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1. (WO2018130586) LOW-SOLVENT COATING SYSTEMS FOR TEXTILES
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/130586 국제출원번호: PCT/EP2018/050587
공개일: 19.07.2018 국제출원일: 10.01.2018
IPC:
C08G 18/48 (2006.01) ,C08G 18/66 (2006.01) ,C08G 18/76 (2006.01) ,C08G 18/08 (2006.01) ,C08G 18/10 (2006.01) ,C08G 18/12 (2006.01) ,C09D 175/08 (2006.01) ,C08G 18/32 (2006.01) ,C08G 18/40 (2006.01) ,C08G 18/42 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
28
활성 수소 함유 사용 화합물에 특징이 있는 것
40
고분자량 화합물
48
폴리에테르
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
28
활성 수소 함유 사용 화합물에 특징이 있는 것
65
활성 수소를 갖는 고분자량 화합물을 포함한 활성 수소를 갖는 저분자량 화합물
66
그룹 C08G 18/42,C08G 18/48 또는 C08G 18/52의 화합물
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
70
사용된 이소시안산염 또는 이소티오시안산염에 의해 특징지어지는 것
72
다중 이소시안산염 또는 다중 이소시안산염
74
고리
76
방향족
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
08
공정
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
08
공정
10
1차 반응에서 이소시안산염 또는 이소티오시안산염과 활성 수소를 갖는 화합물과 반응하는 예비 고분자 공정
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
08
공정
10
1차 반응에서 이소시안산염 또는 이소티오시안산염과 활성 수소를 갖는 화합물과 반응하는 예비 고분자 공정
12
제1 중합 단계에서 활성 수소를 가진 둘 또는 그 이상의 화합물을 사용하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
D
피복 조성물, 예. 페인트, 바니시 또는 락카; 충전용 반죽; 페인트 또는 잉크 제거제; 잉크; 수정액; 목재 물감(WOODSTAINS); 그 물질의 사용
175
폴리우레아 또는 폴리우레탄 기재의 피복 조성물 상기 고분자 유도체 기재의 피복 조성물
04
.폴리우레탄
08
폴리에테르로부터 된 것
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
28
활성 수소 함유 사용 화합물에 특징이 있는 것
30
저분자량 화합물
32
폴리히드록시 화합물; 폴리아민; 히드록시아민
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
28
활성 수소 함유 사용 화합물에 특징이 있는 것
40
고분자량 화합물
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
18
이소시안산염 또는 이소티오시안산염의 고분자 생성물
06
.활성 수소를 가진 화합물과의
28
활성 수소 함유 사용 화합물에 특징이 있는 것
40
고분자량 화합물
42
주사슬에 카르복실산에스테르 또는 탄산에스테르기를 갖는 중축합물
출원인:
COVESTRO DEUTSCHLAND AG [DE/DE]; Kaiser-Wilhelm-Allee 60 51373 Leverkusen, DE
발명자:
KÖCHER, Jürgen; DE
LANGER, Rafael; DE
대리인:
LEVPAT; Covestro AG, Gebäude 4825 51365 Leverkusen, DE
우선권 정보:
17151308.813.01.2017EP
발명의 명칭: (EN) LOW-SOLVENT COATING SYSTEMS FOR TEXTILES
(FR) SYSTÈMES DE REVÊTEMENT À FAIBLE TENEUR EN SOLVANT POUR TEXTILES
(DE) LÖSEMITTELARME BESCHICHTUNGSSYSTEME FÜR TEXTILIEN
요약서:
(EN) The invention relates to a coating composition for elastic coating of textile materials, containing at least one immobilized, isocyanate-terminated prepolymer (component A), wherein the isocyanate-terminated prepolymer is produced from a polyol component a) and from an araliphatic isocyanate component b), and the end-positioned isocyanate groups are blocked with N-alkyl benzylamines and/or partially with N-alkyl benzylamines and partially with 3,5-dimethyl pyrazole, at least one polyamine (component B) and < 30 wt%, based on the total mass the of coating composition of at least one organic solvent. The invention further relates to a method for coating substrates with the coating composition according to the invention, to the substrate which can be obtained thereby, and to the use of the coating composition according to the invention for producing elastic coatings or elastic films.
(FR) La présente invention concerne une composition de revêtement pour un revêtement élastique de matériaux textiles, comprenant au moins un prépolymère terminé par un isocyanate bloqué (composant A), le prépolymère terminé par un isocyanate étant préparé à partir d'un composant polyol a) et d'un composant isocyanate araliphatique b), et les groupes isocyanate terminaux étant bloqués par des N-alkylbenzylamines et/ou partiellement par des N-alkylbenzylamines et partiellement avec du 3,5-diméthylpyrazole, au moins une polyamine (composant B) et < 30% en poids d'au moins un solvant organique, sur base de la masse totale de la composition de revêtement. L'objet de l'invention est également un procédé pour le revêtement de substrats avec la composition de revêtement selon l'invention, ainsi que le substrat ainsi obtenu, et l'utilisation de la composition de revêtement selon l'invention pour la préparation de revêtements élastiques ou de films élastiques.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschichtungszusammensetzung zur elastischen Beschichtung von textilen Materialien, enthaltend wenigstens ein blockiertes, isocyanatterminiertes-Prepolymer (Komponente A), wobei das isocyanatterminierte Prepolymer hergestellt wird aus einer Polyolkomponente a) und einer araliphatischen Isocyanatkomponente b), und die endständigen Isocyanatgruppen mit N-Alkyl-benzylaminen und/oder teilweise mit N-Alkyl-benzylaminen und teilweise mit 3,5-Dimethylpyrazol blockiert sind, wenigstens ein Polyamin (Komponente B) und < 30 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmasse der Beschichtungszusammensetzung wenigstens eines organischen Lösemittels. Weiterhin ist Gegenstand der Erfindung ein Verfahren zur Beschichtung von Substraten mit der erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzung, sowie das dabei erhältliche Substrat und auch die Verwendung der erfindungsgemäßen Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung von elastischen Beschichtungen oder elastischen Filmen.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 독일어 (DE)
출원언어: 독일어 (DE)