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1. (WO2018042892) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/042892 국제출원번호: PCT/JP2017/025277
공개일: 08.03.2018 국제출원일: 11.07.2017
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 220/28 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
039
광축퇴 가능한 고분자화합물 예. 양화형 전자 레지스트
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
F
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
220
하나의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 불포화 지방족기를 갖고 그것의 적어도 하나가 카르복실기 또는 그의 염, 무수물, 에스테르, 아미드, 이미드 또는 니트릴로 종결되어 있는 화합물의 공중합체
02
.10개 미만의 탄소 원자를 함유하는 모노카르복실산; 그의 유도체
10
에스테르
26
카르복시 산소와 그 외의 산소를 함유하는 에스테르
28
알코올 부분에 방향족 고리를 함유하지 않은 것
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
출원인:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
발명자:
畠山 直也 HATAKEYAMA Naoya; JP
米久田 康智 YONEKUTA Yasunori; JP
福原 敏明 FUKUHARA Toshiaki; JP
冨賀 敬充 TOMIGA Takamitsu; JP
吉野 文博 YOSHINO Fumihiro; JP
대리인:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
우선권 정보:
2016-16831630.08.2016JP
2016-25013022.12.2016JP
발명의 명칭: (EN) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
요약서:
(EN) Provided are: an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which enables accurate performance evaluation of a resist pattern obtained from a thick resist film; an active light sensitive or radiation sensitive film; a pattern forming method; and a method for manufacturing an electronic device. This active light sensitive or radiation sensitive resin composition contains a resin that has a repeating unit having an alkyleneoxy chain and a repeating unit having an aromatic group, and has a solid content concentration of 10% by mass or more. This pattern forming method has (i) a step for forming an active light sensitive or radiation sensitive film having a film thickness of 1 μm or more on a substrate with use of an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which contains a resin that has a repeating unit having an alkyleneoxy chain.
(FR) L'invention concerne : une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement qui permet une évaluation de performance précise d'un motif de réserve obtenu à partir d'un film de réserve épais ; un film sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement ; un procédé de formation de motif ; et un procédé de fabrication d'un dispositif électronique. Cette composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement contient une résine qui contient une unité de répétition ayant une chaîne alkylèneoxy et une unité de répétition ayant un groupe aromatique, et qui a une concentration de contenu solide de 10 % en masse ou plus. Ce procédé de formation de motif a (i) une étape de formation d'un film sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement ayant une épaisseur de film de 1 µm ou plus sur un substrat à l'aide d'une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement qui contient une résine qui contient une unité de répétition ayant une chaîne alkylèneoxy.
(JA) 厚膜のレジスト膜から得られたレジストパターンの性能評価を正確に実施可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、アルキレンオキシ鎖を有する繰り返し単位と、芳香族基を有する繰り返し単位とを有する樹脂を含有し、固形分濃度が10質量%以上である。パターン形成方法は、(i)アルキレンオキシ鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって基板上に膜厚が1μm以上の感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程を有する。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)