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1. (WO2018127257) FLAT FLEXIBLE SUPPORT PIECE FOR A DIELECTRICALLY IMPEDED PLASMA TREATMENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2018/127257 국제출원번호: PCT/DE2017/101097
공개일: 12.07.2018 국제출원일: 20.12.2017
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,A61N 1/44 (2006.01) ,A61L 2/14 (2006.01)
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
H
플라스마(Plasma) 기술; 가속된 하전입자 또는 중성자의 발생; 중성분자 또는 전자빔의 발생 또는 가속
1
플라스마의 생성; 플라스마 취급
24
플라스마의 발생
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
N
전기치료; 자기치료; 방사선치료; 초음파치료
1
전기치료; 그것을 위한 회로
44
이온화된 유체(ionized fluids)를 적용
A SECTION A — 생활필수품 농업
61
위생학; 의학 또는 수의학
L
재료 또는 물건을 살균하기 위한 방법 또는 장치 일반; 공기의 소독, 살균 또는 탈취; 붕대, 피복용품, 흡수성 패드 또는 수술용품의 화학적 사항; 붕대, 피복용품, 흡수성 패드, 또는 수술용 물품을 위한 재료
2
식료품 또는 콘택트렌즈 이외의 재료 또는 물건을 소독 또는 살균하기 위한 방법 또는 장치; 그를 위한 부속구
02
물리현상을 이용하는 것
14
플라스마, 즉. 이온화된 가스
출원인:
CINOGY GMBH [DE/DE]; Max-Näder-Straße 15 37115 Duderstadt, DE
발명자:
HAHNL, Mirko; DE
STORCK, Karl-Otto; DE
TRUTWIG, Leonhard; DE
WANDKE, Dirk; DE
대리인:
GRAMM, LINS & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Theodor-Heuss-Straße 1 38122 Braunschweig, DE
우선권 정보:
10 2017 100 161.105.01.2017DE
발명의 명칭: (DE) FLÄCHIGES FLEXIBLES AUFLAGESTÜCK FÜR EINE DIELEKTRISCH BEHINDERTE PLASMABEHANDLUNG
(EN) FLAT FLEXIBLE SUPPORT PIECE FOR A DIELECTRICALLY IMPEDED PLASMA TREATMENT
(FR) ÉLÉMENT D'APPUI SOUPLE PLAT POUR UN TRAITEMENT PAR PLASMA À BARRIÈRE DIÉLECTRIQUE
요약서:
(DE) Bei einem flächigen flexiblen Auflagestück mit einer mit einer Hochspannung versorgbaren Elektrodenanordnung für eine dielektrisch behinderte Plasmabehandlung einer zu behandelnden Oberfläche, wobei die Elektrodenanordnung wenigstens eine flächige Elektrode (3) und eine Auflagefläche für die zu behandelnde Oberfläche aufweisende Dielektrikumsschicht (2) aus einem flächigen flexiblen Material aufweist, die die wenigstens eine Elektrode (3) elektrisch von der zu behandelnden Oberfläche so abschirmt, dass nur ein dielektrisch behinderter Stromfluss zwischen der wenigstens einen Elektrode (3) und der zu behandelnden Oberfläche möglich ist, wenn in einem Gasraum zwischen der Elektrodenanordnung und der zu behandelnden Oberfläche ein Plasmafeld durch die Vorspannung der Elektrode (3) entsteht, wird eine vereinfachte Handhabung und erhöhte Sicherheit dadurch erreicht, dass das Auflagestück eine Hochspannungsstufe (14) zur Erzeugung einer Hochspannung aufweist, deren Ausgang mit der wenigstens einen Elektrode (3) durch ein Verbindungsstück (17, 17') auf dem Auflagestück verbunden ist.
(EN) In the case of a flat flexible support piece comprising an electrode arrangement, to which a high voltage can be supplied, for a dielectrically impeded plasma treatment of a surface to be treated, wherein the electrode arrangement has at least one flat electrode (3) and a dielectric layer (2) which has a support face for the surface to be treated and which is composed of flat flexible material and which electrically shields the at least one electrode (3) from the surface to be treated such that only a dielectrically impeded current flow between the at least one electrode (3) and the surface to be treated is possible when a plasma field is produced by the bias on the electrode (3) in a gas space between the electrode arrangement and the surface to be treated, simplified handling and increased safety are achieved in that the support piece has a high-voltage stage (14) for generating a high voltage, the output of said high-voltage stage being connected to the at least one electrode (3) by a connecting piece (17, 17') on the support piece.
(FR) L'invention concerne un élément d'appui souple plat muni d'un ensemble électrode pouvant être alimenté en haute tension pour effectuer un traitement par plasma à barrière diélectrique d'une surface à traiter, l'ensemble électrode présente au moins une électrode plate (3) et une surface d'appui consistant en un matériau souple plat pour la couche diélectrique (2) présentant la surface à traiter, qui protège électriquement ladite au moins une électrode (3) vis-à-vis de la surface à traiter, de sorte qu'il ne puisse y avoir qu'un flux de courant à barrière diélectrique entre la au moins une électrode (3) et la surface à traiter, lorsqu'un champ de plasma apparaît sous l'effet de la tension de polarisation de l'électrode (3) entre l'ensemble électrode et la surface à traiter. Une manipulation simplifiée et une sécurité renforcée sont obtenues du fait que l'élément d'appui présente un niveau de haute tension (14) pour produire une haute tension, dont la sortie est reliée à ladite au moins une électrode (3) par un élément de liaison (17, 17'), sur l'élément d'appui.
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아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 독일어 (DE)
출원언어: 독일어 (DE)