이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2018102021) SUPPORTS FOR SINTERING ADDITIVELY MANUFACTURED PARTS
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/102021 국제출원번호: PCT/US2017/054743
공개일: 07.06.2018 국제출원일: 02.10.2017
IPC:
B22F 3/105 (2006.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 30/00 (2015.01) ,B33Y 40/00 (2015.01)
B SECTION B — 처리조작; 운수
22
주조; 분말야금
F
금속 분말의 가공; 금속분말로부터 물품의 제조; 금속분말의 제조; 금속 분말에 적용되는 특수 장치 또는 장비
3
성형 또는 소결 방법에 특징이 있는 금속분말에서의 공작물 또는 물품의 제조; 특히 그것에 적합한 장치
10
소결에만 특징이 있는 것
105
전류, 레이저방사선 또는 플라스마 이용에 관한 것
[IPC code unknown for B33Y 10][IPC code unknown for B33Y 30][IPC code unknown for B33Y 40]
출원인:
MARKFORGED, INC. [US/US]; 85 School Street Watertown, MA 02472, US
발명자:
MARK, Gregory, Thomas; US
대리인:
NOE, Keith, F.; US
우선권 정보:
62/429,71102.12.2016US
62/430,90206.12.2016US
62/442,39504.01.2017US
62/480,33131.03.2017US
62/489,41024.04.2017US
62/505,08111.05.2017US
62/519,13813.06.2017US
발명의 명칭: (EN) SUPPORTS FOR SINTERING ADDITIVELY MANUFACTURED PARTS
(FR) SUPPORTS POUR FRITTAGE DE PIÈCES FABRIQUÉES PAR FABRICATION ADDITIVE
요약서:
(EN) To reduce distortion in an additively manufactured part, a shrinking platform is formed from a metal particulate filler in a debindable matrix. Shrinking supports of the same material are formed above the shrinking platform, and a desired part of the same material is formed upon them. A sliding release layer is provided below the shrinking platform of equal or larger surface area than a bottom of the shrinking platform to lateral resistance between the shrinking platform and an underlying surface. The matrix is debound sufficient to form a shape-retaining brown part assembly including the shrinking platform, shrinking supports, and the desired part. The shape-retaining brown part assembly is heated to shrink all of the components together at a same rate via atomic diffusion.
(FR) Pour réduire la distorsion dans une pièce fabriquée par fabrication additive, l'invention concerne une plate-forme de rétraction formée à partir d'une charge particulaire métallique dans une matrice pouvant être déliée. Des supports de rétraction du même matériau sont formés au-dessus de la plate-forme de rétraction, et une pièce souhaitée du même matériau est formée sur ceux-ci. Une couche de libération coulissante est disposée au-dessous de la plate-forme de rétraction avec une superficie supérieure ou égale à celle d'un fond de la plate-forme de rétraction pour une résistance latérale entre la plate-forme de rétraction et une surface sous-jacente. La matrice est déliée suffisamment pour former un ensemble pièce brune à maintien de forme comprenant la plate-forme de rétraction, des supports de rétraction et la pièce souhaitée. L'ensemble pièce brune à maintien de forme est chauffé pour rétrécir tous les composants ensemble à un même taux par diffusion atomique.
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)