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1. (WO2018067687) PASSIVE DEVICE FOR VAPOR INTRUSION SAMPLING
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/067687 국제출원번호: PCT/US2017/055115
공개일: 12.04.2018 국제출원일: 04.10.2017
IPC:
G01N 33/497 (2006.01) ,G01N 1/22 (2006.01) ,G01N 7/00 (2006.01) ,G01N 33/38 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
N
재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석
33
그룹 1/00 ~ 31/00에 포함 되지 않는 특유의 방법에 의한 재료의 조사 또는 분석
48
생물학적재료, 예. 혈액, 소변 혈구계
483
생물학적 재료의 물리적인 분석
497
가스 생물학적 재료, 예. 호흡
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
N
재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석
1
샘플링; 조사용 표본의 조제
02
시료를 꺼내기 위한 장치
22
기체상의 것
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
N
재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석
7
기체 또는 증기의 체적 또는 압력의 측정에 의한 재료분석
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
N
재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석
33
그룹 1/00 ~ 31/00에 포함 되지 않는 특유의 방법에 의한 재료의 조사 또는 분석
38
콘크리트; 석회; 몰타르(mortar); 석고(gypsum); 벽돌; 세라믹스; 유리
출원인:
CH2M HILL, INC. [US/US]; 9191 South Jamaica Street Englewood, Colorado 80112, US
발명자:
THOMPSON, Ben; US
NOVAK, Michael; US
NIEMET, Michael; US
대리인:
KANABER, Kerith; US
HATTENBCH, Brad J.; US
CORNELIO, Gina; US
CAPPS, R. Shane; US
IGNAT, Brian J.; US
MORRISON, Angela L.; US
HAEN, Shannon Lynch; US
RASMUSSEN, Michael; US
JONSEN, Matthew D.; US
GILLELAND, Justin; US
우선권 정보:
62/403,85704.10.2016US
발명의 명칭: (EN) PASSIVE DEVICE FOR VAPOR INTRUSION SAMPLING
(FR) DISPOSITIF PASSIF PERMETTANT UN ÉCHANTILLONNAGE D'INTRUSION DE VAPEUR
요약서:
(EN) Disclosed herein is a passive vapor intrusion measurement device including a barrier layer having first and second major sides; an absorbent stack disposed on a first portion of the surface of the barrier layer first major side, the absorbent stack including a first absorbent layer, an optional second absorbent layer; and spacer layer(s) disposed between the first and second (if present) absorbent layer and the barrier layer; and an adhesive disposed on a second portion of the surface of the barrier layer first major side and transversely surrounding the absorbent stack. The device is applied to a substrate in need of vapor intrusion sampling. A method of vapor intrusion analysis includes individually collecting the first and second (if present) absorbent layers after a test period; analyzing the amount of an analyte the absorbent layer(s); and subtracting the amount of the analyte in the second absorbent layer (if present) from the amount of the analyte in the first absorbent layer.
(FR) La présente invention concerne un dispositif passif de mesure d'intrusion de vapeur comprenant une couche barrière ayant des premier et second côtés principaux ; un empilement absorbant disposé sur une première partie de la surface du premier côté principal de la couche barrière, l'empilement absorbant comprenant une première couche absorbante, une seconde couche absorbante facultative ; et une ou plusieurs couches d'espacement disposées entre les première et seconde couches absorbantes (si elles sont présentes) et la couche barrière ; et un adhésif disposé sur une seconde partie de la surface du premier côté principal de la couche barrière et entourant transversalement l'empilement absorbant. Le dispositif est appliqué à un substrat ayant besoin d'un échantillonnage d'intrusion de vapeur. Un procédé d'analyse d'intrusion de vapeur consiste à collecter individuellement les première et seconde couches absorbantes (si elles sont présentes) après une période de test ; à analyser la quantité d'un analyte dans la ou les couches absorbantes ; et à soustraire la quantité d'analyte dans la seconde couche absorbante (si elle est présente) de la quantité d'analyte dans la première couche absorbante.
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공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)