角45度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察した。視野角方向(極角45度)の表示品位を下記の基準で評価した。結果を表3にまとめて示す。
(反射率)
A:反射光がほとんど視認されない。
B:反射光がごくわずかに視認される。
C:反射光がわずかに視認される。
D:反射光が視認される。
[0100]
[表3]


[0101]
 なお、偏光子の吸収軸とネガティブAプレートおよびポジティブAプレートの面内遅相軸との関係から、各実施例中の円偏光板中の位相差フィルムは、ポジティブAプレートのレタデーションと同程度のレタデーションのフィルムとして機能する。
[0102]
 表3に示すように、本発明の有機EL表示装置においては、所望の効果が得られた。
 特に、実施例1~4の比較より、ネガティブAプレートのRe(550)が50nm超80nm未満の場合(好ましくは、65~75nmの場合)、より効果が優れることが確認された。
 一方で、ネガティブAプレートを設けていない比較例1、並びに、ネガティブAプレートのRe(550)が所定の範囲外の比較例2および3においては、所望の効果が得られなかった。なお、比較例3は、特許文献1の態様に該当する。

符号の説明

[0103]
 10  位相差フィルム
 12  ネガティブAプレート
 14  ポジティブAプレート
 16  円偏光板
 18  偏光子
 20  有機EL表示装置
 22  有機EL表示パネル

請求の範囲

[請求項1]
 有機エレクトロルミネッセンス表示パネルと、前記有機エレクトロルミネッセンス表示パネル上に配置された円偏光板とを有する、有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
 前記円偏光板が、偏光子と、位相差フィルムとを有し、
 前記位相差フィルムが、前記偏光子側から、ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートを有し、
 前記ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超90nm以下であり、
 前記ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、100~200nmであり、
 前記ネガティブAプレートの面内遅相軸と前記ポジティブAプレートの面内遅相軸とのなす角度が45±10°であり、
 前記ネガティブAプレートの面内遅相軸と前記偏光子の吸収軸とが平行である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
[請求項2]
 前記ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超80nm未満である、請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
[請求項3]
 前記ポジティブAプレートが、逆波長分散性を示す、請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
[請求項4]
 前記ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、117~157nmである、請求項1~3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
[請求項5]
 前記ネガティブAプレートおよび前記ポジティブAプレートの厚みが、それぞれ10μm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
[請求項6]
 前記ネガティブAプレートおよび前記ポジティブAプレートのいずれも、液晶化合物を用いて形成される層である、請求項1~5のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
[請求項7]
 ネガティブAプレートおよびポジティブAプレートを有し、
 前記ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超90nm以下であり、
 前記ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、100~200nmであり、
 前記ネガティブAプレートの面内遅相軸と前記ポジティブAプレートの面内遅相軸とのなす角度が45±10°である、位相差フィルム。
[請求項8]
 前記ネガティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、50nm超80nm未満である、請求項7に記載の位相差フィルム。
[請求項9]
 前記ポジティブAプレートが、逆波長分散性を示す、請求項7または8に記載の位相差フィルム。
[請求項10]
 前記ポジティブAプレートの波長550nmにおける面内レタデーションが、117~157nmである、請求項7~9のいずれか1項に記載の位相差フィルム。
[請求項11]
 前記ネガティブAプレートおよび前記ポジティブAプレートの厚みが、それぞれ10μm以下である、請求項7~10のいずれか1項に記載の位相差フィルム。
[請求項12]
 前記ネガティブAプレートおよび前記ポジティブAプレートのいずれも、液晶化合物を用いて形成される層である、請求項7~11のいずれか1項に記載の位相差フィルム。
[請求項13]
 偏光子、および、前記偏光子上に配置された請求項7~12のいずれか1項に記載の位相差フィルムを有し、
 前記偏光子側から、前記ネガティブAプレートおよび前記ポジティブAプレートがこの順で配置され、
 前記ネガティブAプレートの面内遅相軸と前記偏光子の吸収軸とが平行である、円偏光板。

図面

[ 図 1]

[ 図 2]

[ 図 3]

[ 図 4]

[ 図 5]