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1. (WO2018145907) DIRECT-STRUCTURABLE FORMULATIONS BASED ON METAL OXIDE PRECURSORS FOR PRODUCING OXIDIC LAYERS
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/145907 국제출원번호: PCT/EP2018/051798
공개일: 16.08.2018 국제출원일: 25.01.2018
IPC:
C09D 1/00 (2006.01) ,C23C 18/14 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
D
피복 조성물, 예. 페인트, 바니시 또는 락카; 충전용 반죽; 페인트 또는 잉크 제거제; 잉크; 수정액; 목재 물감(WOODSTAINS); 그 물질의 사용
1
무기 물질을 기재로 하는 피복 조성물 예. 페인트, 바니시 또는 락카
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
18
액상성분 또는 용액의 어느 것으로부터 되는 피복형성성분의 분해에 의한 화학적피복. 단 표면재료의 반응생성물을 피복층중에 남기지 않는 것 접촉도금
14
.방사에 의한 분해, 예. 광분해, 입자방사
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
04
크롬산염
출원인:
EVONIK DEGUSSA GMBH [DE/DE]; Rellinghauser Straße 1-11 45128 Essen, DE
발명자:
MERKULOV, Alexey; DE
BRENDT, Jochen; DE
KÖHLING, Jonas; DE
우선권 정보:
17155205.208.02.2017EP
발명의 명칭: (EN) DIRECT-STRUCTURABLE FORMULATIONS BASED ON METAL OXIDE PRECURSORS FOR PRODUCING OXIDIC LAYERS
(FR) FORMULATIONS À STRUCTURATION DIRECTE À BASE DE PRÉCURSEURS D'OXYDE MÉTALLIQUE POUR LA FABRICATION DE COUCHES D'OXYDE
(DE) DIREKT-STRUKTURIERBARE FORMULIERUNGEN AUF DER BASIS VON METALLOXID-PREKURSOREN ZUR HERSTELLUNG OXIDISCHER SCHICHTEN
요약서:
(EN) The invention relates to direct-structurable coating compositions comprising a metal oxide precursor, a photoacid generator, and a solvent. The present invention also relates to the use of such a coating composition to produce directly structured metal oxide layers, a method for producing metal oxide layers using such a coating composition, a metal oxide-containing layer produced according to such a method, and the use of such a metal oxide-containing layer to produce electronic components, in particular to produce transistors, diodes, sensors or solar cells.
(FR) La présente invention concerne des compositions de revêtement à structuration directe comprenant un précurseur d'oxyde métallique, un photogénérateur d'acide et un solvant. La présente invention concerne en outre l'utilisation d'une telle composition de revêtement pour la fabrication de couches d'oxyde métallique à structuration directe, un procédé de fabrication de couches d'oxyde métallique à l'aide d'une telle composition de revêtement, une couche contenant de l'oxyde métallique fabriquée par un tel procédé, ainsi que l'utilisation d'une telle couche contenant de l'oxyde métallique pour la fabrication de composants électroniques, en particulier pour la fabrication de transistors, de diodes, de capteurs ou de cellules solaires.
(DE) Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind direkt-strukturierbare Beschichtungszusammensetzungen umfassend einen Metalloxid-Prekursor, einen Photosäuregenerator und ein Lösemittel. Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin die Verwendung einer solchen Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung direkt-strukturierter metalloxidischer Schichten, ein Verfahren zur Herstellung metalloxidischer Schichten unter Verwendung einer solchen Beschichtungszusammensetzung, eine nach einem solchen Verfahren hergestellte Metalloxid-haltige Schicht, sowie die Verwendung einer solchen Metalloxid-haltigen Schicht zur Herstellung elektronischer Bauteile, insbesondere zur Herstellung von Transistoren, Dioden, Sensoren oder Solarzellen.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 독일어 (DE)
출원언어: 독일어 (DE)